1.一种生产多晶硅用还原炉，其特征在于，包括炉体和进料控制机构，所述炉体的底部设置有多组进料喷嘴组，每组所述进料喷嘴组内包括至少一个进料喷嘴，所述进料控制机构包括多个送料阀，每个所述送料阀对应控制一组所述进料喷嘴组内的所述进料喷嘴的开闭。
2.根据权利要求1所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述炉体连接有总出料管和与多组所述进料喷嘴组连通的总送料管，所述总送料管和所述总出料管上分别设置有第一压力传感器和第二压力传感器。
3.根据权利要求2所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述进料控制机构还包括控制器，所述控制器与所述第一压力传感器和所述第二压力传感器通信连接，所述控制器与每个所述送料阀通信连接。
4.根据权利要求3所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述炉体内设置有多晶硅尺寸探测器，所述多晶硅尺寸探测器与所述控制器通信连接。
5.根据权利要求2所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，每组进料喷嘴组内包括多个进料喷嘴，所述多个进料喷嘴呈环形阵列式分布于所述炉体的底部。
6.根据权利要求5所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述进料控制机构包括多个环形送料管，所述环形送料管的数量与所述进料喷嘴组的组数相同，多个所述环形送料管一一对应地与多组所述进料喷嘴连通，每个所述环形送料管上均设置有多个进料口，每个所述环形送料管上设置的进料口的数量以及位置均与对应的所述进料喷嘴组内的多个所述进料喷嘴一一对应，每个所述环形送料管还设置有用于与所述总送料管连通的送料口，所述送料阀通过控制所述送料口的开闭以控制所述进料喷嘴组的开闭。
7.根据权利要求6所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述环形送料管与所述喷嘴的连接方式为法兰连接，螺纹连接或焊接。
8.根据权利要求6所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述总送料管通过与其连通的多个送料分管与多个所述环形送料管连通，多个所述送料分管与多个所述环形送料管一一对应连通。
9.根据权利要求1所述的生产多晶硅用还原炉，其特征在于，所述炉体的侧壁开设有可视窗口。
10.一种多晶硅生产控制方法，其特征在于，包括：以权利要求1～9任一项所述的生产多晶硅用还原炉作为反应炉；
生产过程中通过控制所述送料阀来调整所述进料喷嘴的开启数量，以控制炉体进料和出料压差维持在30-60kpa内。