技术总结
本新型提供的78对棒多晶硅还原炉，其包括：包括：裙座1、底盘座2、炉体进气管路3、炉体4、夹套5、炉体冷却水出口6、硅芯7、视镜8、炉体冷却水进口9、底盘进气管路10、底盘排气管路11、底盘冷却水出口管12、电极座13、底盘冷却水进口管14组成。气体浓度分布调节管路系统，包括一注入反应气体的炉体进气管路3以及注入反应气体的底盘进气管路10；炉体进气管路3用以使所述反应气体自上而下进入所述反应腔体内；所述底盘进气管路使得所述反应气体自下而上进入所述反应腔体内；在两管路的共同调节下均匀分布在该硅芯7周围，提高了硅棒上部区域的生长速率，与硅棒下部的生长速率相当，保证了硅棒的均匀性，提高了产品质量。
技术研发人员：张万尧;秦云龙;安亚中;孙中心;周涛;张继春;吴炳珑;冉蔡玲;郭雨;冯小朋;周钰君;张国海
受保护的技术使用者：天华化工机械及自动化研究设计院有限公司
技术研发日：2019.03.13
技术公布日：2019.05.31