一种制备高纯纳米硅的方法与流程

文档序号:19738351发布日期:2020-01-18 04:49阅读:490来源:国知局
一种制备高纯纳米硅的方法与流程

本发明涉及一种锂离子电池电极材料的制备方法,特别涉及一种制备高纯纳米硅的方法。



背景技术:

纳米硅粉是一种广泛应用于微电子、电极材料及太阳能电池等领域的半导体材料,具有表面积大,高表面活性,松装密度低等性能优势。目前,用于制备纳米硅粉的常见方法有机械球磨法、等离子蒸发冷凝法和化学气相沉积法。其中,机械球磨法较为简单、成本低,但存在产品纯度低,晶体缺陷多,耗时长,颗粒分布不均匀等缺点。等离子蒸发冷凝法原料价格低,无需后处理,但是产品的质量受到原料品质的影响大,且难以保证产率和产品纯度。化学气相沉积法的反应机理不够明确,反应安全性有待解决,且所得产品形状大多无定型。



技术实现要素:

本发明的目的是为了克服现有技术的不足,提供一种新的制备高纯纳米硅的方法。

本发明是通过以下技术方案予以实现的:

一种制备高纯纳米硅的方法,包括以下步骤:

s1、将正硅酸乙酯、醇类、去离子水进行混合,混合均匀后加入催化剂,催化反应完成后,用乙醇超声洗涤,然后用烘箱烘干,得到纳米二氧化硅;

s2、将步骤s1得到的产物与金属氢化物混合,放入反应炉中,在保护气氛下进行还原反应,sio2+mhx→sio+h2o+mxo2,生成纳米一氧化硅和金属氧化物,一氧化硅在高温下发生歧化反应:sio→si+sio2;

s3、反应冷却后,用氢氟酸洗掉步骤s2中残余的纳米二氧化硅和金属氧化物,sio2+4hf→2h2o+sif4↑,然后用超纯水进行清洗过滤,至滤液ph值呈中性,最后真空烘干得到纳米硅。

优选的,一种制备高纯纳米硅的方法,其特征在于,包括以下步骤:

s1、在烧杯中取一定量正硅酸乙酯与醇类及去离子水进行混合,所述正硅酸乙酯、醇类、去离子水的质量比为1:2:(2-4),放入水浴锅中进行水浴搅拌,水浴温度为40-70℃,搅拌时间为1-4h,分散均匀后加入一定量催化剂,所述催化剂与正硅酸乙酯的质量比为(0.5-1):1,继续搅拌2-5h,最后用乙醇超声洗涤,用烘箱烘干,得到纳米二氧化硅;

s2、将步骤s1得到的产物与金属氢化物混合,放入带有保护气氛的反应炉中,升温到300℃保温2h,继续升温至1000-1300℃,反应时间为2-6h,生成纳米硅和纳米二氧化硅;

s3、反应冷却后,用氢氟酸洗掉步骤s2中残余的纳米二氧化硅和金属氧化物,然后用超纯水进行清洗过滤,至滤液ph值呈中性,最后真空烘干得到纳米硅。

进一步的,所述步骤s1中的催化剂为草酸、硝酸、氨水中的一种。

进一步的,所述步骤s1中醇类为乙醇、异丙醇、丙醇中的一种。

进一步的,所述步骤s2中,将步骤s1得到的产物与金属氢化物混合,放入反应炉中,在保护气氛下300℃-500℃保温2h,继续升温至1000-1300℃,反应时间为2-6h,升温速度为2℃/min-10℃/min,生成纳米硅。

进一步的,所述步骤s2中的反应炉为箱式炉、滚筒炉、推板窑、辊道窑中的一种,所述保护气氛为氩气、氦气或其混合气体。

进一步的,所述步骤s2中金属氢化物为碱金属氢化物、氢化铝、除be以外的碱土金属氢化物中的一种。

与现有技术相比,本发明具有以下有益效果:

本发明采用新的工艺路线来制备高纯度纳米硅,本发明以正硅酸乙酯为原料,通过溶胶凝胶得到纳米二氧化硅,纯度高,工艺简单,再采用金属氢化物还原,最后通过氢氟酸洗掉残余二氧化硅和生成的金属氧化物,得到高纯纳米硅。本发明专利工艺简单,成本低,所得纳米硅纯度高,纳米硅尺寸小,解决了现有技术中纳米硅粒度过大、纯度不高的问题。

附图说明

图1为实施例1制备的纳米硅的xrd图。

图2为实施例1制备的纳米硅的透射电子显微镜(tem)图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明作进一步说明。

实施例1

在烧杯中取正硅酸乙酯与乙醇及去离子水混合,混合质量比为1:2:3,放入水浴锅中进行水浴搅拌,水浴温度为40℃,搅拌时间为4h。分散均匀后向烧杯中加入氨水,氨水与正硅酸乙酯的质量比为1:1,继续搅拌5h,最后用乙醇超声洗涤,用烘箱烘干。将得到的产物与氢化镁混合均匀,在氮气氛围下箱式炉中进行还原,300℃保温2h,继续升温至800℃,保温3h,升温速度为2℃/min。反应冷却后用氢氟酸洗掉残余纳米二氧化硅及氧化镁,然后用超纯水进行清洗过滤至中性,最后真空烘干得到纳米硅。所得纳米硅的xrd图、tem图分别如图1、图2所示。

实施例2

在烧杯中取一定量正硅酸乙酯与丙醇及去离子水混合,混合质量比为1:2:2,放入水浴锅中进行水浴搅拌,水浴温度为50℃,搅拌时间为1h。分散均匀后向烧杯中加入氨水,氨水与正硅酸乙酯的质量比为0.8:1,继续搅拌3h,最后用乙醇超声洗涤,用烘箱烘干。将得到的产物与氢化铝,在滚筒炉内进行氢气碳化还原,500℃保温2h,继续升温至1000℃,保温4h,升温速度为10℃/min。反应冷却后用氢氟酸洗掉残余纳米二氧化硅及三氧化二铝,然后用超纯水进行清洗过滤至中性,最后真空烘干得到纳米硅。

实施例3

将正硅酸乙酯、丙醇与去离子水按质量比1:2:4进行混合,放入水浴锅中进行水浴搅拌,水浴温度为70℃,搅拌时间为1h。分散均匀后向烧杯中加入氨水,氨水与正硅酸乙酯的质量比为0.5:1,继续搅拌2h,最后用乙醇超声洗涤,用烘箱烘干。将得到的产物与除be以外的碱土金属氢化物在滚筒炉内进行氢气碳化还原,400℃保温2h,继续升温至1300℃,保温6h,升温速度为6℃/min。反应冷却后用氢氟酸洗掉残余纳米二氧化硅及金属氧化物,然后用超纯水进行清洗过滤至中性,最后真空烘干得到纳米硅。

以上所述仅是本发明的优选实施方式,本发明的保护范围并不局限于上述实施例,凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明结构、原理前提下的若干改进和修饰,也应视为在本发明的保护范围之内。

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