一种食物系列瓷砖及其制造方法与流程

文档序号:11502899阅读:244来源:国知局
一种食物系列瓷砖及其制造方法与流程

本发明涉及瓷砖领域,更具体的,涉及一种食物系列瓷砖以及用于上述瓷砖制造的方法。



背景技术:

随着人们生活、消费水平以及对生活品质追求的提高,人们对于美感、立体感、个性艺术性的要求越来越高。瓷砖是广泛用于人们生活、工作、休闲的场所装修装饰的建筑材料。简单的平面化、缺乏立体层次感和纹理清晰度不够的瓷砖已经不再受到广大消费者的关注,而瓷砖精美的图案、丰富的色彩,多维的空间层次感等富有美感和时尚气息带有设计感的瓷砖吸引大众的眼球。本发明食物系列的设计有较高的艺术价值和较广的应用范围,在满足视觉效果与装饰性的同时,还具有工艺简单、造价低、不易磨损、不易褪色、耐腐蚀等诸多优良性能。

中国专利文献cn103992141b公开了一种抛釉砖的制造方法及其产品,方法包括如下步骤:a、将原料配料球磨进行喷雾造粒后压制形成砖坯,干燥后在所述砖坯上淋底釉;b、在所述步骤a后的所述砖坯上印花并干燥后,淋透明釉;c、在所述步骤b后的所述砖坯上印花并干燥后,再淋一层透明釉,然后干燥;d、在所述步骤c后的所述砖坯上再淋上一层透明釉,然后干燥;e、将所述步骤d后的所述砖坯入窑烧制后使用非弹性模块进行抛磨后,包装入库。所制得的产品在光线的照射下,光线经过两次透射和折射,使得花纹立体感强,交相辉映,自然大气,能够很好的实现仿天然石材的装饰效果。

现有的瓷砖在每次淋釉之后都会有干燥过程,然后才可以进行下一步操作。



技术实现要素:

为了克服现有技术的缺陷,本发明所要解决的技术问题在于提出一种食物系列瓷砖的制造方法,此方法通过喷淋釉料、喷墨打印等简单的改变喷淋不同釉料和釉料顺序来制造出造型精美的、立体感、个性艺术感、能够展现实物的纹理与质感的瓷砖,并且喷淋各种釉料之后无需经过特定的干燥过程,不仅减少了操作流程,简化工艺,还缩短了瓷砖的制作时间。

为达此目的,本发明采用以下技术方案:

一种食物系列瓷砖制造方法,其特征在于,按如下步骤实施:

s00生成砖坯:通过压机生成砖坯;

s10干燥砖坯:利用窑炉对所述砖坯进行干燥;

s20喷淋底釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋底釉;

s30喷淋效果釉或者面釉:利用高压喷釉柜在所述底釉表面喷淋效果釉或者面釉;

s40喷墨打印:利用喷墨打印机印制印花;

s50喷洒干粒:利用干粒机在所述印花喷洒干粒,形成上釉砖坯;

s60二次烧制:将所述上釉砖坯放入窑炉,进行烧制;

在本发明较佳地技术方案中,所述干粒为白色哑光粗干粒与透明哑光粗干粒两种干粒的混合物,或透明哑光细干粒、红色干粒、黄色干粒、米黄色干粒、黑色干粒、白色亮光粗干粒与深棕色干粒七种干粒的混合物,或透明哑光粗干粒、黑色干粒与棕色干粒三种干粒的混合物,或透明哑光粗干粒与透明亮光粗干粒两种干粒的混合物。

在本发明较佳地技术方案中,在步骤s40与步骤s50之间设置喷淋保护釉步骤:利用高压喷釉柜在所述底釉表面喷保护釉。

在本发明较佳地技术方案中,所述底釉、效果釉、面釉、保护釉均同釉料、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠及水经球磨机混合而成,其中,釉料各组分的质量百分比为:sio2:50~65%;al2o3:15~20%;fe2o3:0~0.5%;cao:1~10%;mgo:1~5%;k2o:1~5%;na2o:1~5%;tio2:0~0.5%;p2o5:0~0.5%;mno:0~0.1%;zro2:1~10%。

在本发明较佳地技术方案中,在步骤s40与步骤s50之间和/或步骤s50与步骤s60之间设置喷淋胶水步骤:利用喷釉柜在所述印花或者所述上釉坯砖表面喷淋胶水。

在本发明较佳地技术方案中,在步骤s60之后设置抛光机柔刷步骤:利用抛光机将所述二次烧制的瓷砖进行柔刷。

在本发明较佳地技术方案中,所述喷淋釉料过程后不需要经过干燥的过程就可以进行下一步操作。

在本发明较佳地技术方案中,所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保护釉的组成按质量份如下:底釉135~180份;面釉60~150份;效果釉120份;保护釉200份;

在本发明较佳地技术方案中,所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保护釉均包括:羧甲基纤维素钠0.2份;三聚磷酸钠0.4份。

本发明的有益效果为:

1、能够很好的展现出实物的纹理和质感。本发明提供的食物系列的瓷砖制造方法,通过喷淋不同的釉料,改变釉料和喷墨打印的顺序,或者改变釉料的组成、喷淋釉料的种类等简单的工序就能够使瓷砖的图案更加精美、展现出实物的纹理与质感。

2、操作过程简单,节约成本。釉料喷淋在常温下就可以进行,并且在喷淋釉料、胶水或者干粒之后继续喷淋釉料之前无需经过特定的干燥过程,只需要10至15秒的缓冲时间即可进行下一步釉料的喷淋,避免了在此干燥过程中过渡消耗时间或者消耗成本的弊端,节约生产周期,继而节约生产成本。

附图说明

图1是本发明实施例1的面粉系列瓷砖的制造流程图。

图2是本发明实施例2的面包系列瓷砖的制造流程图。

图3是本发明实施例3的咖啡或者芝麻系列瓷砖的制造流程图。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

一种食物系列瓷砖制造方法,其特征在于,按如下步骤实施:

s00生成砖坯:通过压机生成砖坯;

s10干燥砖坯:利用窑炉对所述砖坯进行干燥;

s20喷淋底釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋底釉;

s30喷淋效果釉或者面釉:利用高压喷釉柜在所述底釉表面喷淋效果釉或者面釉;

s40喷墨打印:利用喷墨打印机印制印花;

s50喷洒干粒:利用干粒机在所述印花喷洒干粒,形成上釉砖坯;

s60二次烧制:将所述上釉砖坯放入窑炉,进行烧制;

所述干粒为白色哑光粗干粒与透明哑光粗干粒两种干粒的混合物,或透明哑光细干粒、红色干粒、黄色干粒、米黄色干粒、黑色干粒、白色亮光粗干粒与深棕色干粒七种干粒的混合物,或透明哑光粗干粒、黑色干粒与棕色干粒三种干粒的混合物,或透明哑光粗干粒与透明亮光粗干粒两种干粒的混合物。

在步骤s40与步骤s50之间还包括:喷淋保护釉步骤:利用高压喷釉柜在所述底釉表面喷保护釉。

所述底釉、效果釉、面釉、保护釉均同釉料、羧甲基纤维素钠、三聚磷酸钠及水经球磨机混合而成,其中,釉料各组分按质量百分比计,为:sio2:50~65%;al2o3:15~20%;fe2o3:0~0.5%;cao:1~10%;mgo:1~5%;k2o:1~5%;na2o:1~5%;tio2:0~0.5%;p2o5:0~0.5%;mno:0~0.1%;zro2:1~10%。

在步骤s40与步骤s50之间和/或步骤s50与步骤s60之间包括:喷淋胶水步骤:利用喷釉柜在所述印花或者所述上釉坯砖表面喷淋胶水。

在步骤s60之后还包括:抛光机柔刷步骤:利用抛光机将所述二次烧制的瓷砖进行柔刷。

所述喷淋釉料过程后不需要经过干燥的过程就可以进行下一步操作。

所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保护釉的组成按质量份如下:底釉135~180份;面釉60~150份;效果釉120份;保护釉200份。

所述底釉、所述面釉、所述效果釉以及所述保护釉均包括:羧甲基纤维素钠0.2份;三聚磷酸钠0.4份。

实施例一

如图1所示,实施例中提供了一种面粉系列瓷砖制造方法,按如下步骤实施:

§01生成砖坯:通过压机生成砖坯;

§02干燥砖坯:利用窑炉对所述砖坯进行干燥;

§03喷淋底釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋底釉;

§04喷淋效果釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋效果釉;

§05喷墨打印:利用喷墨打印机印制印花;

§06喷淋保护釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋保护釉;

§07喷淋胶水:利用喷釉柜在所述砖坯表面喷淋胶水;

§08喷洒干粒:利用干粒机在所述印花喷洒干粒,形成上釉砖坯;所述干粒包括白色哑光粗干粒与透明哑光粗干粒两种干粒的混合物;

§09二次烧制步骤:将所述上釉砖坯放入窑炉,进行烧制;

实施例二

如图2所示,实施例中提供了一种面包系列瓷砖制造方法,按如下步骤实施:

§01生成砖坯:通过压机生成砖坯;

§02干燥砖坯:利用窑炉对所述砖坯进行干燥;

§03喷淋底釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋底釉;

§04喷淋面釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋面釉;

§05喷墨打印:利用喷墨打印机印制印花;

§06喷洒干粒:利用干粒机在所述印花喷洒干粒,形成上釉砖坯;所述干粒为添加有胶水的干粒混合物;所述干粒还包括透明哑光细干粒、红色干粒、黄色干粒、米黄色干粒、黑色干粒、白色亮光粗干粒与深棕色干粒七种干粒的混合物;

§07二次烧制:将所述上釉砖坯放入窑炉,进行烧制;

§08抛光机柔刷:利用抛光机将所述二次烧制的瓷砖进行抛光柔刷。

实施例三

如图3所示,实施例中提供了一种咖啡或者芝麻系列瓷砖制造方法,按如下步骤实施:

§01生成砖坯:通过压机生成砖坯;

§02干燥砖坯:利用窑炉对所述砖坯进行干燥;

§03喷淋底釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋底釉;

§04喷淋面釉:利用高压喷釉柜在所述砖坯表面喷淋面釉;

§05喷墨打印:利用喷墨打印机印制印花;

§06喷淋胶水:利用喷釉柜在所述砖坯表面喷淋胶水;

§07喷洒干粒:利用干粒机在所述印花喷洒干粒,形成上釉砖坯;所述干粒包括透明哑光粗干粒、黑色干粒与棕色干粒三种干粒的混合物,或透明哑光粗干粒与透明亮光粗干粒两种干粒的混合物;

§08喷淋胶水:利用喷釉柜在所述砖坯表面喷淋胶水;

§09二次烧制:将所述上釉砖坯放入窑炉,进行烧制;

本发明是通过优选实施例进行描述的,本领域技术人员知悉,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,可以对这些特征和实施例进行各种改变或等效替换。本发明不受此处所公开的具体实施例的限制,其他落入本申请的权利要求内的实施例都属于本发明保护的范围。

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