一种雾化气相沉积装置和雾化气相沉积方法与流程

文档序号:34621066发布日期:2023-06-29 12:37阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种雾化气相沉积装置,其特征在于,所述雾化气相沉积装置包括沉积腔体;

2.根据权利要求1所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述激光光源发出的激光与所述托盘的顶面之间的距离为100-1500μm;

3.根据权利要求1所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述沉积腔体的外侧壁开设有所述雾相入口和所述排气口,所述雾相入口和所述排气口均高于所述激光光源;

4.根据权利要求1所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述雾化腔开设有载气进口和载气出口,所述载气进口与所述气源连通,所述载气出口与所述雾相入口连通;

5.根据权利要求1所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述超声件包括超声振子;

6.根据权利要求1所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述沉积腔体包括沿雾的流动方向依次连接的整流段、沉积段和排出段;

7.根据权利要求6所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述整流段包括依次对接的第一直筒段和渐缩段,所述渐缩段的横截面面积沿雾的流动方向逐渐减小,所述渐缩段的小尺寸端对接所述沉积段的输入端;

8.根据权利要求7所述的雾化气相沉积装置,其特征在于,所述第一直筒段的外侧壁开设有2个所述雾相入口,分别记为第一雾相入口和第二雾相入口,所述第一雾相入口和第二雾相入口相对设置。

9.一种使用权利要求1-8任一项所述的雾化气相沉积装置进行雾化气相沉积的方法,其特征在于,所述雾化气相沉积的方法包括:

10.根据权利要求9所述的雾化气相沉积的方法,其特征在于,所述激光与所述基材的顶面之间的距离为10-1000μm;


技术总结
本发明提供了一种雾化气相沉积装置和雾化气相沉积方法,所述雾化气相沉积装置包括沉积腔体;所述沉积腔体的底部设置有托盘,所述托盘的顶面位于所述沉积腔体的内腔中;所述沉积腔体的外侧壁设置有激光引入窗,所述激光引入窗远离所述沉积腔体的一侧设置有激光光源;所述沉积腔体开设有雾相入口和排气口,所述沉积腔体通过所述雾相入口连接有雾化装置;所述雾化装置包括雾化腔和用于盛放超声介质的底座,所述底座的底端设置有超声件。本发明引入激光光源为沉积反应过程提供能量,能实现无损伤或低损伤的低温化学气相沉积;同时,超声件直接接触超声介质,能够避免原料液对超声件的腐蚀,延长其使用寿命。

技术研发人员:母凤文,郭超
受保护的技术使用者:青禾晶元(天津)半导体材料有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/13
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