技术特征：
1.一种用于将气体分配到反应室的气体分配组件，包括：包括外表面和顶表面的排气管；包括边缘的簇射极板，其中边缘包括外表面和底表面，并且其中边缘的底表面邻近排气管的顶表面；以及五个或更多个定位装置，其连接到邻近边缘外表面的排气管，其中，定位装置配置成减少簇射极板和排气管之间的不对准。2.根据权利要求1所述的气体分配组件，包括五至八个定位装置，所述定位装置围绕所述排气管大致均匀地间隔开。3.根据权利要求1所述的气体分配组件，包括八个定位装置，所述定位装置围绕所述排气管大致均匀地间隔开。4.根据权利要求1所述的气体分配组件，其中，所述定位装置连接到所述排气管的顶表面。5.根据权利要求1所述的气体分配组件，其中，当所述气体分配组件处于标准温度和压力下时，所述簇射极板和排气管之间的偏心距为0.73+/-0.46。6.根据权利要求1所述的气体分配组件，其中，当所述气体分配组件处于处理温度和压力下时，所述簇射极板和排气管之间的偏心距为0.18+/-0.46。7.一种用于将气体分配到反应室的气体分配组件，包括：包括外表面和顶表面的排气管；包括边缘的簇射极板，其中边缘包括外表面和底表面，并且其中边缘的底表面邻近排气管的顶表面；以及一个或多个定位装置，其中每个定位装置包括止动件和附接装置，其中，一个或多个定位装置连接到邻近边缘外表面的排气管的外表面，其中，一个或多个定位装置配置成减少簇射极板和排气管之间的不对准。8.根据权利要求7所述的气体分配组件，其中，所述排气管的外表面包括外周和缝隙，其中，缝隙的表面比外周更靠近所述边缘的外表面，并且其中，所述止动件通过所述附接装置附接到缝隙的表面。9.根据权利要求7所述的气体分配组件，其中，所述止动件包括矩形横截面，并且其中，所述附接装置是螺钉。10.根据权利要求7所述的气体分配组件，包括两个或更多个定位装置，所述定位装置围绕所述排气管大致均匀地间隔开。11.根据权利要求7所述的气体分配组件，包括八个定位装置，所述定位装置围绕所述排气管大致均匀地间隔开。12.根据权利要求7所述的气体分配组件，其中，当所述气体分配组件处于标准温度和压力下时，所述簇射极板和排气管之间的偏心距为0.79+/-0.05。13.根据权利要求7所述的气体分配组件，其中，当所述气体分配组件处于处理温度和压力下时，所述簇射极板和排气管之间的偏心距为0.07+/-0.05。14.一种促进气体分配组件中的簇射极板和排气管之间对准的方法，该方法包括：提供包括外表面和顶表面的排气管；提供包括边缘的簇射极板，其中边缘包括外表面和底表面，并且其中边缘的底表面邻
近排气管的顶表面；以及将一个或多个定位装置附接到邻近边缘外表面的排气管的外表面，其中一个或多个定位装置包括止动件和附接装置；其中，附接一个或多个定位装置促进簇射极板和排气管之间的对准。15.根据权利要求14所述的方法，其中，附接所述一个或多个定位装置包括将两个或更多个定位装置以大致均匀的间隔附接到所述排气管中。16.根据权利要求14所述的方法，其中，附接所述一个或多个定位装置包括将八个定位装置以大致均匀的间隔附接到所述排气管中。17.根据权利要求14所述的方法，其中，所述排气管的外表面包括外周和缝隙，其中，缝隙的表面比外周更靠近所述边缘的外表面，并且其中，附接所述一个或多个定位装置包括将一个或多个定位装置附接到缝隙的表面。18.根据权利要求14所述的方法，其中，所述止动件包括矩形横截面。19.根据权利要求14所述的方法，其中，所述附接装置是螺钉。20.根据权利要求14所述的方法，还包括通过拧紧或松开所述附接装置来调整所述定位装置。
技术总结
公开了用于减小簇射极板和排气管之间的偏心距的气体分配组件和方法。气体分配组件包括定位装置，该定位装置配置成减少簇射极板和排气管之间的不对准。气体分配组件和方法可用于提高膜沉积厚度的均匀性。于提高膜沉积厚度的均匀性。于提高膜沉积厚度的均匀性。
技术研发人员：W.C.廖 V.H.B.G.巴宾
受保护的技术使用者：ASMIP私人控股有限公司
技术研发日：2022.09.01
技术公布日：2023/3/3