技术特征：
1.一种不粘涂层，其特征在于，不粘涂层包括以下依次连接的涂层：与基体连接的钛层、钛硅层、钛硅铜铁锌层；所述钛硅层中硅的含量为0.1～20at.％，其余为钛；所述钛硅铜铁锌层中铜的含量为0.1～5at.％，铁的含量为0.1～5at.％，硅的含量为0.1～5at.％，锌的含量为0.1～5at.％，其余为钛。2.根据权利要求1所述不粘涂层，其特征在于，所述钛硅层中硅的含量为1～10at.％，其余为钛。3.根据权利要求1所述不粘涂层，其特征在于，所述钛硅铜铁锌层中铜的含量为0.5～5at.％，铁的含量为0.5～5at.％，硅的含量为0.5～3.0at.％，锌的含量为1.0～5.0at.％，其余为钛。4.根据权利要求1所述不粘涂层，其特征在于，所述钛硅层中硅的含量为3～3.5at.％，其余为钛。5.根据权利要求1所述不粘涂层，其特征在于，所述钛硅铜铁锌层中铜的含量为3～3.5at.％，铁的含量为1.5～2.0at.％，硅的含量为2.5～3.0at.％，锌的含量为2～2.5at.％，其余为钛。6.根据权利要求1～5任一项所述不粘涂层在不粘锅中的应用。7.一种多钛基层不粘锅，其特征在于，所述多钛基层不粘锅内表面沉积权利要求1～5任一项所述不粘涂层。8.根据权利要求7所述多钛基层不粘锅的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：s1.将金属锅依次进行毛化处理，使其表面粗糙度达到0.1～6.4μm，再依次进行清洗、吹干、检验；s2.将检验后的金属锅进行氩离子刻蚀清洗和pvd沉积，pvd沉积依次沉积钛层、钛硅层、钛硅铜铁锌层得到多钛基层不粘锅。9.根据权利要求8所述制备方法，其特征在于，步骤s2.中，所述氩离子刻蚀清洗的条件为：当pvd炉的真空室的本底真空度为小于1
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pa时，通入氩气并控制流量在100～1000sccm，气压为0.2～10.0pa，金属锅温度为350～450℃，负偏压-200～-800v，离子清洗时间为10～60min。10.根据权利要求8所述制备方法，其特征在于，步骤s2.中，pvd沉积的参数为：靶材电流均为60～160a，沉积偏压为-40～-130v，沉积温度300～600℃，氩气压力为3.0～4.8pa。
技术总结
本发明公开了一种不粘涂层及其应用和制备方法。所述不粘涂层包括以下依次连接的涂层：与基体连接的钛层、钛硅层、钛硅铜铁锌层；所述钛硅层中硅的含量为0.1～20at.％，其余为钛；所述钛硅铜铁锌层中铜的含量为0.1～5at.％，铁的含量为0.1～5at.％，硅的含量为0.1～5at.％，锌的含量为0.1～5at.％，其余为钛。将其应用于不粘锅中制得多钛基层不粘锅，所述多钛基层不粘锅具有较好的耐腐蚀性、耐磨损性，有效解决了现有技术中钛合金复合锅耐腐蚀性和耐磨损性能不高的问题。本发明提供的多钛基层不粘锅具有良好的不粘性能且同时具有抗菌功效。有效解决了现有技术中不粘锅耐腐蚀性和耐磨损性不高的问题。性和耐磨损性不高的问题。性和耐磨损性不高的问题。
技术研发人员：陈汪林 陈兆祥 胡特 肖辉
受保护的技术使用者：广东工业大学
技术研发日：2022.05.05
技术公布日：2022/8/8