本实用新型涉及一种铸锭炉,特别涉及一种新型带有快速降温功能的铸锭炉。
背景技术:
目前,铸锭过程中首先将硅块放入二氧化硅材料的坩埚中,然后放入以石墨材料为电阻的加热装置中,慢慢将大量形状不一的硅块全部熔化为硅液,通过定向凝固,形成一个整体的硅块。常规加热器是固定在坩埚四周,由于加热坩埚局部位置,导致坩埚局部温度过高,温度差大,导致在冷却过程中时间过长,降低生产效率。为此,我们提出一种新型带有快速降温功能的铸锭炉。
技术实现要素:
本实用新型的主要目的在于提供一种新型带有快速降温功能的铸锭炉,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
一种新型带有快速降温功能的铸锭炉,包括支撑柱、坩埚、控制面板、加热板、底部加热板和冷却水缸,所述支撑柱一端设置有保温外壳,所述保温外壳上设置有控制面板,所述保温外壳顶部设置有加压阀门以及设置在加压阀门一侧的进料口,所述保温外壳底部设置有出料口,所述进料口底部设置有滤网以及设置在滤网一侧的坩埚,所述坩埚四周均设置有加热板,所述坩埚底部设置有底部加热板,所述底部加热板一端设置有冷却水管以及设置在冷却水管一端的冷却水缸。
进一步地,所述控制面板上设置有电源开关以及设置在电源开关一侧的加热板开关,所述加热板开关底部设置有底部加热板开关以及设置在底部加热板开关底部的冷却水缸开关,所述冷却水缸开关底部设置有出料口开关。
进一步地,所述支撑柱与保温外壳通过焊接的方式固定连接。
进一步地,所述控制面板与保温外壳通过焊接的方式固定连接。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:通过设置的加压阀门保证装置整体的气密性,便于内部快速的升温;通过设置的加热板,负责对坩埚的四周进行加热,使得物料融化,其中设置的底部加热板,负责对坩埚的底部进行加热,便于底部的快速升温,有助于物料的融化;通过设置的冷却水缸和冷却水管,有利于对底部加热板的快速降温,便于晶体硅方的快速凝结,有助于提高生产效率。
【附图说明】
图1为本实用新型新型带有快速降温功能的铸锭炉的整体结构示意图。
图2为本实用新型新型带有快速降温功能的铸锭炉的控制面板结构示意图。
图中:1、支撑柱;2、冷却水管;3、保温外壳;4、滤网;5、加压阀门;6、进料口;7、坩埚;8、控制面板;9、加热板;10、加热板;11、出料口;12、冷却水缸;13、电源开关;14、加热板开关;15、底部加热板开关;16、冷却水缸开关;17、出料口开关。
【具体实施方式】
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1-2所示,一种新型带有快速降温功能的铸锭炉,包括支撑柱1、坩埚7、控制面板8、加热板9、底部加热板10和冷却水缸12,所述支撑柱1一端设置有保温外壳3,所述保温外壳3上设置有控制面板8,所述保温外壳3顶部设置有加压阀门5以及设置在加压阀门5一侧的进料口6,所述保温外壳3底部设置有出料口11,所述进料口6底部设置有滤网4以及设置在滤网4一侧的坩埚7,所述坩埚7四周均设置有加热板9,所述坩埚7底部设置有底部加热板10,所述底部加热板10一端设置有冷却水管2以及设置在冷却水管2一端的冷却水缸12。
本实用新型新型带有快速降温功能的铸锭炉,通过设置的加压阀门5保证装置整体的气密性,便于内部快速的升温;通过设置的加热板9,负责对坩埚7的四周进行加热,使得物料融化,其中设置的底部加热板10,负责对坩埚7的底部进行加热,便于底部的快速升温,有助于物料的融化;通过设置的冷却水缸12和冷却水管2,有利于对底部加热板10的快速降温,便于晶体硅方的快速凝结,有助于提高生产效率。
其中,所述控制面板8上设置有电源开关13以及设置在电源开关13一侧的加热板开关14,所述加热板开关14底部设置有底部加热板开关15以及设置在底部加热板开关15底部的冷却水缸开关16,所述冷却水缸开关16底部设置有出料口开关17,便于操作,布局清晰。
其中,所述支撑柱1与保温外壳3通过焊接的方式固定连接,增加连接强度,避免发生松动或者脱落等现象。
其中,所述控制面板8与保温外壳3通过焊接的方式固定连接,增加连接的牢固程度,有利于长时间的使用。
需要说明的是,本实用新型为一种新型带有快速降温功能的铸锭炉,工作时,将物料通过进料口6放入坩埚7内,关闭加压阀门5,保证内部的气密性,通过设置的电源开关13将装置通电,然后通过设置的加热板开关14和底部加热板开关15将内部的温度升高,有利于物料的融化,生产完成后,将冷却水缸开关16打开,快速的降低坩埚7四周的温度,便于晶体硅方的凝结,最后打开出料口开关17将晶体硅方通过出料口11放出,完成生产。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。