本发明属于建筑材料生产领域，更具体地说，本发明涉及一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖及其制备方法。
背景技术：
冶炼矿渣制备的建筑用空心砖是一种建筑用的免烧砖，免烧砖的特性是其它任何墙体砖没有的，用合理的科学配方，按一定的比例加入凝固剂及微量化学添加剂，使粒度、湿度、混合程度用合理的设备工艺强化处理，达到最佳可塑状态，后经高压压制成型，使砖体迅速硬化，时间越长，效果越好，砖的实用性好，砌墙时不用浸泡，外观整齐，由于该种材料强度高、耐久性好、尺寸标准、外形完整、色泽均一，具有古朴自然的外观，可做清水墙也可以做任何外装饰，因此，与粘土砖相比空心砖的建筑成本更低，空心砖无需烧制，节省了能源，但是，现有技术的空心砖因为配比不合理，导致其强度和外观难以满足建筑的设计要求。
技术实现要素：
本发明所要解决的技术问题是提供一种保证现代建筑强度满足建筑的设计要求的使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖及其制备方法。
为了实现上述目的，本发明采取的技术方案为：所提供的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖，由下述按重量份的原料组成：冶炼矿渣30~45份；生石灰8~16份；生石膏4~8份；水玻璃10~18份；水泥10～15份。
本发明公开的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖，冶炼矿渣为炼铁的矿渣。
本发明还公开的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，包括如下步骤：原料处理，搅拌混合，压制成型，养护，成品。
本发明公开的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，原料处理将所有原料加工成粉末状，其中粉末的颗粒度为80目筛下物。
本发明公开的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，搅拌混合将粉末状的所有原料混合均匀，备用。
本发明公开的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，压制成型是将混合均匀的原料按照设计的规格压制成型。
本发明公开的一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，养护是将砖坯之间无间隙摆放，垛高12层，喷水自然养护10~15天，28天后即为成品。
采用本发明的技术方案，炼铁的矿渣含有较高的氧化硅，氧化铝，氧化铁，经与其它原料混合后，充分水化形成硅，铝型玻璃体，这种玻璃体与水化后的氧化钙化合，产生化学反应，称之为 “火山灰反应”，生成水化硅(铝)酸钙，水化硅(铝)酸钙是一种胶状玻璃体，这种胶状玻璃体随时间的延续反应，逐渐凝固，形成一种高强度的网络结构，加之原料合理调配及养护，从而形成了很高的强度，采用本发明公开的组分及制备方法生产的建筑用空心砖，抗压强度、耐腐蚀、耐高温各种技术指标优于粘土烧结砖，保证现代建筑的强度，满足建筑的设计要求。
以下将结合实施例，对本发明进行较为详细的说明。
具体实施方式
下面通过对实施例的描述，对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理、制造工艺及操作使用方法等，作进一步详细的说明，以帮助本领域的技术人员对本发明的发明构思、技术方案有更完整、准确和深入的理解。
实施例1
本发明一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖，原料组分：冶炼铁的矿渣30kg；生石灰12kg；生石膏6kg；水玻璃15kg；水泥15kg；
使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，包括如下步骤：
1）原料处理：将所有原料加工成粉末状，其中粉末的颗粒度为80目筛下物：
2）搅拌混合：将粉末状的所有原料混合均匀，备用；
3）压制成型：将混合均匀的原料按照设计的规格压制成型；
4）养护：砖坯之间无间隙摆放，垛高12层，喷水自然养护10~15天，28天后即为成品。
实施例2
本发明一种使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖，原料组分：冶炼矿渣45kg；生石灰8kg；生石膏8kg；水玻璃18kg；水泥12kg；
使用冶炼矿渣制备的建筑用空心砖的方法，包括如下步骤：
1）原料处理：将所有原料加工成粉末状，其中粉末的颗粒度为80目筛下物：
2）搅拌混合：将粉末状的所有原料混合均匀，备用；
3）压制成型：将混合均匀的原料按照设计的规格压制成型；
4）养护：砖坯之间无间隙摆放，垛高12层，喷水自然养护10~15天，28天后即为成品。
将上述制得的空心砖按照国家标准测试，其抗压强度：18~19.6 Mpa；耐腐蚀、耐高温各种技术指标优于粘土烧结砖。
采用本发明的技术方案，炼铁的矿渣含有较高的氧化硅，氧化铝，氧化铁，经与其它原料混合后，充分水化形成硅，铝型玻璃体，这种玻璃体与水化后的氧化钙化合，产生化学反应，称之为 “火山灰反应”，生成水化硅(铝)酸钙，水化硅(铝)酸钙是一种胶状玻璃体，这种胶状玻璃体随时间的延续反应，逐渐凝固，形成一种高强度的网络结构，加之原料合理调配及养护，从而形成了很高的强度，采用本发明公开的组分及制备方法生产的建筑用空心砖，抗压强度、耐腐蚀、耐高温各种技术指标优于粘土烧结砖，保证现代建筑的强度，满足建筑的设计要求。
上面对本发明进行了示例性描述，显然本发明具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本发明的方法构思和技术方案进行的各种非实质性的改进，或未经改进将本发明的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本发明的保护范围之内。