一种装载大面积多样品的真空架台的制作方法

1.本实用新型涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种装载大面积多样品的真空架台。


背景技术：

2.真空镀膜设备主要指的是在高真空条件下进行的镀膜设备，有很多分类，大致包括真空离子蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、pld激光溅射沉积镀膜机等。主要是两种：蒸发和溅射。真空镀膜设备中必须设置样品架台来放置样品。传统的架台只能放置单一的样品，而且样品的面积较小、重量较轻，所以限制较大，因此需要一种能够同时装载多个样品的高真空架台，而且摆脱了传统镀膜设备对样品的限制，能够对大面积、大重量的的二维样品进行镀膜。


技术实现要素：

3.为了解决上述问题，本实用新型的目的是提供一种装载大面积多样品的真空架台，包括磁流体密封件、样品台、第一平台和第二平台；磁流体密封件贯穿样品台并与样品台活动连接，底部连接第一平台，顶部伸出样品台顶端；所述第二平台沿高度方向设置于样品台顶部边缘位置处用于与样品相连接，第一平台用于与第二平台配合以容纳样品；所述磁流体密封件与外部电机相连接。本实用新型的一种装载大面积多样品的真空架台，样品台能够沿竖直方向大范围移动，并沿水平方向360
°
旋转，具有一次装载多个样品、装载面积大、承载力强等优点，使得镀膜能够更加均匀，大大地提高了工作效率。
4.本实用新型的目的可以通过以下技术方案来实现：
5.本实用新型提供一种装载大面积多样品的真空架台，连接外部电机，包括磁流体密封件、样品台、第一平台和第二平台；
6.磁流体密封件底部连接第一平台，磁流体密封件)沿高度方向贯穿样品台，顶部伸出样品台顶端；所述第二平台沿高度方向设置于样品台顶部边缘位置处用于与样品相连接，第一平台用于与第二平台配合以容纳样品；
7.所述磁流体密封件使用时与外部电机相连接。
8.在本实用新型的一个实施方式中，所述电机包括旋转伺服电机和升降伺服电机；磁流体密封件顶部与旋转伺服电机相连接，旋转伺服电机通过螺栓与升降伺服电机的升降台座相连接。
9.在本实用新型的一个实施方式中，所述样品台材质为316不锈钢或304不锈钢。
10.在本实用新型的一个实施方式中，所述磁流体密封件为密封的圆柱体结构。
11.在本实用新型的一个实施方式中，所述磁流体密封件允许样品台沿其上下移动以及360度旋转。
12.在本实用新型的一个实施方式中，磁流体密封件沿样品台中心位置处由底部贯穿至样品台顶部，并伸出样品台顶端。
13.在本实用新型的一个实施方式中，所述样品台为棱柱结构；优选地，所述样品台为三棱柱结构。
14.在本实用新型的一个实施方式中，所述样品台每个侧面的高度为200-240mm，宽度为170-190mm。
15.在本实用新型的一个实施方式中，所述第二平台的厚度为4-6mm。
16.在本实用新型的一个实施方式中，所述第二平台与样品板活动连接。
17.在本实用新型的一个实施方式中，所述第一平台为结构与样品台相同的棱柱结构，第一平台沿水平方向比样品台宽2-4mm。
18.与现有技术相比，本实用新型具有以下有益效果：
19.(1)本实用新型的一种装载大面积多样品的真空架台设置于高真空条件下，由于样品台具有棱柱结构，所以能同时放置多个大面积的样品，可以对多个样品进行镀膜，减少了工作时间，大大地提高了工作效率；
20.(2)本实用新型的一种装载大面积多样品的真空架台可以实现样品台在镀膜设备中地大范围的上下移动，使得溅射位置在轴向上可调；磁流体密封件具有密封可靠、无泄漏、无机械磨损、寿命长、工作效率高等特点，使用了磁流体密封件进一步使得样品台能够承受十几公斤的大质量样品，同时还能使样品台在水平方向360
°
的旋转，使镀膜位置在水平方向可调，使得镀膜能够更加均匀。
附图说明
21.图1是本实用新型的一种装载大面积多样品的真空架台的正视图；
22.图2是本实用新型的一种装载大面积多样品的真空架台的侧视图；
23.图中标号：1、磁流体密封件；2、样品台；3、第一平台；4、第二平台。
具体实施方式
24.下面结合附图和具体实施例对本实用新型进行详细说明。
25.在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
26.在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
27.在本实施例的描述中，术语“上”、“下”、“左”“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述和简化操作，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限
制。此外，术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
28.实施例1
29.本实施例提供一种装载大面积多样品的真空架台，连接外部电机，如图1-2所示，包括磁流体密封件1、样品台2、第一平台3和第二平台4；
30.样品台2底端为第一平台3；磁流体密封件1为密封的圆柱体结构，沿样品台2中心位置处由底部贯穿至样品台2顶部，并伸出样品台2顶端，并与样品台2活动连接，磁流体密封件1允许样品台2上下移动以及360度旋转；
31.磁流体密封件1底部连接第一平台3，顶部伸出样品台2顶端；所述第二平台4沿高度方向设置于样品台2顶部边缘位置处用于与样品相连接，第一平台3用于与第二平台4配合以容纳样品；磁流体密封件1顶端与外部电机相连接；
32.其中，样品台2材质为316不锈钢或304不锈钢，样品台2为三棱柱结构，每个侧面的高度为200-240mm，宽度为170-190mm；第一平台3也为三棱柱结构，第一平台3沿水平方向比样品台2宽2-4mm；第二平台4的厚度为4-6mm，与样品活动连接。
33.工作过程中，自动化送样装置将样品送至真空镀膜设备中，并将样品固定于样品台2上(样品背面由挂钩，该挂钩固定于第二平台4上，且底部以第一平台3为支撑)，样品台2的每个侧面各固定设置一个样品，共计三个样品，磁流体密封件1的承重可达20kg，开启镀膜时，磁流体密封件1顶部与外部伺服电机相连接，伺服电机包括旋转伺服电机和升降伺服电机，旋转伺服电机通过螺栓与升降伺服电机的升降台座相连接，磁流体密封件1一端与样品台2螺栓连接，另一端与旋转伺服电机螺栓连接。其中，旋转伺服电机通过控制磁流体密封件1旋转进而带动样品台2沿径向水平360度旋转；升降伺服电机通过其内部的丝杠控制升降台座沿竖直方向升降进而带动旋转伺服电机、磁流体密封件1及样品台2沿竖直方向进行升降运动。两台伺服电机协同通过磁流体密封件1实现样品台2的水平和竖直方向的运动，从而实现样品表面的均匀镀膜。
34.上述的对实施例的描述是为便于该技术领域的普通技术人员能理解和使用实用新型。熟悉本领域技术的人员显然可以容易地对这些实施例做出各种修改，并把在此说明的一般原理应用到其他实施例中而不必经过创造性的劳动。因此，本实用新型不限于上述实施例，本领域技术人员根据本实用新型的揭示，不脱离本实用新型范畴所做出的改进和修改都应该在本实用新型的保护范围之内。