一种真空镀膜设备的制作方法

本发明涉及镀膜设备，具体涉及一种真空镀膜设备。

背景技术：

1、等离子体增强化学气相沉积法(plasma enhanced chemical vapordeposition，pecvd)镀膜设备通过微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在镀膜腔体内形成等离子体，利用等离子体很容易发生反应的原理，在工件上沉积出所需要的薄膜。真空镀膜设备在对工件进行镀膜工艺之前，一般需要先利用干燥腔体将干燥处理，再将干燥腔体干燥处理后的工件输送至镀膜腔体内进行工件的镀膜工艺。

2、现有技术中，真空镀膜设备的镀膜设备在镀膜生产过程中，需要打开干燥腔体的进料口并向干燥腔体内输送工件进行干燥处理，干燥腔体干燥处理后，打开干燥腔体的出料口并向镀膜腔体输送干燥处理后的工件；镀膜腔体的进料口打开，工件进入镀膜腔体内并关闭镀膜腔体的进料口，镀膜设备的抽真空装置再将镀膜腔体抽真空并向镀膜腔体通入雾化镀膜材料，利用镀膜材料在腔室内的镀膜工件上沉积镀膜，在镀膜腔体内工件完成镀膜后打开出料口移出完成镀膜的工件。然而，由于真空镀膜设备在连续镀膜过程中，干燥腔体和镀膜腔体需要不断打开进出料口，外界空气会进入干燥腔体和镀膜腔体内，这样会大大增加干燥腔体和镀膜腔体抽真空所需时间，导致镀膜效率低，且外界空气进入干燥腔体和镀膜腔体内会影响干燥腔体和镀膜腔体内的真空度，从而影响工件的镀膜质量。

技术实现思路

1、本发明提供一种真空镀膜设备，旨在解决现有技术的真空镀膜设备存在外界空气易进入干燥腔体和镀膜腔体内，干燥腔体和镀膜腔体抽真空所需时间长，导致镀膜效率低，且影响工件镀膜质量的问题。

2、本发明是这样实现的，提供一种真空镀膜设备，包括：

3、包括沿水平方向依次连接的上料架、第一插板阀、第一缓冲腔、第二插板阀、干燥腔体、第三插板阀、镀膜腔体、第四插板阀、第二缓冲腔、第五插板阀及下料架，所述上料架、所述第一缓冲腔、所述干燥腔体、所述镀膜腔体、所述第二缓冲腔及所述下料架依次对应设置有均用于带动工件自所述上料架向所述下料架方向传输的上料传输机构、第一缓冲传输机构、干燥传输机构、镀膜传输机构、第二缓冲传输机构及下料传输机构，所述第一缓冲腔、所述干燥腔体、所述镀膜腔体及所述第二缓冲腔分别连接抽真空装置。

4、优选的，所述真空镀膜设备包括上下并排设置的至少两个镀膜产线，每个所述镀膜产线均包括依次连接的所述上料架、所述第一插板阀、所述第一缓冲腔、所述第二插板阀、所述干燥腔体、所述第三插板阀、所述镀膜腔体、所述第四插板阀、所述第二缓冲腔、所述第五插板阀及所述下料架，各所述镀膜产线之间共用一个所述干燥腔体。

5、优选的，所述干燥腔体靠近所述第二插板阀的一侧壁上设有干燥腔体进料口，所述干燥腔体靠近所述第三插板阀的另一侧壁上设有位于所述干燥腔体进料口上方的干燥腔体出料口，所述干燥传输机构包括:

6、设于所述干燥腔体内的水平传输组件，用于带动工件自所述干燥腔体进料口沿水平方向进入所述干燥腔体内；

7、设于所述干燥腔体内的竖直传输组件，用于依次带动所述水平传输组件上的工件上升至所述干燥腔体出料口位置；及

8、与所述干燥腔体出料口位置相对应的推杆机构，用于将上升至所述干燥腔体出料口位置的工件从所述干燥腔体出料口推出。

9、优选的，所述水平传输组件包括：

10、设于所述干燥腔体内并沿水平方向设置的水平传输带，用于带动工件自所述干燥腔体进料口沿水平方向进入所述干燥腔体内；及

11、与所述水平传输带传动连接的第一电机。

12、优选的，所述竖直传输组件包括：

13、设于所述干燥腔体内并竖直布置在所述水平传输带相对两侧的多个传动链条，每个所述传动链条设有沿竖直方向间隔分布的多个承载部，各所述承载部可依次带动所述水平传输带上的工件上升至所述干燥腔体出料口位置；及

14、与多个所述传动链条传动连接的第二电机。

15、优选的，还包括：

16、设于所述干燥腔体内并靠近所述水平传输带的进料侧设置的第一传感器，用于检测工件进入所述水平传输带上时触发第一电机减速信号；以及

17、设于所述干燥腔体内并靠近所述水平传输带的出料侧设置的第二传感器，用于检测工件在所述水平传输带上运动到位时触发第一电机停止转动信号。

18、优选的，还包括：

19、设于所述干燥腔体内并对应所述干燥腔体出料口位置的第三传感器，用于检测到工件上升至所述干燥腔体出料口位置时触发第二电机停止转动信号。

20、优选的，所述推杆机构包括：

21、固定于所述干燥腔体上的壳体；

22、安装于所述壳体的固定导轨；

23、安装于所述固定导轨上并沿所述固定导轨长度方向布置的第一皮带；

24、与所述第一皮带传动连接、用于带动所述第一皮带转动的第一旋转电机；

25、活动设置于所述固定导轨上并与所述第一皮带连接的活动导轨，所述第一皮带可带动所述活动导轨相对所述固定导轨伸缩；

26、安装于所述活动导轨上并沿所述活动导轨长度方向布置的第二皮带，所述活动导轨与所述第二皮带连接并可带动所述第二皮带转动；以及

27、与所述第二皮带连接的推杆，所述第二皮带可带动所述推杆相对所述活动导轨伸缩。

28、优选的，所述第一插板阀、所述第二插板阀、所述第三插板阀、所述第四插板阀及所述第五插板阀均包括：

29、内设有阀腔的阀体，所述阀体的侧壁开设有与所述阀腔连通并相对设置的两个阀口；

30、可活动设置于所述阀腔内的两个插板，两个所述插板与两个所述阀口一一对应配合并用于打开或关闭相对应的所述阀口；以及

31、驱动组件，所述驱动组件包括可滑动设置于所述阀腔内的滑块、与所述滑块螺纹连接并可带动所述滑块上下滑动的螺杆、与所述滑块铰接的至少两个连杆机构、及与所述螺杆连接的第二旋转电机，两个所述插板分别与对应的所述连杆机构连接。

32、优选的，所述第三插板阀及所述第四插板阀远离所述镀膜腔体的所述插板上贯穿设置有与所述阀腔相连通的通气孔。

33、优选的，所述镀膜腔体设有与其内部连通且相对设置的镀膜腔体进料口和镀膜腔体出料口，且所述镀膜腔体设有与其内部连通且相对设置的进气口和出气口，所述进气口的进气方向和所述出气口的出气方向垂直于所述镀膜腔体进料口至所述镀膜腔体出料口的方向，所述镀膜传输机构用于带动工件自所述镀膜腔体进料口向所述镀膜腔体出料口方向移动。

34、优选的，所述镀膜腔体的外表面设置有雾化器组件，所述雾化器组件包括雾化器、及与所述雾化器的出口连接的弯头，所述弯头的另一端与所述镀膜腔体连接，所述弯头内的底壁设置有用于沉积镀膜材料的沉积槽。

35、本发明提供的一种真空镀膜设备设置沿水平方向依次连接的上料架、第一插板阀、第一缓冲腔、第二插板阀、干燥腔体、第三插板阀、镀膜腔体、第四插板阀、第二缓冲腔、第五插板阀及下料架，并将第一缓冲腔、干燥腔体、镀膜腔体及第二缓冲腔分别连接抽真空装置；工件进入干燥腔体时，第一插板阀关闭，第二插板阀打开，利用第一插板阀将第一缓冲腔与外界大气隔绝，防止第一缓冲腔内的工件进入干燥腔体时大量空气进入干燥腔体及镀膜腔体；工件进入镀膜腔体时，第二插板阀关闭，第三插板阀打开，第二插板阀将干燥腔体与外界大气隔绝，防止工件从干燥腔体进入镀膜腔体时大量空气进入镀膜腔体内；镀膜腔体内的镀膜工件完成镀膜后，第四插板阀打开，第五插板阀关闭，镀膜后的工件从镀膜腔体移动至第二缓冲腔内，利用第五插板阀将第二缓冲腔与外界大气隔绝，防止镀膜腔体内的工件移出时大量空气从镀膜腔体的出料口进入镀膜腔体内，因而本发明的真空镀膜设备可以防止外界空气进入干燥腔体和镀膜腔体内，减少干燥腔体及镀膜腔体抽真空所需时间，提升干燥效率和镀膜效率，且避免了外界空气进入干燥腔体和镀膜腔体内降低真空度而影响工件镀膜质量，从而可以大大提升镀膜质量。