一种多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备。


背景技术：

2.目前，卷对卷真空镀膜设备不论是加热蒸发镀膜还是磁控溅射镀膜，一般采用单镀膜辊、单镀膜源的镀膜方式。如电阻加热蒸发镀膜设备，采用的是一条镀膜辊下安装一排电阻加热蒸发舟，只能一次镀一种膜料；可以节省制造成本。但是对于需要镀二种或以上的薄膜进行复合镀膜时，不能满足要求。现有技术的单镀膜辊、单镀膜源的镀膜方式，生产效率较低，不利于生产工艺的灵活配置，无法满足新技术及新能源电池的镀膜要求。


技术实现要素：

3.本实用新型的目的旨在提供一种多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备，采用多个镀膜辊配合，实现基材的双面镀膜，满足双面镀和复合镀膜的要求。
4.为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案是：一种多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备，包括真空容器，真空容器内设有放卷系统和收卷系统，放卷系统输出基材复卷至收卷系统上，基材经放卷系统至收卷系统输送的行程中设有多个用于缠绕基材的镀膜辊，在多个镀膜辊的侧部设有分别用于给基材的两面镀制第一层膜和第二层膜的镀膜装置。
5.本实用新型采用上述技术方案，多个镀膜辊缠绕基材，可使得基材的两面暴露，实现基材的双面镀膜，镀膜装置可对于多个镀膜辊上的基材的两个面分别镀制第一层膜和第二层膜，实现镀制至少二种薄膜的复合镀膜。具体地，镀膜装置给基材的第一面镀完第一种薄膜材料后，基材绕过另一镀膜辊上，镀膜装置给基材的第一面镀制不同材料的薄膜，在镀制完第一面后，基材绕过镀膜辊后进行第二面的第一层膜和第二层膜的镀制，实现双面镀膜和复合镀膜的功能。
6.进一步地，所述镀膜装置包括磁控靶和电子束蒸发镀膜器，磁控靶和电子束蒸发镀膜器分别与多个镀膜辊配合设置。磁控靶和电子束蒸发镀膜器灵活配置于多个镀膜辊上，磁控靶用于磁控溅射镀膜，通常用于镀制基材的第一层膜，电子束蒸发镀膜器用于电子加热蒸发镀膜，可镀制不同的薄膜材料于基材上。
7.进一步地，电子束蒸发镀膜器包括设于真空容器上的电子枪和设于真空容器底部的蒸发坩埚，电子枪的电子束射向蒸发坩埚。电子枪发出电子束射向蒸发坩埚，蒸发坩埚上的蒸发材料加热蒸发，进入基材的表面实现镀制基材的第二层膜。
8.进一步地，真空容器上设有真空抽气装置。真空抽气装置用于给真空容器抽真空，使真空容器内呈真空环境，减少污染，提升镀膜质量。
9.进一步地，真空容器上设有真空测量系统。真空测量系统用于检测真空容器内部的真空条件，可与真空抽气装置通讯，实现及时抽真空。
10.进一步地，多个镀膜辊包括有四个镀膜辊组成，每一镀膜辊配有镀膜装置，在基材的输送行程中设有若干用于导向的导辊。导辊数量若干用于导向和平衡基材的绷紧压力，实现基材在拉紧状态下稳定传输。
11.进一步地，基材依次绕过镀膜辊一、镀膜辊二、镀膜辊三和镀膜辊四后复卷在收卷系统上。镀膜辊一、镀膜辊二、镀膜辊三级镀膜辊四上均配设有镀膜装置，用于实现基材的双面和多层镀膜
12.进一步地，依次绕过镀膜辊一、镀膜辊三、镀膜辊二及镀膜辊四后复卷在收卷系统上。
13.进一步地，镀膜辊一、镀膜辊二、镀膜辊三和镀膜辊四在真空容器内呈直线排布，基材依次绕过镀膜辊一、镀膜辊二、镀膜辊三和镀膜辊四后复卷在收卷系统上。
14.本实用新型还取得的有益效果是：本实用新型采用多镀膜辊结构，可由一种、二种或以上的镀膜装置结合，实现生产工艺多样性，灵活镀制不同的薄膜材料；多镀膜辊结构在真空容器内灵活配置，更好的适应现今5g等新产品和新能源电池技术的镀膜要求；可镀制各种难容金属，并可实现连续双面复合镀制多层膜，提高生产效率。
附图说明
15.图1是本实用新型的内部结构布局图；
16.图2是本实用新型的多个镀膜辊在真空容器内的第一布局结构示意图；
17.图3是本实用新型的多个镀膜辊在真空容器内的第二布局结构示意图；
18.图4是本实用新型的多个镀膜辊在真空容器内的第三布局结构示意图。
19.附图标记说明：1为真空容器，2为放卷系统，3为收卷系统，4为基材，5为镀膜辊，6为镀膜装置，7为真空抽气装置，8为真空测量系统，9为导辊，51为镀膜辊一，52为镀膜辊二，53为镀膜辊三，54为镀膜辊四，61磁控靶，62电子束蒸发镀膜器，63电子枪，64蒸发坩埚。
具体实施方式
20.下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。
21.参照图1至图4所示，一种多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备，包括真空容器1，真空容器1内设有放卷系统2和收卷系统3，放卷系统2输出基材4复卷至收卷系统3上，基材4经放卷系统2至收卷系统3输送的行程中设有多个用于缠绕基材4的镀膜辊5，在多个镀膜辊5的侧部设有分别用于给基材4的两面镀制第一层膜和第二层膜的镀膜装置6。
22.本实施方式的所述镀膜装置6包括磁控靶61和电子束蒸发镀膜器62，磁控靶61和电子束蒸发镀膜器62分别与多个镀膜辊5配合设置。磁控靶61和电子束蒸发镀膜器62用于对基材4表面的双层镀膜，可在基材的表面上形成不同的薄膜。
23.其中，电子束蒸发镀膜器62包括设于真空容器1上的电子枪63和设于真空容器1底部的蒸发坩埚64，电子枪63的电子束射向蒸发坩埚64。
24.真空容器1上设有真空抽气装置7。真空容器1上设有真空测量系统8。
25.多个镀膜辊5包括有四个镀膜辊组成，每一镀膜辊配有镀膜装置6，在基材4的输送行程中设有若干用于导向的导辊9。
26.如图2所示，基材4依次绕过镀膜辊一51、镀膜辊二52、镀膜辊三53和镀膜辊四54后
复卷在收卷系统3上。
27.如图3所示，基材4依次绕过镀膜辊一51、镀膜辊三53、镀膜辊二52及镀膜辊四54后复卷在收卷系统3上。
28.如图4所示，镀膜辊一51、镀膜辊二52、镀膜辊三53和镀膜辊四54在真空容器1内呈直线排布，基材4依次绕过镀膜辊一51、镀膜辊二52、镀膜辊三53和镀膜辊四54后复卷在收卷系统3上。
29.结合图1和图2对本实施方式的多镀膜辊的双面镀膜卷对卷设备进行说明，真空抽气装置7将真空容器1内部抽成真空环境，通过真空测量系统8可实时检测真空容器1内部的真空条件。工作时，放卷系统2输出基材4，基材绕过镀膜辊一51，镀膜辊一51侧部的磁控靶61对基材4的第一面进行磁控溅射镀膜，形成第一层薄膜，基材4绕过镀膜辊二52，镀膜辊二52上的电子束蒸发器62对基材4的第一面进行电弧加热蒸发镀膜，通过电子枪63发出电子束射向蒸发坩埚64上，蒸发坩埚64上的蒸发材料受热蒸发，涂覆在基材4的第一面，形成第二层薄膜，实现对基材4的双层镀膜。基材继续运动绕过镀膜辊三53，镀膜辊三53配设的磁控靶61对基材的第二面进行磁控溅射镀膜，形成第一层薄膜，基材4绕过镀膜辊四54，电子束蒸发器62对基材4的第二面进行电弧加热蒸发镀膜，形成第二层薄膜。最后基材4复卷在收卷系统3上。
30.图3和图4示出了镀膜辊5在真空容器1内的不同布局，其原理与图2所示的实施方式相同，同样达到对基材4的双面镀膜和复合镀膜。
31.本实用新型镀膜时，基材4从放卷系统2输出，经过多个镀膜辊5后复卷在收卷系统3上，其间镀膜时，基材4连续输送，通过多个镀膜辊上时，磁控靶61和电子束蒸发镀膜器62分别对于基材4的两个表面进行第一层和第二层镀膜。
32.综上所述，本实用新型已如说明书及图示内容，制成实际样品且经多次使用测试，从使用测试的效果看，可证明本实用新型能达到其所预期之目的，实用性价值乃无庸置疑。以上所举实施例仅用来方便举例说明本实用新型，并非对本实用新型作任何形式上的限制，任何所属技术领域中具有通常知识者，若在不脱离本实用新型所提技术特征的范围内，利用本实用新型所揭示技术内容所作出局部更动或修饰的等效实施例，并且未脱离本实用新型的技术特征内容，均仍属于本实用新型技术特征的范围内。