技术总结
本实用新型公开了一种单晶硅炉炉盖，包括盖体、副室连接法兰和真空球，盖体的底端固定设有固定圈，盖体顶端的中心固定设有连接管，连接管的一侧安装有翻板阀，连接管的顶端固定设有副室连接法兰，盖体一侧的外壁固定设有抽真空管，抽真空管的顶端固定连接有真空球，真空球的内壁上安装有真空传感器。本实用新型抽真空口通过真空球与盖体连接的设计，可以避免抽真空时连接不紧密造成的真空压力不足，提高抽真空的效果；设有的真空传感器可以时刻检测盖体内部的真空压力，通过显示屏将真空压力值直观的显示出来，便于操作者将炉内的真空压力控制在准确的范围内，提高单晶硅的品质。
技术研发人员：路建华;陈钦强
受保护的技术使用者：青海日晶光电有限公司
技术研发日：2017.10.18
技术公布日：2018.10.09