高隐私低光污染高性能镀膜玻璃的制作方法

技术特征：

1.一种高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，包括玻璃基片和低辐射膜，其特征在于：所述低辐射膜包括依序叠层设置的第一氮化物层、第一氧化物层、第一银层、金属吸收层、第一金属阻挡层，第二氧化物层、第二银层、第二金属阻挡层、第三氧化物层和第二氮化物层，所述第一氮化物层覆盖于所述玻璃基片的表面。

2.根据权利要求1所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述金属吸收层为铜金属吸收层。

3.根据权利要求1所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述金属吸收层的厚度为4nm～8nm。

4.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氮化物层的厚度为40nm～45nm，所述第二氮化物层的厚度为20nm～30nm。

5.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一氧化物层的厚度为6nm～10nm，所述第二氧化物层的厚度为80nm～90nm，所述第三氧化物层的厚度为5nm～10nm。

6.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一银层的厚度为4nm～6nm，所述第二银层的厚度为9nm～11nm。

7.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一金属阻挡层为第一镍铬合金层，所述第二金属阻挡层为第二镍铬合金层。

8.根据权利要求1～3任一项所述的高隐私低光污染高性能镀膜玻璃，其特征在于：所述第一金属阻挡层的厚度为8nm～10nm，所述第二金属阻挡层的厚度为1nm～2nm。

9.根据权利要求1～3任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基片的厚度为10mm～12mm。

10.根据权利要求1～3任一项所述的高透高选择性三银玻璃基板，其特征在于：所述玻璃基片为白玻或者色玻。