本发明涉及化学制剂技术领域，特别涉及一种玻璃减薄液。
背景技术：
玻璃是显示屏屏幕的主要材料，随着目前市场对显示屏轻薄化的需要提高，玻璃的减薄要求也越来越高。玻璃薄化分为化学蚀刻薄化技术和物理研磨薄化技术。化学蚀刻薄化技术是利用氢氟酸化学溶液与玻璃面板表面的二氧化硅(sio2)进行化学反应而使其溶解的原理，对基板进行咬蚀而将玻璃厚度变薄。其化学反应方程式为：6hf+sio2->h2sif6+2h2o。
之前tft-lcd面板行业的玻璃减薄液多为氟化铵加强酸体系，此方法为性能较为稳定，但是蚀刻速率较慢。相对而言，氢氟酸加强酸体系蚀刻速率过快，而蚀刻液本身较不稳定。中国申请cn103922602a“tft玻璃基板减薄液及其制备方法、tft玻璃基板减薄工艺”中公开的玻璃减薄液配方包括氢氟酸、氟化氢铵、硝酸和硫酸，相当于通过两种体系的混合来平衡稳定性和蚀刻速度，但是效果不够理想。若在以上体系中使用普通表面活性剂来提升蚀刻速率，在有强酸的条件下表面活性剂容易失活，反应3小时过后蚀刻速率就会下降到5μm/min以下。
因此有必要开发一种蚀刻效率高而且较为稳定的玻璃减薄液来解决以上问题。
技术实现要素：
本发明的主要目的在于提供一种玻璃减薄液，既具有良好的稳定性，又有较高的蚀刻效率。
本发明通过如下技术方案实现上述目的：
一种玻璃减薄液，配方包括10～20wt％氢氟酸，5～15wt％硝酸，5～10wt％硫酸，0.1～1wt％氢氟酸稳定剂，0.01～0.1wt％表面活性剂和余量的去离子水，所述表面活性剂为三硅氧烷类表面活性剂。
具体的，所述三硅氧烷类表面活性剂为甲基烯丙基聚醚改性三硅氧烷或炔二醇醚改性三硅氧烷。
具体的，所述氢氟酸稳定剂为氟化铵、氟化钠、氟化钾中的一种。
采用上述技术方案，本发明技术方案的有益效果是：
本玻璃减薄液通过耐酸性更好的表面活性剂来提升玻璃蚀刻速率，在4小时后还能保持比较高的蚀刻速率，能够保证蚀刻精度。
具体实施方式
本发明涉及一种玻璃减薄液，配方包括10～20wt％氢氟酸，5～15wt％硝酸，5～10wt％硫酸，0.1～1wt％氢氟酸稳定剂，0.01～0.1wt％表面活性剂和余量的去离子水，所述表面活性剂为三硅氧烷类表面活性剂。
三硅氧烷类表面活性剂是一类耐酸型的离子型表面活性剂，在玻璃蚀刻的过程中，这种表面活性剂能够在强酸性的溶液内保持活度。氟化铵、氟化钠、氟化钾都属于强电解质，能够在溶液中释放氟离子以压制氢氟酸的电离，保证氢氟酸的稳定。三硅氧烷类表面活性剂与氢氟酸稳定剂一起使用既能够维持比较高的蚀刻效率，也能保证蚀刻精度。
下面结合具体实施例对本发明作进一步详细说明。
实施例1～6：
按照表1配方将氢氟酸、硝酸、氢氟酸稳定剂、表面活性剂和去离子水混合，得到玻璃减薄液。
表1：
注：含量中不满100wt％的部分由去离子水补足余量。
以cn103922602a披露的玻璃减薄液作为对照例，与实施例1～6所得玻璃减薄液进行比较试验，分别测定4小时内每小时对玻璃的平均蚀刻效率，并且测试4小时蚀刻后的厚度公差。
对比情况见表2：
表2：
由表2可知，本玻璃减薄液通过加入三硅氧烷类表面活性剂，使蚀刻效率有明显的提升，而且在使用4小时之后仍有6μm/min以上的蚀刻速率，远高于对照例，所以本发明的蚀刻效率高，而且使用更加持久，而且能够保证蚀刻精度。
以上所述的仅是本发明的一些实施方式。对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明创造构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。