可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统的制作方法

1.本实用新型涉及半导体技术领域，尤其是涉及一种可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统。


背景技术：

2.硅片主要用于集成电路的衬底，其主要制作过程包括单晶生长、滚磨、切片、倒角、研磨、腐蚀、抛光、清洗、检测与包装等工艺。其中，抛光区一般有双面抛光、边缘抛光和最终抛光。最终抛光是利用化学机械抛光(chemical mechanical polishing，以下简称cmp)，是影响硅片平坦度、粗糙度、颗粒数最重要的一项制程。在最终抛光加工过程中会用到抛光垫、抛光液等耗材，各种抛光液通过供液系统流到硅片表面，进行化学和机械作用。
3.现有的抛光液供液系统主要包括一个原液桶、纯水桶、配比桶、供液桶、滤芯和流量计，原液桶用于盛放原液。工作时，抛光液原液与纯水按一定比例进入到配比桶混合成抛光液，再进经过供液桶、滤芯和流量计到抛光盘表面。该供液系统由于抛光液原液与水或碱性化学剂的比例只能按照一种设定好的固定配比进行混合，因此，只能供应一种抛光液且无法实时更改抛光液混液浓度，而在实际抛光过程中需要用到三种抛光液，如由粗抛液和碱性化学剂组成的第一种抛光液，由中抛液和水组成的第二种抛光液，由精抛液和水组成的第三种抛光液，且在粗抛阶段可能会用到中抛液。因此，现有技术的供液系统不够灵活，不能够灵活转换抛光液的种类。另外，考虑到若用现有技术的供液系统，抛光阶段至少需要三套供液系统来混液配液，而每套抛光液供液系统大概100万，而一个抛光机台至少配备三套供液系统，那么一个抛光机台配备的抛光液供液系统成本至少高达300万，不利于企业经济效益的提高。


技术实现要素：

4.本实用新型旨在解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型在于提出一种可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统，仅使用本供液系统即可配置出多种不同的种类抛光液的配比，无需配备多套供液系统，能够有效地降低企业的生产成本，提高企业的经济效益。
5.根据本实用新型的可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统，包括原液桶、碱性化学剂桶、纯水桶、流量调节组件和控制器，所述原液桶至少包括原液桶一、原液桶二和原液桶三，所述原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶均通过流量调节组件将液体输送到抛光盘上，所述控制器用于控制流量调节组件内部液体的流量比例；所述流量调节组件包括混液罐、出液管路、流量控制阀一、第一抽液泵、流量控制阀二、第二抽液泵、流量控制阀三、第三抽液泵、流量控制阀四、第四抽液泵、流量控制阀五和第五抽液泵，
6.其中，混液罐进口端分别通过管路与所述原液桶一、所述原液桶二、所述原液桶三、所述碱性化学剂桶和所述纯水桶相连，所述混液罐的容量为100-150ml；所述出液管路进口端与所述混液罐出口端相连，所述出液管路出口端位于抛光垫上方；所述流量控制阀
一和所述第一抽液泵连接在所述原液桶一与所述混液罐之间的管路上；所述流量控制阀二和所述第二抽液泵连接在所述原液桶二与所述混液罐之间的管路上；所述流量控制阀三和所述第三抽液泵连接在所述原液桶三与所述混液罐之间的管路上；所述流量控制阀四和所述第四抽液泵连接在所述碱性化学剂桶与所述混液罐之间的管路上；所述流量控制阀五和所述第五抽液泵连接在所述纯水桶与所述混液罐之间的管路上；所述流量控制阀一、所述流量控制阀二、所述流量控制阀三、所述流量控制阀四、所述流量控制阀五、所述第一抽液泵、所述第二抽液泵、所述第三抽液泵、所述第四抽液泵和所述第五抽液泵均与所述控制器通讯连接。
7.本实施例通过流量调节组件的抽液泵和流量控制阀调控液体通过管路的比例，并在混液罐内混合后输送至抛光盘上，从而调配出不同比列的抛光液，实现了在抛光阶段仅使用一套供液系统即可达到对硅片抛光的目的，大大地节省了生产成本，提高了企业的经济效益。
8.根据本实用新型的可混合多种抛光液且实时调节多种抛光液配比的供液系统，包括原液桶、碱性化学剂桶、纯水桶、流量调节组件和控制器，所述原液桶至少包括原液桶一、原液桶二和原液桶三，所述原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶均通过流量调节组件将液体输送到抛光盘上，所述控制器用于控制流量调节组件内部液体的流量比例；所述流量调节组件包括第六抽液泵、混液罐，出液管路，流量控制阀一、第一电磁阀、流量控制阀二、第二电磁阀、流量控制阀三、第三电磁阀、流量控制阀四、第四电磁阀、流量控制阀五和第五电磁阀；
9.其中，第六抽液泵进口端分别通过管路与所述原液桶一、所述原液桶二、所述原液桶三、所述碱性化学剂桶和所述纯水桶相连；所述混液罐进口端与所述第六抽液泵出口端相连，所述混液罐的容量为100-150ml；所述出液管路进口端与所述混液罐出口端相连，所述出液管路出口端位于抛光垫上方；所述流量控制阀一和所述第一电磁阀连接在所述原液桶一与所述第六抽液泵之间的管路上；所述流量控制阀二和所述第二电磁阀连接在所述原液桶二与所述第六抽液泵之间的管路上；所述流量控制阀三和所述第三电磁阀连接在所述原液桶三与所述第六抽液泵之间的管路上；所述流量控制阀四和所述第四电磁阀连接在所述碱性化学剂桶与所述第六抽液泵之间的管路上；所述流量控制阀五和所述第五电磁阀连接在所述纯水桶与所述第六抽液泵之间的管路上；
10.所述流量控制阀一、所述流量控制阀二、所述流量控制阀三、所述流量控制阀四、所述流量控制阀五、所述第一电磁阀、所述第二电磁阀、所述第三电磁阀、所述第四电磁阀、所述第五电磁阀和所述第六抽液泵均与所述控制器通讯连接。
11.本实施例采用一个第六抽液泵将每条管路中的液体抽取至混液罐内，采用流量控制阀控制每条管路上的液体流量，以在抛光的不同步骤中调配出不同比例的组分混合成不同种类的抛光液对硅片进行抛光，采用电磁阀控制每条管路的通断，当需要抽取某条管路上的液体时，只需要控制电磁阀打开即可，抽取结束后再关闭电磁阀即可，通过电磁阀控制管路的通断，一方面进一步节省了生产成本，降低了生产噪音，另一方面实现了仅使用一套工业系统即可完成多种抛光液对硅片进行抛光的目的，大大地节省了生产成本，提高了企业的经济效益。
12.在一些实施例中，所述原液桶一与所述流量控制阀一之间、所述原液桶二与所述
流量控制阀二之间、所述原液桶三与所述流量控制阀三之间、所述碱性化学剂桶与所述流量控制阀之间均连接有滤芯。滤芯的使用有效地过滤了原液或碱性化学剂中的杂质，在抛光过程中降低对硅片表面的损伤。
13.在一些实施例中，所述混液罐内转动安装有螺旋状的搅拌部件，使得液体在混液罐内混合的更加均匀，以便更好地对硅片进行抛光。
14.与现有技术相比，本实用新型具有以下优点：
15.1)本实用新型通过流量控制阀可以实时调整原液与水或碱性化学剂的配比，从而在不同的抛光步骤调配出不同浓度(比例)的抛光液对硅片进行抛光，而不是把抛光液限定在某一固定配比或浓度。
16.2)本实用新型可以在不同的抛光盘随意流各种抛光液，而不是限定某一配比的抛光液只能流某一抛光盘，本实用新型无需配置多套供液系统，仅使用一套本实用新型供液系统即可完成不同配比成分组成的抛光液的使用，以及在某一抛光盘上使用不同配比成分组成的抛光液，有效地降低了生产成本，提高了企业的经济效益。
17.3)本实用新型混液罐的容量为100-150ml，混液罐容积小，实现了快速更换混液罐内的抛光液为其他种类的抛光液，大概10s即可更换混液罐内原有的抛光液，大大地缩短了上一种抛光液与下一种抛光液的混合时间，避免了对硅片抛光效果的影响。
18.4)本实用新型采用控制器控制各个流量控制阀工作，从而控制液体通过各个管路的流量，实现了配置不同配比成分组成的抛光液，自动化程度高。
附图说明
19.图1是本实用新型实施例一的结构示意图；
20.图2是本实用新型实施例一的流量调节组件结构示意图；
21.图3是本实用新型实施例二的结构示意图；
22.图4是本实用新型实施例二的流量调节组件结构示意图；
23.图5是螺旋混合部件结构示意图。
24.附图标记：
25.10-第一抽液泵；11-第一电磁阀；
26.20-第二抽液泵；21-第二电磁阀；
27.30-第三抽液泵；31-第三电磁阀；
28.40-第四抽液泵；41-第四电磁阀；
29.50-第五抽液泵；51-第五电磁阀；
30.60-出液管路；
31.70-抛光垫；
32.80-抛光盘；
33.90-第六抽液泵；
34.100-混液罐；
35.101-滑道；
36.102-滑轨；
37.200-螺旋状旋转部件；
38.301-第一套流量调节组件；302-第二套流量调节组件；303-第三套流量调节组件；
具体实施方式
39.下面详细描述本实用新型的实施例，实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。
40.下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本实用新型的不同结构。为了简化本实用新型的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本实用新型。此外，本实用新型可以在不同例子中重复参考数字和/ 或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本实用新型提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用于性和/或其他材料的使用。
41.下面参考附图描述根据本实用新型实施例的可调节抛光配比的供液系统，本实施例供液系统的用于硅片抛光阶段，在硅片抛光时提供不同种类的抛光液。
42.实施例1：工艺要求如下：抛光阶段分包括粗抛阶段、中抛阶段和精抛阶段，其中粗抛阶段分为五个步骤，具体如下：
43.步骤抛光时间(s)抛光液成分抛光液配比抛光液流量(ml/min)s15粗抛液a/碱性化学剂d1:191000s223粗抛液a/碱性化学剂d1:19700s358中抛液b/超纯水1:6700s423中抛液b/超纯水1:7700s58中抛液b/超纯水1:9700
44.中抛阶段：抛光液采用体积比1:19的精抛液c和超纯水，该抛光液的流量为700ml /min，抛光时间为130s；
45.精抛阶段：抛光液采用体积比为1:19的精抛液c和超纯水，该抛光液的流量为 1000ml/min，抛光时间为130s。
46.参见图1，根据本实用新型的实施例可调节抛光液比例的供液系统，包括原液桶、碱性化学剂桶、纯水桶、控制器以及三套流量调节组件，原液桶包括原液桶一、原液桶二和原液桶三，流量调节组件包括混液罐100、出液管路60、流量控制阀一、流量控制阀二、流量控制阀三、流量控制阀四、流量控制阀五、第一抽液泵10、第二抽液泵20、第三抽液泵30、第四抽液泵40和第五抽液泵50；
47.原液桶一、原液桶二、原液桶三、碱性化学剂桶和纯水桶均与混液罐100相连，混液罐100出口端连接出液管路60进口端，出液管路60的出口端位于抛光垫70上方；原液桶一与混液罐100之间的管路上连接流量控制阀一和第一抽液泵10；原液桶二与混液罐100 之间的管路上连接流量控制阀二和第二抽液泵20；原液桶三与混液罐100之间的管路上连接流量控制阀三和第三抽液泵30；碱性化学剂桶与混液罐100之间的管路上连接流量控制阀四和第四抽液泵40；纯水桶与混液罐100之间的管路上连接流量控制阀五和第五抽液泵 50；流量控制阀一、流量控制阀二、流量控制阀三、流量控制阀四、流量控制阀五、第一抽液泵
10、第二抽液泵20、第三抽液泵30、第四抽液泵40和第五抽液泵50均与控制器通讯连接。控制器采用stm32系列的单片机，流量控制阀用于调节液体进入混液罐100内的流量。
48.本实施例的三套流量调节组件的进口端均与原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶相连，第一套流量调节组件301的出口端位于粗抛阶段的抛光垫70上方，第二套流量调节组件302 的出口端位于中抛阶段的抛光垫70上方，第三套流量调节组件303的出口端位于精抛阶段的抛光垫70上方。
49.系统启动前，将粗抛液a放入原液桶一内，将中抛液b放入原液桶二内，将精抛液c放入原液桶三内，将碱性化学剂d放入碱性化学剂桶内，将纯水放入纯水桶内，供液系统工作过程如下：
50.1)启动系统，粗抛阶段：控制器控制第一套流量调节组件301的流量控制阀和第六抽液90泵配置该阶段硅片抛光所需的抛光液，粗抛阶段共分为五个步骤，具体如下：
51.s1控制器控制流量控制阀一、流量控制阀四、第一抽液泵10和第四抽液泵40打开，控制器通过流量控制阀一控制原液桶一内的粗抛液a以50ml/min被第一抽液泵10 抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀四控制碱性化学剂桶内的碱性化学剂d以950ml/min被第四抽液泵40抽取至混液罐100内与粗抛液a混合，短暂混合后，再通过出液管路60流至抛光盘80上对硅片进行抛光，抛光时间为5s；
52.s2控制器通过流量控制阀一控制原液桶一内的粗抛液a以35ml/min被第一抽液泵10抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀四控制碱性化学剂桶内的碱性化学剂d以665ml/min被第四抽液泵40抽取至混液罐100内与粗抛液a混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为23s；
53.s3控制器控制流量控制流量控制阀一、流量控制阀四、第一抽液泵10和第四抽液泵40关闭，同时控制流量控制阀二、流量控制阀五、第二抽液泵20和第五抽液泵50 打开，控制器通过流量控制阀二控制原液桶二内的中抛液b以100ml/min被第二抽液泵20抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以 600ml/min被第五抽液泵50抽取至混液罐100内与中抛液b混合，再通过出液管路60 流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为58s；
54.s4控制器通过流量控制阀二控制原液桶二内的中抛液b以87.5ml/min被第二抽液泵20抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以 612.5ml/min被第五抽液泵50抽取至混液罐100内与中抛液b混合，再通过出液管路 60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为23s；
55.s5控制器通过流量控制阀二控制原液桶二内的中抛液b以70ml/min被第二抽液泵 20抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以 630ml/min被第五抽液泵50抽取至混液罐100内与中抛液b混合，再通过出液管路60 流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为8s；
56.控制器控制流量控制阀二、第二抽液泵20、流量控制阀五和第五抽液泵50关闭，粗抛阶段结束。
57.2)中抛阶段：控制器控制第二套流量调节组件302的流量控制阀和抽液泵配置该阶段硅片抛光所需的抛光液，具体如下：
58.控制器控制流量控制阀三和第三抽液泵30打开，控制器通过流量控制阀三控制原
液桶三内的精抛液c以35ml/min被第三抽液泵30抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以665ml/min被第五抽液泵50抽取至混液罐 100内与精抛液c混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为130s；
59.控制器控制流量控阀三、第三抽液泵30、流量控制阀五和第五抽液泵50关闭，中抛阶段结束。
60.3)第三阶段：控制器控制第三套流量调节组件303的流量控制阀和抽液泵配置该阶段硅片抛光所需的抛光液，具体如下：
61.控制器通过流量控制阀三控制原液桶三内的精抛液c以50ml/min被第三抽液泵30 抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以 950ml/min被第五抽液泵50抽取至混液罐100内与精抛液c混合，再通过出液管路60 流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为130s；
62.控制器控制流量控制三、第三抽液泵30、第五流量控制阀和第五抽液泵50关闭，精抛阶段结束，硅片进入下一制程。
63.实施例2：与实施例1的工艺要求相同，与实施例1不同的是：本实施例只采用一个第六抽液泵90，第六抽液泵90进口端分别通过管路与原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶相连，第六抽液泵90出口端与混液罐100相连，原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶与抽液泵之间的管路上分别安装电磁阀，通过电磁阀的打开或关闭来控制电磁阀对应管路的通断，从而控制进入到混液罐100内的液体种类，进而控制流至抛光盘80上的抛光液的种类，本实施例具体结构如下：
64.参见图2，根据本实用新型的实施例可调节抛光液比例的供液系统，包括原液桶、碱性化学剂桶、纯水桶、控制器以及三套流量调节组件，原液桶包括原液桶一、原液桶二和原液桶三，流量调节组件包括混液罐100、出液管路60、流量控制阀一、流量控制阀二、流量控制阀三、流量控制阀四、流量控制阀五、第一电磁阀11、第二电磁阀21、第三电磁阀31、第四电磁阀41、第五电磁阀51和第六抽液泵90；
65.原液桶一、原液桶二和原液桶三、碱性化学剂桶和纯水桶均与第六抽液泵90的进口端相连，第六抽液泵90的出口端与混合罐进口端相连，混液罐100出口端连接出液管路60 进口端，出液管路60的出口端位于抛光垫70上方；原液桶一与第六抽液泵90之间的管路上连接流量控制阀一和第一电磁阀11；原液桶二与第六抽液泵90之间的管路上连接流量控制阀二和第二电磁阀21；原液桶三与第六抽液泵90之间的管路上连接流量控制阀三和第三电磁阀31；碱性化学剂桶与第六抽液泵90之间的管路上连接流量控制阀四和第四电磁阀41；纯水桶与第六抽液泵90之间的管路上连接流量控制阀五和第五电磁阀51；流量控制阀一、流量控制阀二、流量控制阀三、流量控制阀四、流量控制阀五、第一电磁阀11、第二电磁阀21、第三电磁阀31、第四电磁阀41和第五电磁阀51和第六抽液泵90均与控制器通讯连接。控制器采用stm32系列的单片机。流量控制阀用于调节液体进入混液罐100 内的流量。
66.本实施例的三套流量调节组件的进口端均与原液桶、碱性化学剂桶和纯水桶相连，第一套流量调节组件301的出口端位于粗抛阶段的抛光垫70上方，第二套流量调节组件302 的出口端位于中抛阶段的抛光垫70上方，第三套流量调节组件303的出口端位于精抛阶段的抛光垫70上方。
67.系统启动前，将粗抛液a放入原液桶一内，将中抛液b放入原液桶二内，将精抛液c
放入原液桶三内，将碱性化学剂d放入碱性化学剂桶内，将纯水放入纯水桶内，供液系统工作过程如下：
68.1)启动系统，控制器控制第六抽液泵90打开。
69.2)粗抛阶段：控制器控制第一套流量调节组件301的流量控制阀和电磁阀配置该阶段硅片抛光所需的抛光液，粗抛阶段共分为五个步骤，具体如下：
70.s1控制器控制第一电磁阀11和第四电磁阀41打开，控制器通过流量控制阀一控制原液桶一内的粗抛液a以50ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀四控制碱性化学剂桶内的碱性化学剂d以950ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与粗抛液a混合，短暂混合后，再通过出液管路60流至抛光盘80上对硅片进行抛光，抛光时间为5s；
71.s2控制器通过流量控制阀一控制原液桶一内的粗抛液a以35ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀四控制碱性化学剂桶内的碱性化学剂d以665ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与粗抛液a混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为23s；
72.s3控制器控制第一电磁阀11和第四电磁阀41关闭，同时控制第二电磁阀21和第五电磁阀51打开，控制器通过流量控制阀二控制原液桶二内的中抛液b以100ml/min 被第六抽液90泵抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以600ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与中抛液b混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为58s；
73.s4控制器通过流量控制阀二控制原液桶二内的中抛液b以87.5ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以 612.5ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与中抛液b混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为23s；
74.s5控制器通过流量控制阀二控制原液桶二内的中抛液b以70ml/min被第六抽液泵 90抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以 630ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与中抛液b混合，再通过出液管路60 流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为8s；
75.控制器控制第二电磁阀21和第五电磁阀51关闭，粗抛阶段结束。
76.3)中抛阶段：控制器控制第二套流量调节组件302的流量控制阀和电磁阀配置该阶段硅片抛光所需的抛光液，具体如下：
77.控制器控制第三电磁阀31和第五电磁阀51打开，控制器通过流量控制阀三控制原液桶三内的精抛液c以35ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量控制阀五控制纯水桶内的超纯水以665ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与精抛液c混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为130s；
78.控制器控制第三电磁阀31和第五电磁阀51关闭，中抛阶段结束。
79.3)第三阶段：控制器控制第三套流量调节组件303的流量控制阀和电磁阀配置该阶段硅片抛光所需的抛光液，具体如下：
80.控制器控制第三电磁阀31和第五电磁阀51打开，控制器通过流量控制阀三控制原液桶三内的精抛液c以50ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内，同时控制器通过流量
控制阀五控制纯水桶内的超纯水以950ml/min被第六抽液泵90抽取至混液罐100内与精抛液c混合，再通过出液管路60流至抛光盘80，对硅片进行抛光，抛光时间为130s；
81.控制器控制第三电磁阀31、第五电磁阀51和第六抽液泵90关闭，抛光阶段结束，硅片进入一下制程。
82.上述实施例中，工作人员可根据实际需求调节流量控制阀的开度来调节粗抛液a、中抛液b和精抛液c的流量，以配置出适用于抛光各个阶段所需的抛光液。
83.参见图1和图2，为了过滤原液和碱性化学剂中的杂质，提高抛光液的纯度，以降低对硅片表面的损伤，在一些实施例中，原液桶一与流量控制阀一之间、原液桶二与流量控制阀二之间、原液桶三与流量控制阀三之间、碱性化学剂桶与流量控制阀之间均连接有滤芯。
84.由于在抛光阶段会随时改变原液与超纯水或碱性化学剂的比例(每一种配比对应一种抛光液)，因此，混液罐100不能太大，抛光液的流量一般为500-1000ml/min抛光时间一般为60-130s/片，因此，在一些实施例中混液罐100的容量优先选用 100-150ml，以使混液罐100内的抛光液在10s内可以更换为其他种类的抛光液，从而避免了对硅片抛光品质的影响。
85.为了使混液罐100内的原液与超纯水或碱性化学剂混合的更加均匀，在一些实施例中，还包括螺旋状旋转部件200，螺旋状旋转部件200顶端转动连接在混液罐100内顶壁，转动方式可以采用滑轨102和滑道101的配合方式，如混液罐100内顶壁安装有滑道101，螺旋状旋转部件200顶端安装有与滑道101相配合的滑轨102，参见图3。当然也可以选用其他可转动的方式。
86.当液体流入混液罐100时，混液罐100内的螺旋状旋转部件200会在液体的推动下旋转，进而使流入混液罐100内的液体混合的更加均匀，短暂混合后，再通过出液管路60流至抛光盘80上对硅片进行抛光，以使得抛光效果更好。
87.为了避免管路内部残留上一种抛光液，而影响下一种抛光液中组成成分真实流出的比例，出液管路60尽可能短，不建议超过2m，管路直径优选1cm。
88.本实用新型通过控制流量控制阀调节原液与碱性化学剂或水的配比，可以在线(即供液系统运行中)调配出多种抛光液，满足了抛光不同阶段所需的抛光液，整个抛光阶段仅使用一套本实用新型的供液系统即可，无需使用多套，有效地降低了企业的生产成本，提高了企业的经济效益。
89.本实用新型原液桶的数量和流量调节组件的数量可根据实际需要配置，如需要更多的原液来配置抛光液，则可设置四个原液桶、五个原液桶甚至更多，流量调节组件的数量与抛光盘80的数量对应，抛光盘80的数量越多，流量调节组件的数量越多，目前的抛光设备一般配备三个抛光盘80，用于粗抛、中抛和精抛阶段。
90.根据本实用新型实施例的可调节抛光液比例的供液系统的其他构成例如流量控制阀和控制器等对于本领域普通技术人员而言都是已知的，这里不再详细描述。
91.在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型
的限制。
92.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
93.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接，还可以是通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
94.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
95.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
96.尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。