贵金属络合物的制剂
1.本发明涉及贵金属络合物的制剂以及该制剂用于在基材上生产含贵金属层的用途。
2.wo90/07561 a1公开了形式为lm[o(co)r]2的铂络合物，其中l表示无氮环状聚烯烃配体，优选地环辛二烯(cod)或五甲基环戊二烯，m表示铂或铱，并且其中r表示苄基、芳基或具有四个或更多个碳原子的烷基，具体地优选地苯基。
[0003]
本发明的目标是寻找可以用于生产含贵金属层的制剂，具体地也是在温度敏感基材上。
[0004]
该目标可以通过相应地提供包含二烯烃和c6-c18单羧酸盐配体的钯、铑或铱的贵金属络合物的制剂来解决。更确切地，所提供的是含有以下物质或由以下物质组成的制剂：
[0005]
(a)30重量％至90重量％(重量百分比)的至少一种有机溶剂，
[0006]
(b)10重量％至70重量％的至少一种贵金属络合物，该贵金属络合物包括选自由以下组成的组的二烯烃和c6-c18单羧酸盐配体：[lpd[o(co)r1]x]n、[lrh[o(co)r1]]m和[lir[o(co)r1]]m类型的贵金属络合物，其中l表示作为二烯烃配体的化合物，其中x选自溴化物、氯化物、碘化物和-o(co)r2，其中-o(co)r1和-o(co)r2表示相同或不同的非芳族c6-c18单羧酸残基，在每种情况下优选地苯乙酸残基除外，并且其中n为≥1的整数，并且m为≥2的整数，以及
[0007]
(c)0重量％至10重量％的至少一种添加剂。
[0008]
本文使用的表述“作为二烯烃配体的化合物”是指这种化合物，在贵金属络合物中，其两个或两个烯属双键与一个贵金属中心原子形成络合物或与两个贵金属中心原子以桥接方式形成络合物。
[0009]
在多核贵金属络合物的情况下，数字n和m一般表示整数，例如在2至5的范围内。换句话说，整数n》1一般在2至5的范围内；n则具体地等于2，贵金属络合物则是双核钯络合物。整数m一般也在2至5的范围内；m具体地等于2，并且贵金属络合物是双核铑或铱络合物。
[0010]
在根据本发明的制剂中，组分(b)以溶解形式存在于组分(a)中。在根据本发明的制剂中存在任选组分(c)的情况下，此组分(c)优选地也以溶解形式存在于组分(a)中。换句话说，在没有任选组分(c)的情况下，根据本发明的制剂是有机溶液，更准确地，是真正的，即非胶体有机溶液；这同样适用于优选形式的任选组分(c)的存在，即在组分(a)中的溶解形式。
[0011]
根据本发明的制剂含有30重量％至90重量％的至少一种有机溶剂(a)。一种或多种有机溶剂可以选自多种常见的有机溶剂，因为贵金属络合物在此类有机溶剂中具有高至无限的溶解度。有利地，一种或多种有机溶剂在根据本发明的制剂的加工条件下基本上是挥发性的，这具体地适用于将根据本发明的制剂施用到基材上之后的阶段。一种或多种有机溶剂的沸点一般在50℃至200℃或更高的范围内，例如50℃至300℃。有机溶剂(a)的示例包括各自具有6至12个碳原子的脂族和环脂族；卤代烃，诸如二氯甲烷、三氯甲烷和四氯甲烷；芳香族化合物；芳脂族化合物，诸如甲苯或二甲苯；醇类，诸如乙醇、正丙醇和异丙醇；乙醚；乙二醇醚，诸如单c1-c4亚烷基二醇醚和二c1-c4亚烷基二醇醚，例如乙二醇单c1-c4亚
烷基醚、乙二醇二c1-c4亚烷基醚、二甘醇单c1-c4亚烷基醚、二甘醇二c1-c4亚烷基醚、丙二醇单c1-c4亚烷基醚、丙二醇二c1-c4亚烷基醚、二丙二醇单c1-c4亚烷基醚和二丙二醇二c1-c4亚烷基醚；具有2至12个碳原子的酯；和酮，诸如丙酮、甲乙酮、甲基异丁基酮和环己酮。芳脂族化合物，诸如甲苯或二甲苯，醇类，诸如乙醇、正丙醇和异丙醇，以及乙二醇醚，诸如单c1-c4亚烷基二醇醚和二c1-c4亚烷基醚，例如乙二醇单c1-c4亚烷基醚、乙二醇二c1-c4亚烷基醚、二甘醇单c1-c4亚烷基醚、二甘醇二c1-c4亚烷基醚、丙二醇单c1-c4亚烷基醚、丙二醇二c1-c4亚烷基醚、二丙二醇单-c1-c4亚烷基醚和二丙二醇二-c1-c4亚烷基醚。组分(a)或至少一种有机溶剂(a)相应地具体地优选地由至少一种醇，具体地以示例方式提及的至少一种醇和/或至少一种乙二醇醚，具体地以示例方式提及的至少一种乙二醇醚组成。具体地优选30至70重量份醇和100重量份乙二醇醚的对应混合物作为组分(a)。
[0012]
如已经提到的，根据本发明的制剂含有10重量％至70重量％的具有二烯烃和c6-c18单羧酸盐配体的至少一种贵金属络合物作为组分(b)，该贵金属络合物选自由以下组成的组的：[lpd[o(co)r1]x]n、[lrh[o(co)r1]]m和[lir[o(co)r1]]m类型的贵金属络合物，其中l表示作为二烯烃配体的化合物，其中x选自溴化物、氯化物、碘化物和-o(co)r2，其中-o(co)r1和-o(co)r2表示相同或不同的非芳族c6-c18单羧酸残基，在每种情况下优选地苯乙酸残基除外，并且其中n为≥1的整数，并且m为≥2的整数。
[0013]
源自至少一种移动金属络合物的根据本发明的制剂的贵金属含量可以在例如2.5重量％至25重量％的范围内。
[0014]
在[lpd[o(co)r1]x]类型的单核钯络合物的实施方案的情况下，l是在钯中心原子上作为二烯烃配体的化合物；x表示溴化物、氯化物、碘化物或-o(co)r2；和-o(co)r1和-o(co)r2表示相同或不同的非芳族c6-c18单羧酸残基，在每种情况下优选地苯乙酸残基除外。这里n等于1。
[0015]
在[lpd[o(co)r1]x]n类型的双核或多核钯络合物的优选实施方案的情况下，l表示作为二烯烃配体的化合物；x表示溴化物、氯化物、碘化物或-o(co)r2；n表示2、3、4或5，优选地2；和-o(co)r1和-o(co)r2表示相同或不同的非芳族c6-c18单羧酸残基，在每种情况下优选地苯乙酸残基除外。
[0016]
在[lrh[o(co)r1]]m或[lir[o(co)r1]]m类型的双核或多核贵金属络合物的优选实施方案的情况下，l相应地表示作为二烯烃配体的化合物；m表示2、3、4或5，优选地2；和-o(co)r1表示非芳族c6-c18单羧酸残基，优选地苯乙酸残基除外。
[0017]
然而，所述贵金属络合物也可以单独存在于根据本发明的制剂中，但也可以以缔合形式存在，因此单独存在或作为几种不同物质的混合物存在。因此，钯络合物可以以单独或以缔合的形式存在于根据本发明的制剂中，因此单独或作为几种不同物质的混合物，在每种情况下为[lpd[o(co)r1]x]n类型。铑络合物也可以单独或以缔合形式存在于本发明的制剂中，因此单独或作为几种不同类型的混合物存在，在每种情况下为[lrh[o(co)r1]]m类型。同样，铱络合物也可以单独或以缔合形式存在于本发明的制剂中，因此单独或作为几种不同物质的混合物，在每种情况下为[lir[o(co)r1]]m类型。换句话说，组分(b)可以包括[lpd[o(co)r1]x]n类型和/或[lrh[o(co)r1]]m类型和/或[lir[o(co)r1]]m类型的化合物；因此，组分(b)可以包括本文公开的仅一种类型、两种类型或所有三种类型的化合物，其中相应的类型可以以仅一种单独形式(个体化)或超过一种单独形式(缔合)表示。在该上下文
中使用的术语“个体形式”相应地是指具有具体索引n或m的公式类型；例如，[lrh[o(co)r1]]2是一般[lrh[o(co)r1]]m类型的个体形式，其中m＝2。
[0018]
根据本发明的组合物还可以包括[lpt[o(co)r1]x]n类型的铂化合物。在此类铂络合物中，n具有与[lpd[o(co)r1]x]n类型的钯络合物相同的含义。此类铂化合物公开在申请号为pct/ep2020/068465的pct申请中。
[0019]
能够作为二烯烃配体的二烯烃或l型化合物的示例相应地包括烃，诸如cod(1.5-环辛二烯)、nbd(降冰片二烯)、cot(环辛四烯)和1.5-己二烯，具体地cod和nbd。它们优选地是纯烃；然而，杂原子的存在也是可能的，例如也呈官能团的形式。
[0020]
x可以表示溴化物、氯化物、碘化物或-o(co)r2，它优选地表示氯化物或-o(co)r2，具体地-o(co)r2。
[0021]
相应的非芳族单羧酸残基-o(co)r1和-o(co)r2表示相同或不同的非芳族c6-c18单羧酸残基，在每种情况下优选地苯乙酸残基除外。在该上下文中使用的术语“非芳族”排除纯芳族单羧酸残基，但不排除其羧基官能团键合到脂族碳的脂族单羧酸残基。-o(co)r1以及-o(co)r2优选地不表示苯乙酸残基。-o(co)r1和-o(co)r2优选地表示相同的非芳族c6-c18-单羧酸残基，但因此优选地没有苯乙酸残基。在非芳族c6-c18单羧酸残基中，优选具有8至18个碳原子的单羧酸残基，即非芳族c8-c18单羧酸残基。
[0022]
具有-o(co)r1或-o(co)r2残基的非芳族c6-c18或优选的c8-c18单羧酸的示例相应地包括有包括正己酸的异构己酸、包括正庚酸的异构庚酸、包括正辛酸和2-乙基己酸的异构辛酸、包括正壬酸的异构壬酸和包括正癸酸的异构癸酸，仅举几个示例。不仅捕获线性表示，还捕获具有支链和/或环状结构的表示，诸如例如，2-乙基己酸、环己烷羧酸和新癸酸。在每种情况下与羧基结合的残基r1和r2相应地包含5至17个或7至17个碳原子；因此在每种情况下优选地排除苄基残基。
[0023]
钯络合物的优选示例包括[(cod)pd[o(co)r1]2]n和[(nbd)pd[o(co)r1]2]n，其中n等于1或2，具体地等于1，并且其中r1代表非芳族c5-c17烃残基，在每种情况下优选地苄基除外。
[0024]
铑络合物的优选示例包括[(cod)rh[o(co)r1]]m和[(nbd)rh[o(co)r1]]m，其中m等于2，并且其中r1代表非芳族c5-c17烃残基，在每种情况下优选地苄基除外。
[0025]
铱络合物的优选示例包括[(cod)ir[o(co)r1]]m和[(nbd)ir[o(co)r1]]m，其中m等于2，并且其中r1代表非芳族c5-c17烃残基，在每种情况下优选地苄基除外。
[0026]
贵金属络合物可以借助于配体交换以简单的方式生产，具体地不使用银的羧酸盐。生产过程相应地包括两相系统的混合或悬浮或乳化。因此，一个相相应地包括lpdx2或[lrhx]2或[lirx]2类型的原料，其中x在每种情况下选自溴化物、氯化物和碘化物，优选地氯化物，原样或优选地呈此类原料的至少基本上不与水混溶的有机溶液的形式。除了芳族化合物和氯代烃，诸如甲苯、二甲苯、二氯甲烷、三氯甲烷和四氯甲烷之外，适用于生产此类类型有机溶液并且至少基本上不与水混溶的有机溶剂的示例还包括氧化溶剂，例如对应的不与水混溶的酮、酯和醚。相比之下，另一个相包括例如r1cooh类型的c6-c18单羧酸的碱性盐(具体地钠盐或钾盐)和/或镁盐的水溶液，以及任选地另外地r2cooh类型。一种或多种单羧酸盐的类型选择取决于要生产的贵金属络合物的类型或要生产的贵金属络合物的缔合。通过形成悬浮液或乳液，例如借助于摇动和/或搅拌，将两相充分混合。为了保持悬浮或乳液
状态，混合进行例如0.5小时至24小时，例如在20℃至50℃的温度范围内。因此发生配体交换，其中形成的贵金属络合物溶解在有机相中，而同样形成的碱金属x盐或mgx2盐溶解在水相中。悬浮或乳化完成后，将有机相和水相彼此分离。所形成的一种或多种贵金属络合物可以从有机相中获得，并且可以任选地随后借助于常规方法纯化。
[0027]
仅举一个具体的示例，(cod)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]2因此可以例如借助于(cod)pdcl2在二氯甲烷中的溶液与2-乙基己酸钠水溶液的常规乳化来生产。乳化结束后，借助于配体交换形成的含氯化钠的溶液可以从二氯甲烷相中分离出来，从后者中可以分离出(cod)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]2，并且可以任选地借助于常规的纯化方法纯化。例如，在对应选择的化学计量的情况下，钯络合物(cod)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]cl也可以类似地生产。
[0028]
除了上述在常规有机溶剂中的溶解性之外，组分(b)的一种或多种贵金属络合物的相对低的分解温度，例如已经开始于150℃至250℃，通常不高于200℃，是一个重要的特性。此性能组合使得有可能使用此类贵金属络合物作为根据本发明的制剂的组分(b)，用于在基材上生产含贵金属的层；在此类用途的情况下，根据本发明的制剂表示涂层剂，即然后它被生产并且可用作覆盖剂。
[0029]
根据本发明的制剂含有0重量％至10重量％，优选地0重量％至3重量％的至少一种添加剂(c)。因此，根据本发明的制剂可以不含添加剂或可以含有高达10重量％的至少一种添加剂。添加剂的示例包括润湿添加剂、流变添加剂、消泡剂、脱气剂、影响表面张力的添加剂和气味剂。
[0030]
根据本发明的制剂可以借助于简单混合组分(a)、(b)和如果期望的话(c)来生产。因此，专家选择组分的比例，以适应相应的预期目的和/或因此使用的施用方法。
[0031]
根据本发明的制剂可以用于在基材上，具体地在温度敏感的基材上生产含贵金属的层。因此，根据本发明的制剂首先可以用于生产覆盖层(涂层)，其随后可以经受热分解。当使用根据本发明的基于[lpd[o(co)r1]x]n类型的钯络合物的制剂时，即使在空气作为周围气氛存在下，响应热分解也形成基本上呈金属钯层的形式；相比之下，当相应地使用基于[lrh[o(co)r1]]n类型的铑络合物或基于[lir[o(co)r1]]n类型的铱络合物的本发明制剂时，响应于热分解，在作为环境气氛的空气存在下，形成基本上对应的贵金属氧化物层或甚至不含对应金属贵金属的贵金属氧化物层。在这方面，专家将本文中使用的表述“含贵金属的层”理解为基本上或甚至仅包含金属钯或由其组成的层，基本上或甚至仅包含氧化铑或由其组成的层或基本上或甚至仅包含氧化铱或由其组成的层，简而言之，包含金属钯、氧化铑或氧化铱或由其组成的层。尽管根据本发明，根据本发明可以在基材上获得的钯层可以显示出专家可以预料到的性能，但是可以在基材上获得并且相应地包含基本上氧化铑或基本上氧化铱的层或相应地配备有该层的基材表面可以具有令人感兴趣的电性能。
[0032]
如果根据本发明的制剂包含两种或几种本文公开的作为组分(b)的贵金属络合物类型的组合，任选地另外地与一种或几种上述[lpt[o(co)r1]x]n类型的铂络合物组合或本文公开的作为组分(b)的贵金属络合物类型与一种或几种上述[lpt[o(co)r1]x]n类型的铂络合物的组合，包含超过一种贵金属的层也可以几乎同时在基材上生产。金属钯、氧化铑、氧化铱以及任选地还捕获的金属铂在相应层中的比例因此可以经由根据本发明的制剂中贵金属络合物的相应比例以非常简单的方式可变地设定，该制剂用于生产相应层。具体地，可以在基材上生成包含超过一种贵金属的以下类型层：
[0033]-包含金属钯和金属铂的层，例如呈铂/钯合金的形式，
[0034]-包含金属钯和氧化铑的层，
[0035]-包含金属钯和氧化铱的层，
[0036]-包含金属钯、氧化铑和氧化铱的层，
[0037]-包含金属铂和氧化铑的层，
[0038]-包含金属铂和氧化铱的层，
[0039]-包含金属铂、氧化铑和氧化铱的层，
[0040]-包含金属钯、金属铂和氧化铑的层，
[0041]-包含金属钯、金属铂和氧化铱的层，
[0042]-包含金属钯、金属铂、氧化铑和氧化铱的层，
[0043]-包含氧化铑和氧化铱的层，不含金属钯和金属铂。
[0044]
响应于热处理，涂层如上所述分解，形成含贵金属的层，即涂层最终转移到含贵金属的层中。因此，本发明还涉及一种用于在基材上生产含贵金属层的方法，该方法包括以下步骤：
[0045]
(1)将根据本发明的制剂的覆盖层施用到基材，以及
[0046]
(2)通过形成所述含贵金属层来热分解所述覆盖层。
[0047]
将在步骤(1)中设置有覆盖层的基材可以是包含多种材料的基材。因此，基材可以仅包含一种或几种材料。材料的示例尤其包括：玻璃；碳化物基材，诸如例如碳化钛、碳化钼、碳化钨、碳化硅；氮化物基材，诸如例如氮化铝、氮化钛、氮化硅；硼化物基材，诸如例如硼化钛、硼化锆；陶瓷基材，包括基于氧化陶瓷的那些和通常在多相催化剂中作为催化剂载体的那些；半导体基材，诸如例如硅基材；金属；塑料；天然来源的改性或未改性聚合物；碳基材；木头；纸板和纸。基材可以在内表面和/或外表面上和/或在内表面和/或外表面部分上设置有涂层。
[0048]
在根据步骤(1)生产涂层的情况下，也可以使用本身已知的施用方法。
[0049]
第一种施用方法是浸渍。因此，将要设置有覆盖层的基材或最终将要设置有含贵金属层的基材相应地浸入根据本发明的制剂中并且从中取出。在浸渍期间组分(a)的百分比优选地在根据本发明的制剂的30重量％至90重量％的范围内，并且组分(b)的百分比在10重量％至70重量％的范围内。
[0050]
第二种施用方法是喷涂施用。因此，通过使用常规的喷涂工具，将要设置有涂层的基材或最终将要设置有含贵金属层的基材相应地用根据本发明的制剂喷涂。喷涂工具的示例有气动喷枪、无气喷枪、旋转雾化器等。在喷涂施用期间组分(a)的百分比优选地在根据本发明的制剂的50重量％至90重量％的范围内，并且组分(b)的百分比在10重量％至50重量％的范围内。
[0051]
第三种施用方法是印刷。因此，将要设置有覆盖层的基材或最终将要设置有含贵金属层的基材相应地压印上根据本发明的制剂。因此，优选的印刷方法是喷墨印刷；根据本发明的制剂在此表示呈油墨形式的覆盖剂。进一步优选的印刷方法是丝网印刷。在印刷期间组分(a)的百分比优选地在根据本发明的制剂的50重量％至90重量％的范围内，并且组分(b)的百分比在10重量％至50重量％的范围内。
[0052]
第四种施用方法是借助于用根据本发明的制剂浸泡的施用工具(例如油漆刷、刷
子、毛毡或布)进行施用。因此，施用工具根据本发明的制剂相应地转移到将要设置有涂层的基材或最终将要设置有含贵金属层的基材上。在此类施用技术的情况下，组分(a)的百分比优选地在根据本发明的制剂的30重量％至90重量％的范围内，并且组分(b)的百分比在10重量％至70重量％的范围内。
[0053]
可以首先干燥来自根据本发明的制剂并且包含至少一种组分(b)的所施用的覆盖层，并且从而可以部分或完全不含有机溶剂(a)，然后该覆盖层或干燥的残余物相应地通过形成含贵金属的层而经受热分解。
[0054]
为了热分解的目标而发生的热处理包括加热到高于至少一种贵金属络合物(b)的分解温度的目标温度。在存在几种不同的贵金属络合物(b)的情况下，专家将选择高于具有最高分解温度的类型(b)的贵金属络合物的分解温度的目标温度。例如，为此目标，加热到高于分解温度的目标温度一般短暂发生，例如1分钟至30分钟，加热到》150℃至200℃或》150℃至250℃或更高的范围内的目标温度，例如高达1000℃。加热具体地可以在炉中和/或借助于红外辐射发生。一般来说，选择略高于相应分解温度的目标温度。一般来说，加热，更准确地，保持目标温度，不超过15分钟。
[0055]
有利的是，具体地当使用基于[lpd[o(co)r1]x]n类型的钯络合物的根据本发明的制剂的实施方案时，不必使用含有胶体钯或纳米钯的制剂，从而可以避免与之相关联的可能风险。
[0056]
在上述第二种和第三种施用方法的情况下，施用工具的堵塞，更准确地，喷涂施用工具或喷墨喷嘴的细孔或喷嘴的堵塞，相应地可以通过使用根据本发明的制剂来避免；最后，例如胶体钯或纳米钯开始变干或聚集的问题，在这里不出现。
[0057]
可以根据本发明获得的钯层的特征在于与镜子相当的高金属光泽，条件是用具有光滑表面的基材进行加工，该基材不太粗糙；钯层因此在光滑、非粒状外表面方面是均匀的。
[0058]
可以根据本发明获得的含贵金属层的厚度可以在例如50nm至5μm的范围内，并且含贵金属层可以是平坦的，在表面区域内具有或不具有期望的中断或可以具有期望的图案或设计。从上述基材的示例可以看出，含贵金属的层甚至可以在温度敏感的基材上生成，即例如在200℃以上温度不稳定的基材上生成；例如，这些可以是温度敏感的聚合物基材，例如基于聚烯烃或聚酯的那些。
实施例
[0059]
实施例1(配备有钯层的聚酰亚胺膜)：
[0060]
搅拌35mmol(cod)pdcl2在200ml二氯甲烷中的溶液，并且加入140mmol2-乙基己酸钠在150ml水中的溶液。借助于强烈搅拌，将两相混合物在20℃下乳化24小时。二氯甲烷相因此变黄。
[0061]
分离二氯甲烷相，并且蒸馏出溶剂。将粘稠的黄色残余物溶于石油醚(40-60)中，将溶液干燥并且用硫酸镁过滤。然后将石油醚完全蒸馏掉。剩下的是(cod)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]2的粘性黄色残余物。
[0062]
将5g黄色残余物溶解在5.60g溶剂混合物(50重量％的乙醇，50重量％的丙二醇单丙醚)中。借助于喷枪将此溶液喷涂到膜(聚酰亚胺)上。涂膜在实验室炉中被加热
到200℃的目标温度，并且在此温度下保持5分钟。在膜上形成了钯的光泽导电层。
[0063]
实施例2(配备有图案化钯层的聚酰亚胺膜)
[0064]
在1270dpi分辨率的喷墨打印机的帮助下，在膜上以曲折设计压印来自实施例1的溶液。以此方式压印的膜在实验室炉中被加热到200℃的目标温度，并且在此温度下保持5分钟。在膜上形成了钯的光泽导电层，该光泽导电层呈曲折设计的形式，导体路径的宽度为2.5mm。
[0065]
实施例3(配备有钯层的聚酰亚胺膜)：
[0066]
完全类似地重复实施例1，唯一的不同是使用(nbd)pdcl2代替(cod)pdcl2，从而作为合成的结果，获得(nbd)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]2的黄色残余物和最终的聚酰亚胺膜，其设置有钯层并且对应于实施例1中获得的涂布膜。
[0067]
实施例4(配备有图案化钯层的聚酰亚胺膜)：
[0068]
完全类似地重复实施例2，唯一的不同是使用(nbd)pdcl2代替(cod)pdcl2，从而作为合成的结果，获得(nbd)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]2的黄色残余物和最终的聚酰亚胺膜，其设置有图案化钯层并且对应于实施例2中获得的膜，其设置有图案化钯层。
[0069]
实施例5(配备有氧化铑层的聚酰亚胺膜)：
[0070]
搅拌16.3mmol[(cod)rhcl]2在200ml二氯甲烷中的溶液，并且加入65.3mmol2-乙基己酸钠在100ml水中的溶液。通过强烈搅拌，将两相混合物在20℃下乳化24小时。二氯甲烷相因此变黄。
[0071]
分离二氯甲烷相，并且蒸馏出溶剂。将粘稠的黄色残余物溶于石油醚(40-60)中，将溶液干燥并且用硫酸镁过滤。然后将石油醚完全蒸馏掉。
[0072]
剩下的是
[0073]
(cod)pd[o(co)ch(c2h5)c4h9]]m的粘性黄色残余物。
[0074]
将5g黄色残余物溶解在5g石油醚中。借助于喷枪将此溶液喷涂到膜上。涂膜在实验室炉中被加热到250℃的目标温度，并且在此温度下保持3分钟。在膜上形成了基本上为氧化铑的无光泽层。
[0075]
实施例6(配备有图案化氧化铑层的聚酰亚胺膜)：
[0076]
在1270dpi分辨率的喷墨打印机的帮助下，在膜上以曲折设计压印来自实施例5的溶液。以此方式压印的膜在实验室炉中被加热到250℃的目标温度，并且在此温度下保持5分钟。在膜上形成了基本上为氧化铑的无光泽层，该无光泽层呈曲折设计的形式，导体路径的宽度为2.5mm。
[0077]
实施例7(配备有氧化铑层的聚酰亚胺膜)：
[0078]
完全类似地重复实施例5，唯一的不同是使用[(nbd)rhcl]2代替[(cod)rhcl]2，从而作为合成的结果，获得了[(nbd)rh[o(co)ch(c2h5)c4h9]]m的黄色残余物和最终的聚酰亚胺膜，其设置有基本上为氧化铑的无光泽层并且对应于实施例5中获得的涂布膜。
[0079]
实施例8(配备有图案化氧化铑层的聚酰亚胺膜)：
[0080]
完全类似地重复实施例6，唯一的不同是使用[(nbd)rhcl]2代替[(cod)rhcl]2，从而作为合成的结果，获得了[(nbd)rh[o(co)ch(c2h5)c4h9]]m的黄色残余物和最终的聚酰亚胺膜，其设置有基本上氧化铑的图案化层并且对应于实施例6中获得的膜，其设置有基本上
氧化铑的图案化层。
[0081]
实施例9(配备有氧化铑层的聚酰亚胺膜)：
[0082]
搅拌16.3mmol[(cod)ircl]2在200ml二氯甲烷中的溶液，并且加入65.3mmol新癸酸钠在100ml水中的溶液。通过强烈搅拌，将两相混合物在20℃下乳化24小时。二氯甲烷相因此变黄。
[0083]
分离二氯甲烷相，并且蒸馏出溶剂。将粘稠的黄色残余物溶于石油醚(40-60)中，将溶液干燥并且用硫酸镁过滤。然后完全蒸馏出石油醚。剩下的是[(cod)rh[o(co)(ch2)5c(ch3)3]]m的粘稠的黄色残余物。
[0084]
将5g黄色残余物溶解在5g石油醚中。借助于喷枪将此溶液喷涂到膜上。涂膜在实验室炉中被加热到250℃的目标温度，并且在此温度下保持3分钟。在膜上形成了基本上为氧化铱的无光泽层。
[0085]
实施例10(配备有图案化氧化铱层的聚酰亚胺膜)：
[0086]
在1270dpi分辨率的喷墨打印机的帮助下，在膜上以曲折设计压印来自实施例9的溶液。以此方式压印的膜在实验室炉中被加热到250℃的目标温度，并且在此温度下保持5分钟。在膜上形成了基本上为氧化铱的无光泽层，该无光泽层呈曲折设计的形式，导体路径的宽度为2.5mm。