1.一种基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤s1的将监控片安装到产品转盘上，包括：
3.根据权利要求2所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤s3包括：
4.根据权利要求3所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述根据所述光谱能量获取多组旋转角度与光谱能量对应的采样光谱数据并绘制圆周光谱曲线，包括：
5.根据权利要求1所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤s6包括：
6.根据权利要求3所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述s5的根据所述角度位置触发光谱仪实时采集监控片的光谱能量数据，依据所述光谱能量数据实时拟合出当前膜层的真实厚度，包括：
7.根据权利要求6所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，采用随机搜索方法并根据所述实时透射率对所述估计物理厚度进行修正获得当前膜层已镀膜的真实物理厚度，包括：
8.根据权利要求7所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述利用所述厚度更新值及所述第一透射率差值和第二透射率差值更新所述估计物理厚度得到真实物理厚度，包括：
9.根据权利要求7所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，还包括：设置随机搜索方法的厚度寻优范围、更新迭代步长及其更新系数、以及最大迭代次数；
10.根据权利要求7所述的基于宽光谱监控的镀膜工艺方法，其特征在于，所述步骤s5的根据所述真实厚度计算换层判停时间，并触发换层判停逻辑进行换层，包括：