技术领域：
本发明涉及适合作为各种显示器用基板玻璃的、实质上不含有碱金属氧化物、容易成形为板状、且抑制了紫外线透射率的面内分布的无碱玻璃基板。
背景技术：
：以往，对于各种显示器用基板玻璃、特别是在表面形成金属或氧化物薄膜等的玻璃而言，含有碱金属氧化物时，碱金属离子扩散到薄膜中使得膜特性劣化，因此要求其为实质上不含有碱金属离子的无碱玻璃。在制造以液晶显示装置(LCD)为代表的平板显示器(FPD)时，使用固化性树脂将构成该FPD的两片基板玻璃(LCD的情况下，设置有TFT元件的基板玻璃与设置有滤色片的基板玻璃)贴合。此时，FPD中存在TFT元件等耐热性成为问题的构成要素，因此使用光固化性树脂作为固化性树脂，通过紫外线照射使树脂固化。因此，要求显示器用基板玻璃具有紫外线透射性，在专利文献1和2中，提出了300nm的紫外线透射率在厚度为0.5mm情况下为50％～85％的无碱玻璃基板。对于显示器用基板玻璃而言，除了紫外线透射率为期望的范围，还优选紫外线透射率在显示器用基板玻璃的整个面上是均匀的、即紫外线透射率的面内分布小。例如，存在如下所述的聚合物取向稳定化(PolymerStabilizedAlignment；以下称为“PSA”)技术(参见专利文献3)，即：向填充在LCD的液晶层中的液晶材料中添加光聚合性单体，在使液晶分子向规定方向倾斜的状态下进行光照射从而在取向膜附近形成聚合物，由此使液晶材料的分子取向稳定化。为了应对该技术，对于显示器用基板玻璃而言，要求紫外线透射率的面内分布小。显示器用基板玻璃的紫外线透射率的面内分布大时，需要根据显示器用基板玻璃的部位来改变紫外线的照射条件，从而液晶显示面板的成品率降低。另外，在LCD、有机EL显示装置(OLED)、特别是手提电话、手机等便携式显示装置的领域中，显示装置的轻量化、薄型化成为重要课题。为了应对该课题，期望进一步减小在显示装置中使用的显示器用基板玻璃的板厚。作为减小板厚的方法，通常进行如下方法：在基板玻璃的表面形成显示装置用构件之前或形成之后，使用氢氟酸等对基板玻璃进行蚀刻处理，并根据需要进一步进行物理研磨而变薄。但是，在基板玻璃的表面形成显示装置用构件之前进行蚀刻处理等而使基板玻璃变薄时，基板玻璃的强度降低，挠曲量也增大。因此，出现了利用现有的生产线不能进行处理这样的问题。另外，在基板玻璃的表面形成显示装置用构件之后进行蚀刻处理等而使基板玻璃变薄时，在基板玻璃的表面形成显示装置用构件的过程中，出现了在基板的玻璃表面上形成的微细的裂纹变得明显这样的问题、即出现了产生边缘凹坑(エッジピット)这样的问题。因此，以解决这样的问题为目的，提出了下述方法等：将板厚薄的基板玻璃(薄板基板玻璃)与其他支撑基板玻璃贴合而制成层叠体，在这样的状态下实施用于制造显示装置的规定处理，然后使薄板基板玻璃与支撑基板玻璃分离(参见专利文献4)。作为使薄板基板玻璃与支撑基板玻璃分离的方法，如专利文献5中记载的方法那样，也能够应用对基板表面扫描照射激光束的方法。为了应对该技术，对于显示器用基板玻璃而言，要求光线透射率的面内分布小。显示器用基板玻璃的光线透射率的面内分布大时，需要根据显示器用基板玻璃的部位来改变激光束的照射条件，从而显示装置的成品率降低。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2006-36625号公报专利文献2：日本特开2006-36626号公报专利文献3：日本特开2009-53544号公报专利文献4：日本特开2009-184172号公报专利文献5：日本特开2012-104093号公报技术实现要素：发明所要解决的问题近年来，对于像智能手机那样的便携式终端等高精细小型显示器而言，作为高品质的p-SiTFT的制造方法，采用利用激光退火的方法，为了进一步减小收缩率，要求应变点高的玻璃。另外，随着玻璃基板的大板化、薄板化，为了抑制运送时的玻璃基板的挠曲，要求杨氏模量高、比模量(杨氏模量/密度)高的玻璃。本发明的目的在于提供一种可解决上述缺点、紫外线透射率高、紫外线透射率的面内分布小、应变点高、杨氏模量高、且在基板制造时容易成形为板状的无碱玻璃基板。用于解决问题的手段为了实现上述目的，本发明提供一种无碱玻璃基板，其应变点为680℃以上，杨氏模量为78GPa以上，波长300nm的紫外线透射率以0.5mm的厚度换算为40％～85％，在G6尺寸的基板中300nm的紫外线透射率的面内分布以0.5mm的厚度换算为1％以下，通过恒速冷却法求出的玻璃化转变温度附近的平均冷却速度为400℃/分钟以下，该平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下，并且以基于氧化物的质量百分率表示，所述无碱玻璃基板含有：本发明的无碱玻璃基板优选：卤素元素的总量以基于氧化物的质量百分率表示为0.001％～1％。本发明的无碱玻璃基板优选：Fe含量(以Fe2O3换算的质量百分率表示)的面内分布为0.001％～0.003％。另外，为了实现上述目的，本发明提供一种无碱玻璃基板的制造方法，其为制造具有SiO2-Al2O3-RO(RO为MgO、CaO、BaO以及SrO中的一种以上)系的组成的无碱玻璃的方法，其特征在于包括：调配玻璃原料以得到如下的无碱玻璃的工序，所述无碱玻璃的应变点为680℃以上、杨氏模量为78GPa以上、波长300nm的紫外线透射率以0.5mm的厚度换算为40％～85％、并且，以基于氧化物的质量百分率表示含有：控制成形时和缓慢冷却时的温度条件使得通过恒速冷却法求出的玻璃化转变温度附近的平均冷却速度为400℃/分钟以下、该平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下、在G6尺寸的基板中波长300nm的紫外线透射率的面内分布以0.5mm的厚度换算为1％以下的工序。本发明的无碱玻璃基板的制造方法优选：卤素元素的总量以基于氧化物的质量百分率表示为0.001％～1％。本发明的无碱玻璃基板的制造方法优选：Fe含量的面内分布以Fe2O3换算的质量百分率表示为0.001％～0.003％。发明效果本发明的无碱玻璃基板在基板制造时容易成形为板状。另外，本发明的无碱玻璃基板的紫外线透射率高、且紫外线透射率的面内分布小，因此用作FPD的基板玻璃时成品率提高。具体实施方式对本发明的无碱玻璃基板进行说明。本发明的无碱玻璃基板(以下也称为“本发明的玻璃基板”)含有SiO2、Al2O3、SnO2以及Fe2O3作为必要成分，含有B2O3、MgO、CaO、SrO、BaO以及ZrO2作为任选成分。接下来，对各成分的组成范围进行说明。SiO2小于50％(质量％，以下只要没有特别说明则同样为质量％)时，应变点不会充分提高，且热膨胀系数增大，密度升高。优选为52％以上、更优选为54％以上、进一步优选为56％以上。大于73％时，玻璃制造时的熔化性降低，玻璃粘度为102dPa·s时的温度T2及玻璃粘度为104dPa·s时的温度T4升高，失透温度升高。优选为70％以下、更优选为68.5％以下、进一步优选为67％以下。Al2O3抑制玻璃的分相性、降低热膨胀系数、提高应变点，但小于10.5％时不会表现出这样的效果，另外，由于使其它的提高膨胀系数的成分增加，因此结果是玻璃的热膨胀增大。优选为12.5％以上、更优选为14.5％以上、进一步优选为16.5％以上。大于24％时，有可能使制造时的玻璃的熔化性变差、或者使失透温度升高。优选为23％以下、更优选为22.5％以下、进一步优选为22％以下。B2O3不是必须的，但改善制造时的玻璃的熔化反应性、使失透温度降低、改善耐BHF性，因此可以含有。但是，过多时，应变点降低、杨氏模量减小，因此设定为5％以下。优选为4％以下。为了得到上述作用，优选为0.5％以上、更优选为0.8％以上、进一步优选为1％以上、特别优选为1.2％以上。MgO在碱土类中具有不使膨胀系数提高、且使密度维持在较低的状态下提高杨氏模量这样的特性，在玻璃制造时还可使熔化性提高，因此可以含有。但是，过多时，失透温度升高，因此设定为10％以下。优选为8％以下、更优选为7.5％以下、进一步优选为7％以下。为了得到上述作用，优选为1％以上、更优选为2％以上、进一步优选为3％以上。CaO居于MgO之后，在碱土类中具有不使膨胀系数提高、且使密度维持得较低的状态下提高杨氏模量这样的特性，还可以使玻璃制造时的熔化性提高，因此可以含有。但是，过多时，有可能失透温度升高、或者混入大量作为CaO的原料即石灰石(CaCO3)中的杂质的磷，因此设定为14.5％以下。优选为10％以下、更优选为8.5％以下、进一步优选为7％以下。为了得到上述作用，优选为1％以上、更优选为2％以上、进一步优选为3％以上。SrO不使玻璃的失透温度升高、且使玻璃制造时的熔化性提高，因此可以含有。但是，过多时，有可能膨胀系数增大，因此设定为24％以下。优选为12％以下、更优选为10.5％以下、进一步优选为9％以下。为了得到上述作用，优选为1.5％以上、更优选为2％以上、进一步优选为2.5％以上。BaO不是必须的，但在玻璃制造时提高熔化性，因此可以含有。但是，过多时，会使玻璃的膨胀系数和密度过度增加，因此设定为20％以下。优选为13.5％以下、更优选为10％以下、进一步优选为8％以下、特别优选为6％以下。为了得到上述作用，优选为0.1％以上、更优选为0.5％以上、进一步优选为1％以上。为了使玻璃制造时的熔融温度降低、或者为了促进烧制时的晶体析出，ZrO2设定为5％以下。大于5％时，玻璃变得不稳定、或者玻璃的相对介电常数ε增大。优选为1.5％以下、更优选为1％以下、进一步优选为0.5％以下、特别优选实质上不含有。MgO、CaO、SrO、BaO以总量计少于8％时，玻璃粘度为104dPa·s时的温度T4升高，有可能会使将玻璃成形为板状时所使用的设备、浮法成形的情况下会使浮抛窑的壳体结构物、加热器的寿命变得极短。优选为10％以上、更优选为11.5％以上、进一步优选为13％以上。多于29.5％时，有可能会产生不能减小热膨胀系数这样的问题。优选为22％以下、更优选为20％以下、进一步优选为18％以下。为了提高玻璃制造时的澄清性，优选含有SnO2。SnO2在将玻璃原料熔化而得到的玻璃熔液中产生O2气。在玻璃熔液中，在1450℃以上的温度下从SnO2还原成SnO，产生O2气，发挥使气泡大幅生长的作用，为了使气泡更有效地变大，优选在1500℃以上将玻璃原料熔化。玻璃中的Sn含量以SnO2换算为0.01％以上。SnO2小于0.01％时，不能得到玻璃熔化时的澄清作用。优选为0.05％以上、更优选为0.1％以上。SnO2大于1％时，有可能会产生玻璃的着色、失透，因此玻璃中的Sn含量以SnO2换算为1％以下、优选为0.5％以下、进一步优选为0.3％以下。需要说明的是，Sn含量不是玻璃原料中的投入量，而是在玻璃熔液中残留的量。关于这一点，对于后述的Fe含量、F含量以及Cl含量也是同样的。玻璃中含有Sn4+的情况下，在将玻璃冷却的过程中，玻璃中的Sn被氧化而Fe被还原，由此玻璃的紫外线透射率升高。Fe2O3通过Fe2+离子所带来的红外线吸收效果而具有在玻璃制造时提高熔化槽中的熔融玻璃的温度、降低熔化槽的底板温度的作用。因此，玻璃中的Fe含量以Fe2O3换算为0.005％以上、优选为0.01％以上、更优选为0.02％以上、特别优选为0.04％以上。但是，过多时，存在玻璃的着色、紫外线透射率降低的问题，因此设定为0.1％以下。优选为0.07％以下、更优选为0.055％以下、特别优选为0.045％以下。在本发明的无碱玻璃基板中，卤素元素不是必须的，但可以为了使玻璃制造时的澄清性提高而含有。作为出于上述目的使用的卤素元素，从澄清性的观点出发，优选F及Cl。F的含量小于0.001质量％时，有可能降低玻璃原料的熔化时的澄清作用。优选为0.005质量％以上、更优选为0.01质量％以上、进一步优选为0.02质量％以上、特别优选为0.03质量％以上。F含量大于0.15质量％时，所制造的玻璃的应变点降低。优选为0.12质量％以下、进一步优选为0.1质量％以下。Cl含量小于0.001质量％时，玻璃原料的熔化时的澄清作用降低。优选为0.005质量％以上、进一步优选为0.01质量％以上。Cl含量大于0.35质量％时，玻璃中的水分浓度降低，澄清性变差。优选为0.25质量％以下、进一步优选为0.2质量％以下。需要说明的是，卤素元素的含量以总量计优选为0.001质量％以上。含量小于0.001质量％时，玻璃原料的熔化时的澄清作用降低。优选为0.01质量％以上、进一步优选为0.03质量％以上。另外，卤素元素的含量以总量计优选为1质量％以下。含量大于1质量％时，有可能应变点过度降低。优选为0.7质量％以下、进一步优选为0.5质量％以下。需要说明的是，为了在面板制造时不产生设置于玻璃表面的金属或氧化物薄膜的特性劣化，本发明的无碱玻璃基板不含有超过杂质水平的(即实质上不含有)碱金属氧化物。另外，为了使玻璃的回收容易，优选实质上不含有PbO、As2O3、Sb2O3。进一步出于同样的理由，P2O5含量优选为实质上不含有。作为杂质的混入量优选为23摩尔ppm以下、更优选为23摩尔ppm以下、进一步优选为18摩尔ppm以下、特别优选为11摩尔ppm以下。为了改善玻璃制造时的熔化性、澄清性、成形性，本发明的无碱玻璃基板除上述成分以外还可以添加以总量计为5％以下的ZnO及SO3。本发明的无碱玻璃的应变点优选为680℃以上、更优选为690℃以上、进一步更优选为700℃以上、进一步优选为710℃以上。本发明的无碱玻璃的杨氏模量优选为78GPa以上、更优选为79GPa以上、80GPa以上、进一步为81GPa以上、进一步优选为82GPa以上。本发明的无碱玻璃基板的波长300nm的紫外线透射率以0.5mm的厚度换算为40％～85％。制造FPD时，在构成该FPD的两片基板玻璃的贴合中使用的紫外线主要是波长300nm附近的波长的紫外线。两片基板玻璃在波长300nm的紫外线透射率低时，利用紫外线固化树脂将两片基板玻璃贴合需要长时间。即，即使对紫外线固化树脂照射紫外线，由于容易被基板玻璃吸收，因此使树脂固化需要花费时间。本发明的无碱玻璃基板的波长300nm的紫外线透射率以0.5mm的厚度换算为40％以上，因此作为构成FPD的基板玻璃使用的情况下，紫外线固化树脂的固化不需要长时间。玻璃基板的紫外线透射率还因基板的厚度而不同。在本发明中，为了排除基板的厚度所带来的影响，标准化为厚度0.5mm换算的紫外线透射率。300nm的紫外线透射率优选为45％以上、更优选为50％以上。但是，紫外线透射率过高时，照射紫外线时，有可能氧化物半导体中的Vth特性偏移等、TFT元件的特性变化、FPD的构成要素的特性受损。本发明的无碱玻璃基板的波长300nm的紫外线透射率以0.5mm的厚度换算为85％以下，因此不用担心耐热性成为问题的FPD的构成要素在紫外线照射时发生破损。优选为80％以下、更优选为75％以下。本发明的无碱玻璃基板除了波长300nm的紫外线透射率为上述范围以下之外，该紫外线透射率的面内分布也少。具体而言，波长300nm的紫外线透射率的面内分布在G6尺寸的基板(典型地为1850mm×1500mm)中以0.5mm的厚度换算为1％以下、优选为0.5％以下。因此，作为构成FPD的基板玻璃使用的情况下，无需根据基板玻璃的部位来改变紫外线的照射条件。本发明的无碱玻璃基板的波长300nm的紫外线透射率的面内分布在G7尺寸的基板(典型地为1870mm×2200mm)中以0.5mm的厚度换算为1％以下、进一步更优选为0.5％以下、在G8尺寸的基板(典型地为2460mm×2160mm)中以0.5mm的厚度换算为1％以下、进一步优选为0.5％以下。需要说明的是，在本说明书中，并不限定于透射率，面内分布是指面内的其值的最大值与最小值之差。对于本发明的无碱玻璃基板而言，为了使紫外线透射率及其面内分布满足上述数值范围，通过恒速冷却法求出的玻璃化转变温度附近的平均冷却速度及其面内分布满足以下所示的条件。本申请发明人对无碱玻璃基板的紫外线透射率的面内分布进行了深入研究，结果得出如下见解。(1)无碱玻璃基板含有Fe时，其紫外线透射率根据无碱玻璃基板中所含的全部铁中的二价铁的比例(所谓的Redox)而变化。因此，无碱玻璃基板中存在Redox的面内分布的情况下，会产生紫外线透射率的面内分布。需要说明的是，也有可能因无碱玻璃基板中的Fe含量存在面内分布而产生紫外线透射率的面内分布。因此，优选Fe含量的面内分布也小。但是，使Fe的浓度的面内分布变得极小在制造上是困难的。在本发明中，Fe含量(以Fe2O3换算)的面内分布优选为0.001％～0.003％。为了使Fe含量(以Fe2O3换算)的面内分布达到小于0.001％，需要使冷却速度较后述的条件进一步降低、或者使加热器密度相当高，制造上是困难的。另一方面，大于0.003％时，有可能产生紫外线透射率的面内分布。(2)无碱玻璃基板的Redox根据玻璃制造时的熔化温度、冷却速度而变化，无碱玻璃基板的Redox的面内分布主要受玻璃制造时的冷却速度影响。(3)玻璃的冷却速度根据其制造工序而不一样，冷却速度根据温度范围而不同。但是，以恒定冷却速度从高温进行冷却(恒速冷却)而得到的玻璃的假想温度与冷却速度成线性关系，因此可以将假想温度替代定义为恒速冷却时的冷却速度。在本说明书中，将其设定为通过恒速冷却法求出的玻璃化转变温度附近的平均冷却速度。需要说明的是，更具体而言，通过恒速冷却法求出的玻璃化转变温度附近的平均冷却速度通过如下所述的步骤求出。将玻璃在比玻璃化转变温度高约100℃的温度下保持10分钟后，以0.1℃/分钟、1℃/分钟、10℃/分钟、100℃/分钟、1000℃/分钟实施上述以恒定冷却速度进行冷却的实验，测定所有的玻璃的折射率，由此可以以标准曲线的方式得到折射率与冷却速度的关系。然后，测定实际样品的折射率，根据标准曲线求出冷却速度。以下，在本说明书中，记载为“平均冷却速度”时是指通过恒速冷却法求出的玻璃化转变温度附近的平均冷却速度。(4)若使平均冷却速度为规定的数值以下，并且，减小其面内分布，则能够减小无碱玻璃基板的Redox的面内分布，能够减小紫外线透射率的面内分布。本发明的无碱玻璃基板的平均冷却速度为400℃/分钟以下，该平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下。无碱玻璃基板的平均冷却速度为400℃/分钟以下时，无碱玻璃基板的紫外线透射率为上述范围，紫外线透射率的面内分布减小。无碱玻璃基板的平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下(±20℃/分钟以下)时，无碱玻璃基板的紫外线透射率的面内分布足够小，在G6尺寸的基板中以0.5mm的厚度换算为1％以下。对于本发明的无碱玻璃基板而言，优选其平均冷却速度为300℃/分钟以下、该平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下(±20℃/分钟以下)；进一步优选其平均冷却速度为220℃/分钟以下、该平均冷却速度的面内分布为30℃/分钟以下(±15℃/分钟以下)；特别优选其平均冷却速度为150℃/分钟以下、该平均冷却速度的面内分布为30℃/分钟以下(±15℃/分钟以下)。本发明的无碱玻璃基板可以通过例如如下所述的方法制造。调配通常使用的各成分的原料以形成应变点为680℃以上、杨氏模量为78GPa以上、波长300nm的紫外线透射率以0.5mm的厚度换算为40％～85％的目标成分，将其连续地投入到熔化炉中，加热至1500～1800℃进行熔化。将该熔融玻璃通过各种成形法(浮法、下拉法、熔融法等)成形为规定的板厚，缓慢冷却后进行切割，由此可以得到无碱玻璃基板。在本发明中，需要控制成形时和缓慢冷却时的温度条件使得平均冷却速度为400℃/分钟以下、该平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下、在G6尺寸的基板中波长300nm的紫外线透射率的面内分布以0.5mm的厚度换算为1％以下。在此，为了减小平均冷却速度的面内分布，优选在成形时及缓慢冷却时从侧面侧开始加热玻璃带。实施例下述中，例1、3、5、7、9、11、13、15、17、19、21、23、25、27、29、31、33、35、37、39、41、43、45、47为实施例，例2、4、6、8、10、12、14、16、18、20、22、24、26、28、30、32、34、36、38、40、42、44、46、48为比较例。调配各成分的原料以形成目标组成并进行熔化。接着，在实施例中，强化成形炉及缓慢冷却炉的侧壁部分的保温，着眼于玻璃的温度分布而调节缓慢冷却炉的加热器的温度分布从而使得玻璃的温度分布比以往更好(变得更均匀)。在比较例中，成形炉及缓慢冷却炉的侧壁部分的保温如通常一样，与实施例相比保温较弱，没有着眼于玻璃的微小的温度分布而如以往一样调节缓慢冷却炉的加热器的温度分布。表1中，示出了玻璃1～8的玻璃组成(单位：质量％)和50～350℃下的热膨胀系数(单位：×10-7/℃)、应变点(单位：℃)、玻璃化转变温度(单位：℃)、比重、杨氏模量(GPa)(通过超声波法测定)、作为高温粘性值的作为熔化性的基准的温度T2(玻璃粘度η为102泊时的温度、单位：℃)和作为浮法成形性以及熔融成形性的基准的温度T4(玻璃粘度η为104泊时的温度、单位：℃)、失透温度(单位：℃)、光弹性常数(单位：nm/MPa/cm)(通过圆板压缩法在测定波长为546nm进行测定)。表2中，示出在例1～48中使用的玻璃、平均冷却速度(单位：℃/分钟)、平均冷却速度的面内分布(单位：℃/分钟)、波长300nm的平均面内透射率平均(单位：％)、波长300nm的透射率的面内分布(单位：％)。需要说明的是，各例中使用的玻璃的尺寸为G6尺寸(1850mm×1500mm×0.5mm)。需要说明的是，可以从G6尺寸的板切割出多个50mm×50mm的样品，通过测定各样品的透射率及折射率求出平均面内透射率及透射率的面内分布。玻璃的透射率利用日立紫外可见近红外分光光度计4U-4100进行测定。折射率测定中使用了岛津装置制造制的精密折射率仪KPR-2000。[表1]质量％玻璃1玻璃2玻璃3玻璃4玻璃5玻璃6玻璃7玻璃8SiO260.960.961.361.360.559.361.663.6Al2O319.719.720.420.518.820.019.720B2O32.52.5114.81.83.70MgO5.25.25.75.74.34.13.87CaO4.44.44.54.54.11.65.59.4SrO776.96.97.58.75.70BaO000004.500SnO20.200.180.150.100.100.050.030.50F0.070.070000.070.070Cl0.2000.060.060.20.20Fe2O30.040.0150.040.0150.0080.0270.050.017平均热膨胀系数[×10-7/℃]3939393939403940应变点[℃]710710723723693712715733玻璃化转变温度[℃]775775790790750793762792比重2.572.572.592.592.552.612.532.55杨氏模量[GPa]8484878782828291T2[℃]16501650165016501640170216601622T4[℃]12901290129512951287133313001281失透温度[℃]12801280129012901235131212651255光弹性常数[nm/MPa/cm]2828272728272826[表2]由表明显可知，由于实施例的玻璃均是平均冷却速度的面内分布为40℃/分钟以下、在G6尺寸的基板中波长300nm的紫外线透射率的面内分布为1％以下，因此认为在作为FPD基板玻璃使用时，成品率提高。参考特定的实施方式对本发明详细地进行了说明，但在不脱离本发明的范围和精神的情况下可以进行各种修改和变更，这对本领域技术人员而言是显而易见的。本申请基于2013年4月23日提出的日本专利申请2013-090141，将其内容作为参照援引于此。产业上的可实用性本发明的无碱玻璃基板容易成形为板状，并且抑制了紫外线透射率的面内分布，因此适合作为各种显示器用基板玻璃。当前第1页1 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