1.一种多晶硅还原炉进气结构，包括进气主管，其特征在于，所述进气主管端部连接有盘型空腔，所述盘型空腔上方设有不少于两根进气支管，所述进气支管穿过炉体底部后与设置在炉体内部的喷嘴连通；所述盘型空腔内设有带通孔的缓流板，所述进气主管和进气支管分设在缓流板两侧。
2.如权利要求1所述的多晶硅还原炉进气结构，其特征在于，所述盘型空腔和缓流板为圆柱形，所述进气主管在盘型空腔的轴线位置与盘型空腔连接。
3.如权利要求2所述的多晶硅还原炉进气结构，其特征在于，所述盘型空腔和缓流板水平设置。
4.如权利要求3所述的多晶硅还原炉进气结构，其特征在于，所述通孔在缓流板上关于缓流板的轴线呈轴对称设置。
5.如权利要求4所述的多晶硅还原炉进气结构，其特征在于，所述进气支管关于盘型空腔的轴线呈轴对称设置，所述进气支管与通孔错位设置。
6.如权利要求1所述的多晶硅还原炉进气结构，其特征在于，所述通孔靠近进气主管一侧的孔径小于靠近进气支管一侧的孔径。
7.如权利要求1所述的多晶硅还原炉进气结构，其特征在于，所述进气主管与盘型空腔连接的端部为内径逐渐变大的漏斗结构。