技术特征：
1.一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于，包括以下步骤：s01：五氧化三钛原料的制备：称料：按照相应质量比称取一定量的钛粉以及二氧化钛粉，并置于搅拌装置进行充分融合；混合料烧结：将混合料置于烘干设备内进行加热，支制成烧结料；五氧化三钛结晶：将烧结料置于坩埚中转移高温下降炉内分三道工序分别制成五氧化三钛、五氧化三钛预设晶体颗粒、五氧化三钛晶体；冷等静压成型：将五氧化三钛晶体放置于特定模具中，制备成特定的形状；s02：基材的选择：用途选择：所选基材根据实际使用场景做特定选择；s03：离子轰击：将特定形状的五氧化三钛晶体与基材置于真空镀膜机，把五氧化三钛晶体作为靶材在特定设置下进行离子轰击，使其蒸发沉降在基材表面，形成镀膜。2.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于：所述步骤s01中称料部分钛粉与二氧化钛粉的质量比为1:6-8。3.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于：所述步骤s01中混合料烧结的烘干设备设定温度在100-280℃。4.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于：所述步骤s01中五氧化三钛过程设定参数为常温至1050℃，升温速率在5-8℃/min，真空度保持在10-3-10-4
pa下，五氧化三钛预设晶体颗粒设定参数在1050-1130℃，升温速率在2-3℃/min，当温度达到1130℃时，采用0.3l/min-0.6l/min流量冲入惰性气体，五氧化三钛晶体设定参数在在五氧化三钛预设晶体颗粒设定参数下保温2-3h，使原料融化晶体产生。5.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于：所述步骤s01中冷等静压成型的形状为棒状。6.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于：所述步骤s02中基材为sio、sio2、al2o3、mgo、tio2、mgf2、y2o3、gd2o3。7.根据权利要求1所述的一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，其特征在于：所述步骤s03中离子轰击参数设定为束斑功率20kw/cm2，温度5500-6000℃。
技术总结
本发明公开了一种光学镀膜用提高五氧化三钛原料与基料结合度的方法，包括以下步骤：五氧化三钛原料的制备、基材的选择、以及离子的轰击结合；优点是：本发明通过将五氧化三钛均匀制作成棒状，避免了晶体颗粒在离子光束轰击下蒸发，迅即膨胀喷发出来，结果导致灰尘四溅，充满真空室，部分喷射到基材表面后被静电吸附，污染了基材表面，影响了镀膜质量及其牢固度的问题。固度的问题。
技术研发人员：崔云 范霄霄
受保护的技术使用者：盛唐光电（宿迁）有限公司
技术研发日：2022.10.28
技术公布日：2023/2/3