一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法与流程

本发明涉及建筑陶瓷砖领域，特别是指一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法。

背景技术：

现代建筑装修中，雄居顶级装修位置的装饰材料，莫过于高档的天然石材，图案形态自然，尤其如高档大理石，纹理精细耐看。但随着人们对矿山资源的重视，对环保的重视，在建筑装修中，人们都希望选用具有环保无放射性而且符合现代社会低碳绿色经济发展潮流的，又能有美好家居的装饰享受的耐久性装饰材料，特别是经过高温烧制而成的陶瓷砖制品。

现阶段全抛类的数码喷印图案的陶瓷砖制品，是主流的陶瓷制品需求方向，采用喷墨机喷墨彩色图案再覆盖一层透明保护层，这种工艺简单、高效。而在陶瓷砖类别中，深色类视觉效果的冲击感更具高档性，市场需求也大，但该类产品在实际生产中，若采用常规生料釉的工艺覆盖在喷墨图案层的表面，烧制后发色不透，釉面乳浊，质量缺陷多，难以形成批量的生产。

现有技术中制备全抛深色釉面类图案纹理陶瓷砖制品主要分为以下几种：

1.采取丝网直接印刷彩色釉料形成图案的方式，丝网工艺需要人工添加花釉，擦网等，自动化程度低，另外，刮刀、花网磨损后会产生颜色差异，生产稳定性差，而且采用丝网工艺版面花纹单一，装饰效果呆板，并且工艺控制环节多，生产效率低，不符合智能化生产发展大趋势。

2.采用以砂、坭、添加剂等精加工配置的釉料施淋与喷印图案结合的工艺技术方案，若生产深色图案纹理类，因其颜色深，墨量灰度大，所以喷印的墨水亦较浅色类图案的量大，而墨水用量大必然会造成墨水其固有的油属性与抛釉的水属性之间的结合不匀而引起排墨现象，又因为表面透明釉料是各砂石、坭提炼加工后配制而成，属于以生料为主的原料，其中杂质、有机物含量多，而过多的墨水与这些釉料在窑炉烧成时容易起反应，产生气泡、毛孔现象，表面发蒙，因此该种方式是难以制得良品率高的深色类纹理的喷印陶瓷砖制品的。

3.采用预先配置好的配方料先进入1400℃～1800℃高温熔炉中熔制制作熔块再破碎成不同目数颗粒级配的干粒，采用干法布铺作为制品表面材料的方案，由于这种工艺的干粒是经过高温烧制后加工而成的，是熟料，在高温熔制过程中已将材料中的有机物充分燃烧，高温熔融后经冷水淬火，原料晶格基本定型、稳定，所以这种熟料作为表层透明材料层是佳选，但由于干法布施的不均匀性及不稳定性，容易造成制品表面疏密不均、凹凸不匀等缺陷，即使有胶水吸附，也会在过程中进入窑炉被风管易吸、吹走，而形成表面缺陷，一方面通过增加干粒层厚度再抛光的方式，但干粒量的增加同时又更易引起被吸、吹走，缺陷更多，另一方面烧制时的高温熔融状态下的排气、排泡更不易，更易产生针孔和气泡，所以干法干粒的布施平整性、表面粘结性，高温熔融并与墨水底釉坯体的烧制曲线的匹配性难，使得表面诸如波浪纹、毛孔、不透亮等缺陷多，优品率也不高，所以干法干粒布铺砖坯表面制作的工艺方案也存在局限性。

4.现有技术中也有采用表面湿法喷或淋干粒的工艺方案，但其都是用在表面非全抛光镜面平整的常规陶瓷仿古砖工艺，在表面喷、撒的单一或者多色或者不同熔点、温度的干粒层，这些干粒材料产生的是仿古砖所需要表达的不均匀的表面质感效果，这些工艺方案并不能产生镜面平整的表面效果。

为此，要想制得效果更好，亮且透的表面镜面平整的全抛光类深色图案陶瓷砖制品，而且设备投入上更简单可行，依然是行业内技术人员的攻关方向。

技术实现要素：

有鉴于现有技术存在上述的不足，本发明创新地提出一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法，采用优选地配比和创新的湿法施淋干粒釉的工艺手段制得表面抛光后是镜面全平的陶瓷制品，并且解决了业内生产全抛光釉面产品中深色图案板面因为用墨量大而很难有高优品率的生产难题，这是本发明新颖性、创造性和实用性的目的所在。

本发明所采用的技术手段：

一种深色图案的全抛光面陶瓷制品，制品从下到上依次为坯体层、底釉层、cmyk色彩模式下50％～100％面积的图案的灰度值不低于60％的喷印图案层、镜面全平的干粒釉层。

优选的，所述制品喷印图案cmyk色彩模式下50％～100％面积的图案的灰度值设定在70％以上。

优选的，所述干粒釉中固态干粒的配方组成按重量百分比如下

一种深色图案的全抛光面陶瓷制品的制备方法，，其包括以下步骤：

(1)、配备常规陶瓷喷墨机并按顺序配装好锆白、蓝、棕色、黄、黑、桔、包裹红、透明釉墨水，备用；

配备底釉，备用；

配备干粒釉，按上述配方成分配制的固态干粒45％～55％，印刷粉4％～8％，胶水22％～30％，水15％～25％混合配制，备用，其都是重量百分比；

配备生产线釉线、淋釉设施，备用；

(2)、压制陶瓷砖底坯并对其进行干燥；

(3)、对干燥后的底坯表面淋施底釉；

(4)、按预先输入在陶瓷喷墨机中的设计图案，喷印在砖坯上收水后的底釉层表面，其cmyk色彩模式下50％～100％面积的图案的灰度值不低于60％；

(5)、将步骤1中的干粒釉通过淋釉设施淋施在砖坯的图案层表面；

(6)、在最高温达1160℃-1220℃的窑炉中烧制而成；

(7)、抛光磨边后，得到一种深色图案的全抛光面陶瓷制品。

优选的，本发明的固态干粒在1400℃～1800℃高温中熔制，再流经冷水淬火，再破碎成不同粒径级配的颗粒配制而成的。

更为优选的，本发明的固态干粒在1500℃～1600℃高温中熔制，再流经冷水淬火，再破碎成不同粒径级配的颗粒配制而成的。

本发明提出了一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法，在工艺上解决了业内生产全抛光釉面产品中深色图案板面因为用墨量大而很难有高优品率的生产难题，这是业内人士一直渴望解决却没有解决的难题。

本发明拓宽了制作抛光釉面产品的色域范围，可以大批量生产大墨量色彩浓度的深色图案产品，极大的丰富了全抛光釉面产品更多样化花色品种，为装修业主和设计师提供了更多样的选材，并且制作而成的制品其表面抛光后是镜面平整并且是透明的，解决了现有技术中全光面且平整表面层工艺及其制品的难题。

以下，借由具体的实施例以更好地说明本发明及其具体方法。

附图简要说明

图1为本发明的一种深色图案的全抛光面陶瓷制品任意侧剖面示意图。

附图各标记说明

1：表示全抛光面陶瓷制品的坯体层；

2：表示全抛光面陶瓷制品的底釉层；

3：表示全抛光面陶瓷制品的喷印图案层；

4：表示全抛光面陶瓷制品的干粒釉层。

具体实施方式

本发明一种深色图案的全抛光面陶瓷制品，制品从下到上依次为坯体层、底釉层、cmyk色彩模式下50％～100％面积的图案的灰度值不低于60％的喷印图案层、镜面全平的干粒釉层。

优选的，所述制品喷印图案cmyk色彩模式下50％～100％面积的图案的灰度值设定在70％以上。

优选的，所述干粒釉中固态干粒的配方组成按重量百分比如下

一种深色图案的全抛光面陶瓷制品的制备方法，其包括以下步骤：

(1)、配备常规陶瓷喷墨机并按顺序配装好锆白、蓝、棕色、黄、黑、桔、包裹红、透明釉墨水，备用；

配备底釉，备用；

配备干粒釉，按上述配方的固态干粒45％～55％，印刷粉4％～8％，胶水22％～30％，水15％～25％混合配制，备用，其均是重量百分比；

配备生产线釉线、淋釉设施，备用；

(2)、压制陶瓷砖底坯并对其进行干燥；

(3)、对干燥后的底坯表面淋施底釉；

(4)、按预先输入在陶瓷喷墨机中的设计图案，喷印在砖坯上收水后的底釉层表面，其cmyk色彩模式下50％～100％面积的图案的灰度值不低于60％；

(5)、将步骤1中的干粒釉通过淋釉设施淋施在砖坯的图案层表面；

(6)、在最高温达1160℃-1220℃的窑炉中烧制而成；

(7)、抛光磨边后，得到一种深色图案的全抛光面陶瓷制品。

优选的，步骤1中的固态干粒在1400℃～1800℃高温中熔制，再流经冷水淬火，再破碎成不同粒径级配的颗粒配制而成的。

下面结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法，其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：

如图1所述，表示本发明的一种深色图案的全抛光面陶瓷制品任意侧剖面示意图，1表示全抛光面陶瓷制品的坯体层；2表示全抛光面陶瓷制品的底釉层；3表示全抛光面陶瓷制品的喷印图案层；4表示全抛光面陶瓷制品的干粒釉层。

【实施例1】

(1)、选用高岭土、长石、石英等坭沙原料，按常规陶瓷工艺制备坯体瓷质粉料，备用；

(2)、配备底釉，备用；

选用按配方重量百分比组成为二氧化硅59.2％、氧化铝7.8％、氧化钾6.7％、氧化钠0.73％、氧化钙11.2％、氧化镁0.65％、氧化锌11％、氧化钡1.2％、三氧化二硼1.1％，氧化铁0.1％，二氧化钛0.04％，其它为灼减和微量杂质的固态干粒；

再按固态干粒50％，印刷粉6％，胶水26％，水18％比例混合搅拌配制制得干粒釉，备用，均是重量百分比；

配备常规陶瓷喷墨机并按顺序配装好黑、蓝、包裹红，备用；

配备生产线釉线、淋釉设施，备用。

(3)、将步骤1的瓷质粉料送入压机压制成型为陶瓷砖底坯并对其进行干燥。

(4)、对干燥后的底坯表面淋施底釉。

(5)、按预先输入在陶瓷喷墨机中的设计图案，喷印在砖坯上收水后的底釉层表面，其cmyk色彩模式下70％面积的图案的灰度值设定为80。

(6)、将步骤2中干粒釉通过淋釉设施淋施在砖坯的图案层表面。

(7)、在最高温达1160℃-1220℃的窑炉中烧制而成。

(8)、抛光磨边后，得到一种深黑色图案的全抛光面陶瓷制品。

以上所述，仅是为了说明本发明的较佳优选实施例而已，然而其并非是对本发明的保护范围有任何限制，任何熟悉本项技术的人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或修饰为等同变化的等效实施例，都可以按不同要求和性能实施一种深色图案的全抛光面陶瓷制品及其制备方法。可见，凡是未脱离本发明技术方案的内容，尤其是权利要求之内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改，等同变化与修饰，均仍属本发明技术方案的范围内。