1.一种低反射率的低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层及设置于所述玻璃基层一侧的镀膜层，其特征在于，所述镀膜层包括自所述玻璃基层的一侧依次向外设置的第一介质层、第一保护层、功能层、第二保护层及第二介质层；所述第一介质层与所述第二介质层的厚度比为1.6～3.0：1；所述第一保护层与所述第二保护层的厚度比为1：1.5～2.5。
2.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层的厚度为48nm～120nm，所述第二介质层的厚度为23nm～50nm。
3.如权利要求2所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一介质层与所述第二介质层均为sinx层，sinx中x的范围是0.5～1.33。
4.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层的厚度为1.5nm～5nm，所述第二保护层的厚度为2.3nm～10nm。
5.如权利要求4所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层与所述第二保护层均为nicr层。
6.如权利要求1所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述功能层为ag层，所述ag层的厚度为5nm～15nm。
7.如权利要求1至6任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一保护层、所述功能层及所述第二保护层构成的金属层厚度小于28nm。
8.如权利要求1至6任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃还包括第一结合层和/或第二结合层，所述第一结合层设于所述第一保护层与所述第一介质层之间，所述第二结合层设于所述第二保护层与所述第二介质层之间。
9.如权利要求8所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一结合层的厚度为4nm～8nm，和/或所述第二结合层的厚度为4nm～8nm。
10.如权利要求9所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一结合层为azo层，和/或所述第二结合层为azo层。
11.如权利要求1至6任意一项所述的低反射率的低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低反射率的低辐射镀膜玻璃的玻面反射色l为24～28，a*为-2.5～1.3，b*为-7.0～-4.0，室外反射率为4.2％～5.5％。