超声波多通道自反应化学镀膜仪器的制造方法

文档序号:8442553阅读:336来源:国知局
超声波多通道自反应化学镀膜仪器的制造方法
【技术领域】
[0001] 本发明涉及溶液镀膜领域,尤其涉及一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器。
【背景技术】
[0002] 微波消解通常是指利用微波加热封闭容器中的消解液(各种酸、部分碱液以及盐 类)和试样从而在高温增压条件下使各种样品快速溶解的湿法消化(也有敞开容器微波消 解的,不予讨论)。密闭容器反应和微波加热这两个特点,决定了其完全、快速、低空白的优 点,但不可避免地带来了高压(可能过压的隐患)、消化样品量小的不足。

【发明内容】

[0003] 本发明实施例的目的之一在于提供超声波多通道自反应化学镀膜仪器,该系统的 应用由于大容量超大容量的消解反应,且有利于提高消解反应的完全性、均一性。
[0004] 本发明实施例提供的一种一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器,其特征是,包 括:
[0005] 托架,包括立柱以及设置在所述立柱顶部的横臂;
[0006] 水槽,位于所述立柱的底部;
[0007] 超声波发生器,设置在所述水槽内,
[0008] 杯架,包括纵向螺杆、转盘,所述纵向螺杆安装在所述托架的横臂上,所述转盘连 接在所述纵向螺杆的底部,在所述转盘上设置有至少两个上下贯穿的杯座,
[0009] 至少两个样品杯,各所述样品杯可分别置于各所述杯座上,各所述样品杯包括杯 体、覆盖在所述杯体顶部开口的上盖以及密封安装在所述杯体底部开口的密封下盖,
[0010] 当所述样品杯置于所述杯座上时,所述杯体的下部从所述杯座下伸出且露出在所 述转盘的下方,调节所述纵向螺杆可使所述杯体的下部伸入所述水槽内,在所述密封下盖 的顶部密封覆盖有一镀膜基片,所述镀膜基片的顶面与装在所述样品杯内的溶液接触,所 述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体之间。
[0011] 可选地,所述杯体的顶部开口外周设置有水平向外凸起的凸棱,所述杯体凸棱凸 出在所述杯座的顶部将所述杯体悬挂在所述杯座内,所述杯体的下部从所述杯座下伸出且 露出在所述转盘的下方。
[0012] 可选地,在所述密封下盖的顶部设置有一向下凹进的凹台,所述镀膜基片限位于 所述凹台的顶面,当所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时,所述镀膜基片的底面密 封覆盖在所述凹台的顶面,所述镀膜基片紧固在所述密封下盖与所述杯体的底部开口之 间,所述镀膜基片的顶面露出在所述样品杯内腔内。
[0013] 可选地,在所述杯体的底部设置有一向所述杯体的内腔凹进的凹位,在所述凹位 的中心还设置有与所述杯体的内腔连通的通孔,所述通孔的宽度小于所述凹位的宽度,当 所述密封下盖密封连接在所述杯体的底部时,所述镀膜基片的顶部外沿与所述通孔的底部 密封连接,所述密封下盖紧固在所述凹位内,所述密封下盖的外壁与所述凹位的内壁密封 连接,所述镀膜基片的顶面位于所述通孔的底部。
[0014] 可选地,所述密封下盖的所述凹位的宽度由下往上方向逐渐变宽。
[0015] 可选地,可选地,在各所述样品杯中还分别设置有搅拌部件,所述搅拌部件位于所 述密封下盖的上方,可在所述样品杯内运动。
[0016] 可选地,所述搅拌部件为:磁性搅拌部件,
[0017] 在所述水槽的底部还设置有磁性部件,当所述磁性部件相对于所述磁性搅拌部件 运动时,所述磁性搅拌部件在所述样品杯内运动。
[0018] 可选地,所述搅拌部件为:悬挂在所述上盖下方的磁性吊球。
[0019] 可选地,在所述上盖上设置有一通孔,在所述通孔内贯穿有一吊绳,所述磁性吊球 连接在所述吊绳的底端,在所述吊绳的顶部固定有一悬挂块,所述悬挂块覆盖在所述通孔 的顶部。
[0020] 由上可见,应用本实施例技术方案,由上可见,应用本实施例技术方案,在进行化 学镀膜实验时,可以分别在各个样品杯的密封下盖顶部放置镀膜基片,由于密封下盖与杯 体底部开口的密封配合使镀膜基片的底面密封覆盖在密封下盖顶部而禁止与溶液接触,只 有顶面露出在杯体的内腔内与溶液接触,可见利用本实施例技术方案可以方便地实现镀膜 基片的单面镀膜,且单面镀膜的镀膜基片安装方便,且采用本实施例技术方案确保镀膜基 片的镀膜面时刻与溶液完全接触,有利于确保确保镀膜的均匀性。
[0021] 另外,本实施例在进行化学镀膜实验时,可以将多个样品杯(各样品杯内均装有 溶液以及镀膜基片)装在同一个转盘上,在装好后将转盘上的纵向螺杆固定在托架的横臂 上,然后调节纵向螺杆的升降使各样品杯的下部浸泡在水槽的液体中,利用水槽内的高温 液体加热各样品杯内的溶液,提高各样品杯内的化学镀膜反应效率,确保各样品杯的化学 镀膜实验环境的均一性。同时,在实验时,启动水槽中的超声波发生器,超声波发生器基于 水槽内的液体以及样品杯内的溶液以超声波能量,加剧液体以及溶液的的微观粒子运动, 避免溶液在镀膜基片表面形成液面镜或者钝化膜而影响化学镀效果,另外,实验证明,由于 在化学镀膜过程中溶液的微观粒子高速运动,溶液在镀膜基片表面的活跃度大幅度提升, 使在镀膜基片表面形成的镀膜光滑度大大提升,达到抛光的效果。具体实验结果对比参见 实验数据分析所示。
【附图说明】
[0022] 此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解,构成本申请的一部分,并不 构成对本发明的不当限定。
[0023] 图1为本发明实施例1提供的超声波多通道自反应化学镀膜仪器的样品杯浸泡在 水槽中时的结构示意图;
[0024] 图2为本发明实施例1提供的超声波多通道自反应化学镀膜仪器升起在水槽上方 时的结构不意图;
[0025] 图3为本发明实施例1提供的杯架的主视示意图;
[0026] 图4为本发明实施例1提供的转盘的俯视结构示意图;
[0027] 图5为本发明实施例1提供的杯体的剖视结构示意图;
[0028] 图6为本发明实施例1提供的密封下盖的剖视结构示意图;
[0029] 图7为本发明实施例1提供的上盖的剖视结构示意图。
[0030] 附图标记:
[0031] 10:托架; 10:立柱; 11:横臂; 12:电机;
[0032] 13:第一螺纹帽; 14:第二螺纹帽;2:水槽; 3:杯架;
[0033] 31:纵向螺杆; 32:转盘; 321:杯座; 4 :样品杯;
[0034] 41:杯体; 411:凸棱; 412:通孔;
[0035] 42:密封上盖; 43:密封下盖; 431:凹台; 5 :镀膜基片;
[0036] 6 :搅拌部件; 7 :磁性物质; 8:吊绳。
【具体实施方式】
[0037] 下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本发明,在此本发明的示意性实施例 以及说明用来解释本发明,但并不作为对本发明的限定。
[0038] 参见图1-7所示,本实施例提供了一种超声波多通道自反应化学镀膜仪器,其主 要包括:托架1、水槽2、杯架3以及可置于杯架3上的多个样品杯4。
[0039] 其中托架1包括立柱10以及设置在立柱10顶部的横臂11,水槽2位于立柱10的 底部且位于横臂11的下方,杯架3包括纵向螺杆31、转盘32,纵向螺杆31安装在托架1的 横臂11上,转盘32连接在纵向螺杆31的底部,在转盘32上设置有至少两个上下贯穿的杯 座321,譬如该杯座321的个数为3个、四个、六个、八个等,样品杯4的个数与杯托的个数相 应。
[0040] 每样品杯4可分别置于一杯座321上,本实施例的样品杯4包括上下均开口的杯 体41、覆盖在杯体41顶部开口的上盖42、以及密封安装在杯体41底部开口的密封下盖43。
[0041] 当样品杯4置于杯座321上时,杯体41的下部从杯座321下伸出且露出在转盘32 的下方,此时调节纵向螺杆31升降可使杯体41的下部伸入水槽2内,被水槽2内的液体 (一般为水)所浸泡。在对镀膜基片5进行镀膜时,将待镀的镀膜基片5置于密封下盖43 的顶面,当将密封下盖43密封连接在杯体41的底部后,镀膜基片5紧固在密封下盖43与 杯体41之间,镀膜基片5的顶面露出在杯体41的内腔内,底面被紧压密封覆盖在密封下盖 43的顶面而不与样品杯4内的溶液接触,当样品杯4内装有溶液时,溶液与镀膜基片5的顶 面接触,发生化学反应,在镀膜基片5的顶面形成薄膜,实现化学镀膜。
[0042] 作为本实施例的示意,具体使转盘32的中心贯穿固定在纵向螺杆31的底部,在转 盘32上设置多个杯座321 (其可
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