一种用于支撑离子源栅网的防变形治具的制作方法

1.本实用新型涉及离子源栅网保养技术领域，特别涉及一种用于支撑离子源栅网的防变形治具。


背景技术：

2.光学镀膜机中离子源栅网使用产生正离子，为而到达中和中和器产生的负电子的目的，离子源是由本体、栅网、石英碗，rf射频电源线组成，栅网由d、a、s三层网组成。
3.由于栅网长时间工作过程中正离子不断生成轰击等，因此使用一段时间后需要拆下栅网进行喷砂清洁，由于栅网喷砂作业中易导致变形，所以目前业界都是通过减少喷砂气压和喷头拉远源栅网的方式进行喷砂，但是这样导致人工耗时高，且对人员喷砂手法要求高。


技术实现要素：

4.基于此，本实用新型的目的是提供一种用于支撑离子源栅网的防变形治具，以解决人工耗时高，对人员喷砂手法要求高的问题。一种用于支撑离子源栅网的防变形治具，包括：栅网，所述栅网包括弧形部；
5.第一限位件，所述第一限位件包括第一支撑部以及由所述第一支撑部向外凸起形成的球形凸起部，所述球形凸起部与所述弧形部底面相适配；
6.第二限位件，所述第二限位件包括第二支撑部以及由所述第二支撑部向内凹陷形成的球形凹陷部，所述球形凹陷部与所述弧形部顶面相适配；
7.当所述栅网设置于所述第一限位件上时，所述球形凸起部支撑所述弧形部的底面，当所述栅网设置于所述第二限位件上时，所述球形凹陷部支撑所述弧形部的顶面。
8.相比现有技术，本技术的有益效果为：通过将离子源栅网安装在第一限位件上，使离子源栅网凸球弧面被球形凸起部支撑朝上，从而使喷砂过程中离子源栅网凸球弧面受力均匀，防止其变形，通过将离子源栅网安装在第二限位件上，使离子源栅网凹球弧面被球形凹陷部支撑朝上，从而使喷砂过程中离子源栅网凹球弧面受力均匀，防止其变形，此时防止离子源栅网两面喷砂时产生形变，相对于现有技术本技术降低喷砂耗时，降低人员要求，标准化作业，降低栅网变形率。
9.进一步的，还包括连接组件，所述连接组件包括开设于第一支撑部和第二支撑部上的若干第一螺纹孔、开设于所述栅网上的若干第二螺纹孔以及与所述第一螺纹孔和所述第二螺纹孔相适配的固定螺栓。
10.进一步的，所述栅网还包括连接部以及多个安装部，所述连接部周向设置在所述弧形部的外缘，所述安装部沿所述连接部的外缘呈圆周等分设置。
11.进一步的，所述弧形部的顶面为凸球弧面。
12.进一步的，所述弧形部的底面为凹球弧面。
13.进一步的，所述弧形部上均匀间隔设置有多个栅孔。
14.进一步的，所述第一支撑部的尺寸大于所述栅网的尺寸。
15.进一步的，所述第二支撑部的尺寸大于所述栅网的尺寸。
16.进一步的，所述第一支撑部呈圆柱形。
17.进一步的，所述第二支撑部呈圆柱形。
附图说明
18.图1为本实用新型第一限位件的立体结构示意图；
19.图2为本实用新型第二限位件的立体结构示意图；
20.图3为本实用新型栅网的立体结构示意图；
21.图4为本实用新型图1中的剖视图；
22.图5为本实用新型图2中的剖视图；
23.图6为本实用新型图3中的剖视图。
24.主要元件符号说明：
25.栅网10弧形部11栅孔111安装部12连接部13第一限位件20第一支撑部21球形凸起部22第一安装件23第二限位件30第二支撑部31球形凹陷部32第一螺纹孔41第二螺纹孔42
具体实施方式
26.为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的若干实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。
27.需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。
28.除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
29.请参阅图1至图6，所示为本实用新型实施例中的一种用于支撑离子源栅网的防变形治具，包括：栅网10、第一限位件20、第二限位件30和连接组件。
30.请着重参阅图3，在本实施例中，所述栅网10包括弧形部11，以及环形排列设置于所述弧形部11外缘上的若干安装部12；
31.具体的，所述栅网10还包括连接部13以及多个安装部12，所述连接部13周向设置
在所述弧形部11的外缘，所述安装部12沿所述连接部13的外缘呈圆周等分设置，所述弧形部11上均匀间隔设置有多个栅孔111。
32.请着重参阅图1，在本实施例中，所述第一限位件20包括第一支撑部21以及由所述第一支撑部21向外凸起形成的球形凸起部22；
33.值得说明的是，所述球形凸起部22的尺寸与所述弧形部11的尺寸相近，以使在栅网10安装在第一限位件20上时，球形凸起部22的顶面正好与弧形部11的底面(也就是弧形部11的凹球弧面)重合，从而使球形凸起部22对整个弧形部11的底面进行支撑，从而对整个弧形部11进行支撑，方便后期对弧形部11的顶部进行喷砂。
34.请着重参阅图2，在本实施例中，所述第二限位件30包括第二支撑部31以及由所述第二支撑部31向内凹陷形成的球形凹陷部32；
35.值得说明的是，所述球形凹陷部32的尺寸与所述弧形部11的尺寸相近，以使在栅网10安装在第一限位件20上时，球形凹陷部32的顶面正好与弧形部11的顶面(也就是弧形部11的凸球弧面)重合，从而对整个弧形部11进行支撑，方便后期对弧形部11的底部进行喷砂。
36.当所述栅网10设置于所述第一限位件20上时，所述球形凸起部22支撑所述弧形部11的底面，当所述栅网10设置于所述第二限位件30上时，所述球形凹陷部32支撑所述弧形部11的顶面；
37.值得说明的是，在栅网10安装在第一限位件20上时，栅网10的弧形部11被第一限位件20上的球形凸起部22进行支撑，使弧形部11的顶面被支撑朝上，从而方便后期对弧形部的顶面进行喷砂，在栅网10安装在第二限位件30上时，栅网10的弧形部11被第二限位件30上的球形凹陷部32进行支撑，使弧形部11的底面被支撑朝上，从而方便后期对弧形部的底面进行喷砂。
38.所述连接组件包括开设于第一支撑部21和第二支撑部31上若干第一螺纹孔41、开设于所述栅网10上的若干第二螺纹孔42以及与所述第一螺纹孔41和所述第二螺纹孔42相适配的固定螺栓；
39.值得说明的是，通过将固定螺栓插入到第一螺纹孔41或者所述第二螺纹孔42内，以使栅网10固定在第一限位件20或者第二限位件30上。
40.请着重参阅图6，在本实施例中，所述栅网10的弧形部11的顶面为凸球弧面，弧形部11的底面为凹球弧面。
41.请着重参阅图1和图2，在本实施例中，为了节约材料，所述第一支撑部21和第二支撑部31均呈圆柱形；
42.值的说明的是，第一支撑部21和第二支撑部31的尺寸略大于栅网10的尺寸，在第一限位件20对栅网10进行支撑时，栅网10的弧形部11支撑在第一支撑部21中部的球形凸起部22上，栅网10的连接部13和安装部12均支撑在第一支撑部21侧部上，从而实用第一支撑部21对这个栅网10进行支撑，方便后期对栅网10进行喷砂，在第二限位件30对栅网10进行支撑时，栅网10的弧形部被第二支撑部31中部的球形凹陷部32支撑，栅网10的连接部13和安装部12均支撑在第二支撑部31侧部上，从而实用第二支撑部31对这个栅网10进行支撑，方便后期对栅网10进行喷砂，提高喷砂的效率。
43.进一步的，所述第一限位件20和所述第二限位件30可以采用铝合金材质。
44.综上，本实用新型上述实施例当中的用于支撑离子源栅网的防变形治具，通过将栅网10安装在第一限位件20上，使栅网10凸球弧面被球形凸起部22支撑朝上，从而使喷砂过程中栅网10凸球弧面受力均匀，防止其变形，然后将固定的栅网10放进喷砂机里进行喷砂，通过将栅网10安装在第二限位件30上，使栅网10的凹球弧面被球形凹陷部32支撑朝上，从而使喷砂过程中栅网10凹球弧面受力均匀，防止其变形，然后将固定的栅网10放进喷砂机里进行喷砂，此时防止栅网10两面喷砂时产生形变，相对于现有技术降低喷砂耗时，降低人员要求，标准化作业，降低栅网变形率。
45.在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。
46.以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。