一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫的制作方法

文档序号:35612412发布日期:2023-10-02 03:52阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:包括研磨垫和设置在研磨垫表面的多个周向凸起,相邻的周向凸起之间为沟槽,所述周向凸起上设有用于连通相邻沟槽的连通道;所述研磨垫上设有呈同心圆分布的多个研磨区,同一研磨区内的连通道的高度相同,相邻的研磨区内的连通道的高度不同。

2.根据权利要求1所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:多个研磨区分别为中心研磨区、中间研磨区和外侧研磨区,所述中心研磨区、中间研磨区和外侧研磨区从研磨垫的中间依次向外部呈同心圆分布;所述连通道的高度从研磨垫的中间向外侧递减;或者,所述连通道的高度从研磨垫的中间向外侧递增;或者,中间研磨区的高度低于中心研磨区的高度和外侧研磨区的高度;或者,中间研磨区的高度高于中心研磨区的高度和外侧研磨区的高度。

3.根据权利要求2所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:所述中间研磨区的高度低于中心研磨区的高度和外侧研磨区的高度时,或者,所述中间研磨区的高度高于中心研磨的高度和外侧研磨区的高度时,所述中心研磨区的高度与外侧研磨区的高度相等。

4.根据权利要求1所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:每个周向凸起上均周向均匀设有多个连通道。

5.根据权利要求4所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:多个周向凸起上的连通道呈向外延伸的直线型周向均匀分布。

6.根据权利要求4所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:多个周向凸起上的连通道呈向外延伸的逆时针螺旋型周向均匀分布。

7.根据权利要求4所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:相邻周向凸起之间的多个连通道交错分布。

8.根据权利要求1所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:所述连通道为成型在周向凸起上的凹槽或通孔,所述凹槽或通孔的两端与相邻的沟槽连通。

9.根据权利要求1所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:同一研磨区内设有多个沟槽。

10.根据权利要求1所述的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,其特征在于:多个周向凸起呈同心圆分布在研磨垫上,所述周向凸起为环形凸起。


技术总结
本技术涉及半导体制造技术领域,公开了一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,包括研磨垫和设置在研磨垫表面的多个周向凸起,相邻的周向凸起之间为沟槽,所述周向凸起上设有用于连通相邻沟槽的连通道;所述研磨垫上设有呈同心圆分布的多个研磨区,同一研磨区内的连通道的高度相同,相邻的研磨区内的连通道的高度不同;本技术提供的一种贯穿型沟槽的化学机械抛光垫,解决了现有的研磨垫的边缘容易磨平的问题。

技术研发人员:张跃锋
受保护的技术使用者:上海沛镁机电科技有限公司
技术研发日:20230518
技术公布日:2024/1/14
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