1.一种晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，将硅源、碱和有机修饰剂按摩尔比为1:（0.05～0.2）:（0.1～1）加入到反应介质中，在温度为260～380℃、压力为30～40mpa下反应30～500h，经后处理即得晶体纳米二氧化硅。
2.根据权利要求1所述晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述硅源为硅酸钠、偏硅酸钠、石英砂中的至少一种。
3.根据权利要求1所述晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述碱为氢氧化钠、碳酸钠、碳酸氢钠中的至少一种。
4.根据权利要求1所述晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述有机修饰剂为有机硅化合物。
5.根据权利要求4所述晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述有机硅化合物为碳链长度是1～20的烷氧基硅烷、氯硅烷、氮硅烷或氟硅烷。
6.根据权利要求1所述晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，所述反应介质为水和/或有机溶剂，有机溶剂为c1-c12醇、丙酮、二甲苯中的至少一种。
7.根据权利要求1所述晶体纳米二氧化硅的制备方法，其特征在于，以5～30℃/h的升温速率升温至260～380℃，后处理为洗涤和干燥。
8.权利要求1-7任一所述方法制备得到的晶体纳米二氧化硅。