一种稳定性高的离子热处理装置的制作方法

1.本实用新型涉及离子热处理设备行业，具体是一种稳定性高的离子热处理装置。


背景技术：

2.离子化学热处理是在真空炉内通入少量与热处理目的适应的气体，在高压直流电场作用下，稀薄的气体放电、起辉加热工件。与此同时，欲渗元素从通入的气体中离解出来，渗入工件表层。离子化学热处理比一般化学热处理处理速度快，在渗层较薄的情况下尤为显著。离子化热处理可以进行离子渗氮、离子渗碳、离子碳氮共渗、离子渗硫和离子渗金属。
3.在进行化学热处理时，真空炉体是重要配套设备，现有真空炉体固定方式较为简易，固定稳定性较差，因此，为解决这一问题，亟需研制一种稳定性高的离子热处理装置。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于提供一种稳定性高的离子热处理装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：
6.一种稳定性高的离子热处理装置，包括：
7.炉体；
8.连接组件，所述连接组件与炉体活动连接；
9.调节装置，所述调节装置与连接组件远离炉体的一端固定连接；
10.传动组件，所述传动组件与调节装置相连；
11.其中，所述传动组件包括：
12.顶移装置，所述顶移装置与调节装置滑动连接，用于炉体的转动调节；
13.定位组件，所述定位组件与调节装置固定连接，用于顶移装置的移动定位。
14.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本装置设计合理，可进行炉体的横置、纵置状态变换，便于进行不同炉体状态下的离子热处理加工，且设置有定位组件，进一步提高了炉体的固定稳定性，改进了现有装置的不足，具有较高的实用性和市场前景，适合大范围推广使用。
附图说明
15.图1为本实用新型实施例中一种稳定性高的离子热处理装置的纵置状态结构示意图。
16.图2为本实用新型实施例中一种稳定性高的离子热处理装置的横置状态结构示意图。
17.图3为本实用新型实施例中一种稳定性高的离子热处理装置中定位槽架的结构示意图。
18.图中：1-炉体，2-调节装置，3-连接组件，4-传动组件，5-顶移装置，6-定位组件，
201-底座，202-支架，203-顶架，204-限位槽，205-驱动件，301-固定轴架，302-第一固定架，501-连接架，502-顶移架，503-定位架，504-定位座，505-第一限位架，601-定位槽架，602-定位槽，603-第二固定架，604-第二限位架。
具体实施方式
19.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
20.一种稳定性高的离子热处理装置，在本实用新型的一个实施例中，如图1和图2所示，包括：炉体1；连接组件3，所述连接组件3与炉体1活动连接；调节装置2，所述调节装置2与连接组件3远离炉体1的一端固定连接；传动组件4，所述传动组件4与调节装置2相连；其中，所述传动组件4包括：顶移装置5，所述顶移装置5与调节装置2滑动连接，用于炉体1的转动调节；定位组件6，所述定位组件6与调节装置2固定连接，用于顶移装置5的移动定位。
21.在本实用新型的一个实施例中：
22.如图1和图2所示，所述连接组件3包括：固定轴架301，所述固定轴架301与炉体1外部固定连接；第一固定架302，所述第一固定架302一端与固定轴架301固定连接，另一端与调节装置2固定连接；
23.炉体1可以固定轴架301为轴心，通过顶移装置5进行顶移驱动，在两侧第一固定架302中部进行转动调节，进行横向、纵向处理状态转换。
24.在本实用新型的一个实施例中：
25.如图1和图2所示，所述调节装置2包括：顶架203，所述顶架203与第一固定架302远离固定轴架301的一端固定连接；至少两个支架202，所述支架202与顶架203相连；底座201，所述底座201与支架202远离顶架203的一端固定连接；限位槽204，所述限位槽204设置在顶架203内部；驱动件205，所述驱动件205与顶架203底部滑动连接，且贯穿顶架203与顶移装置5相连；所述驱动件选用电动滑座；
26.进行炉体1的顶移调节时，驱动件205运行，贯穿顶架203带动顶移装置5从左至右进行横向移动，配合连接组件3，带动炉体1由纵置状态转换为横置状态。
27.在本实用新型的一个实施例中：
28.如图1和图2所示，所述顶移装置5包括：连接架501，所述连接架501贯穿顶架203与驱动件205相连；顶移架502，所述顶移架520与连接架501远离顶架203的一端相连；定位架503，所述定位架530与连接架501固定连接；定位座504，所述定位座504一端与连接架501相连，另一端与限位槽204贯穿滑动连接；第一限位架505，所述第一限位架505与顶架203固定连接；
29.在驱动件205的驱动下，可带动顶移架502和定位架503横向移动，所述顶移架502靠近炉体1的一端采用弧形设置，同时，定位座504沿限位槽204限位移动，进一步提高了顶移架502和定位架503的移动稳定性，与顶架203固定连接的第一限位架205可进行连接架501的移动限位。
30.在本实用新型的一个实施例中：
31.如图1至图3所示，所述定位组件6包括：定位槽架601，所述定位槽架601与顶架203固定连接；定位槽602，所述定位槽602设置在定位槽架601内部；第二固定架603，所述第二固定架603与定位槽架601固定连接；第二限位架604，所述第二限位架604与第二固定架603远离定位槽架601的一端固定连接；
32.当炉体1通过顶移装置5转动调节至横置状态时，炉体1外端与第二限位架604抵接，定位架503插入定位槽602内部，完成顶移装置5的移动定位。
33.本实用新型的工作原理是：炉体1可以固定轴架301为轴心，通过顶移装置5进行顶移驱动，在两侧第一固定架302中部进行转动调节，进行横向、纵向处理状态转换，进行炉体1的顶移调节时，驱动件205运行，贯穿顶架203带动顶移装置5从左至右进行横向移动，配合连接组件3，带动炉体1由纵置状态转换为横置状态，在驱动件205的驱动下，可带动顶移架502和定位架503横向移动，所述顶移架502靠近炉体1的一端采用弧形设置，同时，定位座504沿限位槽204限位移动，进一步提高了顶移架502和定位架503的移动稳定性，与顶架203固定连接的第一限位架205可进行连接架501的移动限位，当炉体1通过顶移装置5转动调节至横置状态时，炉体1外端与第二限位架604抵接，定位架503插入定位槽602内部，完成顶移装置5的移动定位。
34.综上，本装置可进行炉体的横置、纵置状态变换，便于进行不同炉体状态下的离子热处理加工，且设置有定位组件6，进一步提高了炉体1的固定稳定性，改进了现有装置的不足。
35.此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。