本发明涉及玻璃工艺技术领域，具体为一种导电玻璃的制造方法。
背景技术：
玻璃是由二氧化硅和其他化学物质熔融在一起形成的(主要生产原料为：纯碱、石灰石、石英)。在熔融时形成连续网络结构，冷却过程中粘度逐渐增大并硬化致使其结晶的硅酸盐类非金属材料，现在广泛应用在建筑、科技和电子产品之中，然而普通玻璃为一种绝缘体，对产品的适用性不是很高，极大的限制了玻璃制品在社会之中的适用范围。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种可以进行电传导的导电玻璃的制造方法，以解决背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种导电玻璃的制造方法，包括玻璃基层制造方法和导电膜层，所述玻璃基层制造方法包括配料、溶制、成型和退火，所述导电膜层的组成材料包括氧化铟、氧化锌和氧化锡，所述氧化铟的体积百分比为20％-60％，所述氧化锌的体积百分比为20％-60％，所述氧化锡的体积百分比为20％-60％。
优选的，所述玻璃基层制造方法包括以下步骤：
(1)配料：按照设计好的料方单，将各种原料称量后按照一定比例在混料机内混合均匀；
(2)溶制：将混合好的配料投入池窑内，所述池窑内部温度设置为1300℃-1600℃，将配好的原料经过高温加热，形成均匀无气泡的玻璃液；
(3)成型：将溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一种形态，所述玻璃成型过程中温度大约在900℃-1250℃之间，热膨胀系数5.0X10-7；
(4)退火：将已经成型的玻璃基层由退火炉的入口放入，由退火炉出口取出，所述退火过程持续进行3-5min，所述退火炉温度控制在550℃-570℃之间。
优选的，所述导电膜层通过平面磁控溅射的方式将导电膜层混合物质喷洒在玻璃基层的表面形成导电膜层，所述导电膜层的厚度应小于10纳米。
本发明采用完整的玻璃生产机制保证了玻璃基层的完整，不同的成型模具适应各种不同的技术领域，而多种混合的导电膜层混合成分保证了导电的持续性和稳定性。
具体实施方式
对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
实施例一：
一种导电玻璃的制造方法，包括玻璃基层制造方法和导电膜层，玻璃基层制造方法包括配料、溶制、成型和退火，导电膜层的组成材料包括氧化铟、氧化锌和氧化锡，氧化铟的体积百分比为30％，氧化锌的体积百分比为25％，氧化锡的体积百分比为45％。
玻璃基层制造方法包括以下步骤：
(1)配料：按照设计好的料方单，将各种原料称量后按照一定比例在混料机内混合均匀；
(2)溶制：将混合好的配料投入池窑内，池窑内部温度设置为1500℃，将配好的原料经过高温加热，形成均匀无气泡的玻璃液；
(3)成型：将溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一种形态，玻璃成型过程中温度设置为1100℃，热膨胀系数5.0X10-7；
(4)退火：将已经成型的玻璃基层由退火炉的入口放入，由退火炉出口取出，退火过程持续进行4min，退火炉温度控制在560℃。
导电膜层通过平面磁控溅射的方式将导电膜层混合物质喷洒在玻璃基层的表面形成导电膜层，导电膜层的厚度为8纳米。
将加工好的导电玻璃的制造方法用莫氏硬度进行测试，测试结果为6-6.5，导电玻璃的电阻为5-10欧姆，符合标准。
实施例二：
一种导电玻璃的制造方法，包括玻璃基层制造方法和导电膜层，玻璃基层制造方法包括配料、溶制、成型和退火，导电膜层的组成材料包括氧化铟、氧化锌和氧化锡，氧化铟的体积百分比为25％，氧化锌的体积百分比为20％，氧化锡的体积百分比为55％。
玻璃基层制造方法包括以下步骤：
(1)配料：按照设计好的料方单，将各种原料称量后按照一定比例在混料机内混合均匀；
(2)溶制：将混合好的配料投入池窑内，池窑内部温度设置为1550℃，将配好的原料经过高温加热，形成均匀无气泡的玻璃液；
(3)成型：将溶制完成后的玻璃液放入模具之中形成需要的一种形态，玻璃成型过程中温度设置为1050℃，热膨胀系数5.0X10-7；
(4)退火：将已经成型的玻璃基层由退火炉的入口放入，由退火炉出口取出，退火过程持续进行3.5min，退火炉温度控制在550℃。
导电膜层通过平面磁控溅射的方式将导电膜层混合物质喷洒在玻璃基层的表面形成导电膜层，导电膜层的厚度为9纳米。
将加工好的导电玻璃的制造方法用莫氏硬度进行测试，测试结果为6.8-7.5，导电玻璃的电阻为3-7欧姆，符合标准。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。