本发明涉及瓷砖生产技术领域，尤其涉及一种干粒柔抛瓷砖生产工艺。
背景技术：
干粒柔抛技术通过调整釉料配方和抛光工艺，配合模具和设计，使产品达到光度柔和，图案逼真，手感细腻的仿柔光面石材效果。
现在技术有以下两个缺点与不足：
一是，干粒半抛工艺只是干粒突起表面上光，产品表面视觉上只有点状闪光，手感不够细腻，半抛工艺干粒之间间隙太多，应用方面产品容易藏污，不方便搞卫生。
二是，全抛釉工艺经过抛光和打纳米防污蜡，光度能达到90-100度，但由于全抛釉是软抛工艺，这么高的光度砖面抛光波浪明显，给人视觉上眩晕感。全抛釉还存在耐磨性能差，后期加工成本高的缺点。
技术实现要素：
本发明的目的在于提供一种干粒柔抛瓷砖生产工艺，以解决上述技术问题。
本发明为解决上述技术问题，采用以下技术方案来实现：
一种干粒柔抛瓷砖生产工艺，其特征在于，包括以下工艺步骤：
（1）刷坯：干燥窑出来的泥坯，通过刷坯机扫去表面杂志和灰尘；
（2）喷水：刷坯后的泥坯，通过喷水柜补水，有利于釉面与泥坯的结合，300x600mm的铁盘，每盘喷水8-10克；
（3）喷底釉：水刀式喷釉柜喷底釉，压力4bar，底釉比重1.35g/ml，喷100g／盘；
（4）喷面釉：水刀式喷釉柜喷底釉，压力4bar，底釉比重1.45g/ml，喷40g／盘；
（5）喷墨印花：选用8通道陶瓷喷墨机；
（6）喷保护釉：水刀式喷釉柜喷保护釉，压力3bar，底釉比重1.15g/ml，喷30g／盘；
（7）高压喷枪喷干粒：水刀式干粒机喷干粒釉，压力8bar，干粒釉比重1.35g/ml，流速32s，喷105g／盘；
（8）干燥：在喷干粒釉后，入烧成窑前加装20米箱式余热干燥窑，抽取烧成窑窑尾余热对干燥窑加温，干燥窑从前到后5个热电偶测的温度为100℃，150℃，200℃，200℃，150℃，保证砖坯干燥出来后达到烧成的水分标准；
（9）入窑烧结：烧成窑温度：1180℃/1197℃，烧成时间70min，窑炉传动35hz；
（10）抛光：产品出窑后要经过抛光处理，由于干粒釉和普通釉料结构有区别，所有要选择多种抛光磨块组合排列进行抛光，具体如下：
抛光磨块排列：
a.毛刷6组，其中180目3组，240目3组；
b.液体树脂金刚砂磨块8组，其中240目4组，320目4组；
c.弹性磨块4组，其中800目2组，1000目2组。
作为优选，所用材料由如下重量配比的原料制成：
底釉：高岭土10，石英22，钾长石40，氧化铝10，烧滑石5，霞石4，硅酸锆8；
面釉：钾长石22，钠长石35，氧化铝8，碳酸钡18，高岭土9，氧化锌3，重钙5，硅酸锆12；
保护釉：钠长石20，钾长石20，高岭土10，烧土8，滑石5，碳酸钡18，氧化锌5，熔块14；
干粒釉配比：
哑光熔块粗干粒20
哑光熔块细干粒80
悬浮剂100
保护釉5
氧化铝浆1
上述哑光熔块粗干粒的目数为60-120目，哑光熔块细干粒的目数为120-250目。
本发明的有益效果是：
本发明通过特定的配方工艺和抛光工艺，干粒柔抛工艺产品平均光度只有15度，解决了视觉不舒适的问题，抛光后期不需要打蜡，节省成本。干粒釉耐磨性能优于全抛釉，应用上也具备优势。柔抛产品表面手感更细腻柔，防污性能比半抛更好。
具体实施方式
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例，进一步阐述本发明，但下述实施例仅仅为本发明的优选实施例，并非全部。基于实施方式中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得其它实施例，都属于本发明的保护范围。下述实施例中的实验方法，如无特殊说明，均为常规方法，下述实施例中所用的材料、试剂等，如无特殊说明，均可从商业途径得到。
一种干粒柔抛瓷砖生产工艺，包括以下工艺步骤：
（1）刷坯：干燥窑出来的泥坯，通过刷坯机扫去表面杂志和灰尘；刷坯机设备参数：功率2.2kw，尺寸1260×1300×1760mm；
（2）喷水（8-10克／盘）：刷坯后的泥坯，通过喷水柜补水，有利于釉面与泥坯的结合，300x600mm的铁盘，每盘喷水8-10克；
（3）喷底釉：水刀式喷釉柜喷底釉，压力4bar，底釉比重1.35g/ml，喷100g／盘；
（4）喷面釉：水刀式喷釉柜喷底釉，压力4bar，底釉比重1.45g/ml，喷40g／盘；
（5）喷墨印花：美嘉8通道陶瓷喷墨机，通道墨水排列蓝，棕，柠黄，黑，桔黄，包裹红，精雕，白花；
（6）喷保护釉：水刀式喷釉柜喷保护釉，压力3bar，底釉比重1.15g/ml，喷30g／盘；
（7）高压喷枪喷干粒：airpower水刀式干粒机喷干粒釉，压力8bar，干粒釉比重1.35g/ml，流速32s，喷105g／盘；
（8）干燥：因为工艺涉及多到喷釉，加上悬浮剂保水性比较好，如果直接进窑烧结，砖坯表面水分太大会造成炸坯。所以选择在喷干粒釉后，入烧成窑前加装20米箱式余热干燥窑，抽取烧成窑窑尾余热对干燥窑加温，干燥窑从前到后5个热电偶测的温度为100℃，150℃，200℃，200℃，150℃，保证砖坯干燥出来后达到烧成的水分标准；
（9）入窑烧结：烧成窑温度：1180℃/1197℃，烧成时间70min，窑炉传动35hz；
（10）抛光：产品出窑后要经过抛光处理，由于干粒釉和普通釉料结构有区别，所有要选择多种抛光磨块组合排列进行抛光，具体如下：
抛光磨块排列：
a.毛刷6组，其中180目3组，240目3组；
b.液体树脂金刚砂磨块8组，其中240目4组，320目4组；
c.弹性磨块4组，其中800目2组，1000目2组。
所用材料由如下重量配比的原料制成：
底釉：高岭土（10），石英（22），钾长石（40），氧化铝（10），烧滑石（5），霞石（4），硅酸锆（8）；
面釉：钾长石（22），钠长石（35），氧化铝（8），碳酸钡（18），高岭土（9），氧化锌（3），重钙（5），硅酸锆（12）；
保护釉：钠长石（20），钾长石（20），高岭土（10），烧土（8），滑石（5），碳酸钡（18），氧化锌（5），熔块（14）；
干粒釉配比：
哑光熔块粗干粒（ycl386012）20
哑光熔块细干粒（ycl381225）80
悬浮剂100
保护釉5
氧化铝浆1
上述哑光熔块粗干粒的目数为60-120目，哑光熔块细干粒的目数为120-250目。
通过调整配方工艺和调试抛光工艺，干粒柔抛工艺产品平均光度只有15度，解决了视觉不舒适的问题，抛光后期不需要打蜡，节省成本。干粒釉耐磨性能优于全抛釉，应用上也具备优势。柔抛产品表面手感更细腻柔，防污性能比半抛更好。
以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的仅为本发明的优选例，并不用来限制本发明，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。