渗花釉料及其制备方法、渗花抛釉砖及其制备方法与流程

本发明涉及陶瓷领域，尤其涉及一种渗花釉料及其制备方法、渗花抛釉砖及其制备方法。

背景技术：

渗花抛釉砖因其具有坚硬、耐磨、光泽度高、色彩纹理更加贴近自然等优点，越来越受到消费者的欢迎。

现在市场常规的渗花抛釉砖，都在追求天然石材所展现出的层次纹理效果，但都未能实现，满足不了当今的文化艺术发展以及人们对创新艺术的追求。往往存在着发色不清晰、颜色扩散，抛光后砖表面会比较模糊，无法清晰的展现深层次的纹理的问题。

有鉴于此，特提出本申请。

技术实现要素：

本发明的目的在于提供一种渗花釉料及其制备方法、渗花抛釉砖及其制备方法，以解决上述问题。

为实现以上目的，本发明特采用以下技术方案：

一种渗花釉料，其原料以质量百分比计算，包括：

硅灰石13％-18％、烧滑石0.1％-5％、钠长石13％-18％、玻璃粉18％-23％、硼砂17％-22％、碳酸钡4％-7％、氧化钛18％-23％和铒0.5％-1.0％。

可选地，渗花釉料的原料中，按照质量百分比计算，硅灰石可以是13％、14％、15％、16％、17％、18％以及13％-18％之间的任一值；烧滑石可以是0.1％、0.5％、1％、1.5％、2％、2.5％、3％、3.5％、4％、4.5％、5％以及0.1％-5％之间的任一值；钠长石可以是13％、14％、15％、16％、17％、18％以及13％-18％之间的任一值；玻璃粉可以是18％、19％、20％、21％、22％、23％以及18％-23％之间的任一值；硼砂可以是17％、18％、19％、20％、21％、22％以及17％-22％之间的任一值；碳酸钡可以是4％、5％、6％、7％以及4％-7％之间的任一值；氧化钛可以是18％、19％、20％、21％、22％、23％以及18％-23％之间的任一值；铒可以是0.5％、0.6％、0.7％、0.8％、0.9％、1.0％以及0.5％-1.0％之间的任一值。

优选地，所述渗花釉料，其原料以质量百分比计算，包括：

硅灰石14-16％、烧滑石2-4％、钠长石14-16％、玻璃粉20-22％、硼砂18-20％、碳酸钡5-6％、氧化钛20-22％和铒0.6-0.8％。

对渗花釉料的各组分进行优选，使得获得的渗花抛釉砖的外观效果更好。

优选地，所述的渗花釉料，以所述原料的总质量为基准，按照质量百分比计算，还包括：

三聚磷酸钠0.15％-0.3％和羧甲基纤维素钠0.3％-0.6％。

三聚磷酸钠和羧甲基纤维素钠的主要作用是调节釉料的粘稠度和流动性。

可选地，渗花釉料中，以质量百分比计算，三聚磷酸钠的用量可以为0.15％、0.2％、0.25％、0.3％以及0.15％-0.3％之间的任一值；羧甲基纤维素钠的用量可以为0.3％、0.4％、0.5％、0.6％以及0.3％-0.6％之间的任一值。

渗花釉料的制备方法，包括：

将原料混合制备得到所述渗花釉料。

优选地，所述原料包括溶剂；

优选地，所述溶剂包括水；

优选地，所述渗花釉料的细度为325目筛筛余为0.3wt％-0.6wt％；

优选地，所述渗花釉料的比重为1.50-1.55g/100ml；

优选地，所述渗花釉料的流速为16-20s；

优选地，所述混合的搅拌时间为20-30min。

釉料参数的控制，有利于提升釉料的性能，避免施釉之后出现凸起、凹坑、均匀性差等问题。

可选地，所述渗花釉料的细度控制过325目筛的筛余可以为0.3wt％、0.4wt％、0.5wt％、0.6wt％以及0.3wt％-0.6wt％之间的任一值；所述渗花釉料的比重可以为1.50g/100ml、1.51g/100ml、1.52g/100ml、1.53g/100ml、1.54g/100ml、1.55g/100ml以及1.50-1.55g/100ml之间的任一值；所述渗花釉料的流速可以为16s、17s、18s、19s、20s以及16-20s之间的任一值；所述混合的搅拌时间可以为20min、21min、22min、23min、24min、25min、26min、27min、28min、29min、30min以及20-30min之间的任一值。

一种渗花抛釉砖，包括砖坯和设置在所述砖坯的表面的渗花釉层，所述渗花釉层使用包括所述的渗花釉料和渗花墨水在内的原料制得。

优选地，所述渗花釉层的厚度为400-500μm；

优选地，所述渗花抛釉砖中渗花的深度为0.5-1.0mm。

可选地，所述渗花釉层的厚度可以为400μm、410μm、420μm、430μm、440μm、450μm、460μm、470μm、480μm、490μm、500μm以及400-500μm之间的任一值；所述渗花抛釉砖中渗花的深度可以为0.5mm、0.6mm、0.7mm、0.8mm、0.9mm、1.0mm以及0.5-1.0mm之间的任一值。

一种所述的渗花抛釉砖的制备方法，包括：

将所述渗花釉料施加在所述砖坯的表面，干燥后施加所述渗花墨水，然后烧制得到所述渗花抛釉砖。

优选地，所述渗花釉料的使用量为1000-1200g/m²；

优选地，施加所述渗花釉料时，所述砖坯的温度为50-60℃；

优选地，所述渗花釉料采用喷涂的方式施加至所述砖坯的表面；

优选地，所述喷涂的压力为5-8mpa；

优选地，所述干燥的温度为150-300℃。

釉料的使用量的控制主要是为了保证釉料在砖坯上的厚度处于适当的范围；施釉时砖坯温度的控制是为了保证釉料在砖坯表面分布均匀、平整；喷涂压力的控制是为了避免喷涂的不均匀导致渗花釉层出现缺陷；干燥温度的控制，是为了保证釉料在砖坯表面形成渗花釉层的初始阶段获得合适的黏附力，为喷墨渗花做准备。

可选地，所述渗花釉料的使用量可以为1000g/m²、1050g/m²、1100g/m²、1150g/m²、1200g/m²以及1000-1200g/m²之间的任一值；施加所述渗花釉料时，所述砖坯的温度可以为50℃、55℃、60℃以及50-60℃之间的任一值；所述喷涂的压力可以为5mpa、6mpa、7mpa、8mpa以及5-8mpa之间的任一值；所述干燥的温度可以为150℃、200℃、250℃、300℃以及150-300℃之间的任一值。

优选地，所述干燥之后、所述施加渗花墨水之前还包括冷却；

优选地，所述冷却的终点温度为50-60℃；

优选地，所述渗花墨水的使用量为6-8g/m²；

优选地，所述烧制的烧成温度为1180-1200℃，所述烧制的时间为55-65min；

优选地，所述施加渗花墨水之后、所述烧制之前还包括：施加助剂；

优选地，所述助剂包括去离子水；

优选地，所述去离子水的使用量为15-20g/m²。

冷却温度的控制，是为了保证渗花墨水在渗花釉层表面可以很好的渗入到渗花釉层和砖坯内部，获得很好的渗花效果；渗花墨水用量的控制主要是为了控制渗花的分布；烧成温度和烧制时间的控制是为了保证渗花抛釉砖的物理性能以及渗花效果；去离子水的作用是为了保证渗花墨水能够很好地渗入渗花釉层中，并获得很好地分布效果，进而获得发色效果好、立体感强的产品。

可选地，所述冷却的终点温度可以为50℃、55℃、60℃以及50-60℃之间的任一值；所述渗花墨水的使用量可以为6g/m²、6.5g/m²、7g/m²、7.5g/m²、8g/m²以及6-8g/m²之间的任一值；所述烧制的烧成温度可以为1180℃、1185℃、1190℃、1195℃、1200℃以及1180-1200℃之间的任一值，所述烧制的时间可以为55min、60min、65min以及55-65min之间的任一值；所述助剂的使用量可以为15g/m²、16g/m²、17g/m²、18g/m²、19g/m²、20g/m²以及15-20g/m²之间的任一值。

与现有技术相比，本发明的有益效果包括：

本申请提供的渗花釉料，硅灰石主要作用是使得渗花釉层获得乳浊色、减少砖坯的发色；玻璃粉可以提升渗花釉层的透明度，更好的展现花纹的纹理；硼砂具有白色细小结晶体，使得渗花抛釉砖获得柔和细润感；铒主要是起到发色作用，能让墨水渗在砖坯上不扩散，经过高温烧制后颜色鲜艳、清晰；

本申请提供的渗花抛釉砖，使用渗花釉料通过硅灰石、烧滑石、钠长石、玻璃粉、硼砂、碳酸钡、氧化钛和铒的复配，获得透明度高、色泽柔和细润、层次纹理自然、立体感强的渗花抛釉砖。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本发明的某些实施例，因此不应被看作是对本发明范围的限定。

图1为实施例1得到的渗花抛釉砖的产品示意图；

图2为实施例2得到的渗花抛釉砖的产品示意图；

图3为实施例3得到的渗花抛釉砖的产品示意图；

图4为对比例1得到的渗花抛釉砖的产品示意图；

图5为对比例2得到的渗花抛釉砖的产品示意图；

图6为对比例3得到的渗花抛釉砖的产品示意图。

具体实施方式

如本文所用之术语：

“由……制备”与“包含”同义。本文中所用的术语“包含”、“包括”、“具有”、“含有”或其任何其它变形，意在覆盖非排它性的包括。例如，包含所列要素的组合物、步骤、方法、制品或装置不必仅限于那些要素，而是可以包括未明确列出的其它要素或此种组合物、步骤、方法、制品或装置所固有的要素。

连接词“由……组成”排除任何未指出的要素、步骤或组分。如果用于权利要求中，此短语将使权利要求为封闭式，使其不包含除那些描述的材料以外的材料，但与其相关的常规杂质除外。当短语“由……组成”出现在权利要求主体的子句中而不是紧接在主题之后时，其仅限定在该子句中描述的要素；其它要素并不被排除在作为整体的所述权利要求之外。

当量、浓度、或者其它值或参数以范围、优选范围、或一系列上限优选值和下限优选值限定的范围表示时，这应当被理解为具体公开了由任何范围上限或优选值与任何范围下限或优选值的任一配对所形成的所有范围，而不论该范围是否单独公开了。例如，当公开了范围“1～5”时，所描述的范围应被解释为包括范围“1～4”、“1～3”、“1～2”、“1～2和4～5”、“1～3和5”等。当数值范围在本文中被描述时，除非另外说明，否则该范围意图包括其端值和在该范围内的所有整数和分数。

在这些实施例中，除非另有指明，所述的份和百分比均按质量计。

“质量份”指表示多个组分的质量比例关系的基本计量单位，1份可表示任意的单位质量，如可以表示为1g，也可表示2.689g等。假如我们说a组分的质量份为a份，b组分的质量份为b份，则表示a组分的质量和b组分的质量之比a：b。或者，表示a组分的质量为ak，b组分的质量为bk(k为任意数，表示倍数因子)。不可误解的是，与质量份数不同的是，所有组分的质量份之和并不受限于100份之限制。

“和/或”用于表示所说明的情况的一者或两者均可能发生，例如，a和/或b包括(a和b)和(a或b)。

下面将结合具体实施例对本发明的实施方案进行详细描述，但是本领域技术人员将会理解，下列实施例仅用于说明本发明，而不应视为限制本发明的范围。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。

比重杯购自上海龙拓仪器设备有限公司，型号为qbb-35；粘度杯购自广州欧科仪器有限公司。

实施例1

本实施例提供一种渗花釉料，其原料以质量百分比计算，包括：

硅灰石15％、烧滑石5％、钠长石15％、玻璃粉18％、硼砂17％、碳酸钡7％、氧化钛22％和铒1％。

制备渗花釉料之前，按照上述原料的总质量称量三聚磷酸钠0.15％，羧甲基纤维素钠0.6％。

将上述原料与三聚磷钠、羧甲基纤维素钠、水混合，然后球釉搅拌20min得到渗花釉料，渗花釉料的细度为325目筛筛余为0.3wt％，比重为1.53g/ml，流速为18s/10cm。

在常规的900*900mm砖坯表面，用高压喷釉柜喷釉料，砖坯出干燥喷水前坯温75℃，喷水冷却后温度为50℃，施釉量1平方1100g厚度450μm，施釉压力为5.8mpa，施完釉后进入干燥窑炉200℃下烘烤。

喷渗花墨水前，砖坯温度冷却至50℃，喷渗花墨水和助剂后，墨水自然渗透，渗入的厚度为0.5mm。渗花墨水的使用量为1平方7g，助剂的使用量为18g。窑炉烧制一次烧成，烧成温度为1180℃，烧成周期为65min。

利用常规的抛光线，弹性磨块从320目6组，400目6组，800目6组1000目8组1200目4组，1500目6组，2000目4组，3000目6组，皮带转速46hz摆动速度43/45hz，延时4/4min、压力5mpa，纳米a段7组博伦片，a30b段2组，a22，6组bf，然后磨边即可。

本申请得到的渗花抛釉砖，渗花图案在釉层里面展现透明的立体效果，具有极好的仿天然石材的效果。产品如图1所示。

实施例2

本实施例提供一种渗花釉料，其原料以质量百分比计算，包括：

硅灰石18％、烧滑石0.1％、钠长石13％、玻璃粉20％、硼砂20％、碳酸钡5.2％、氧化钛23％和铒0.7％。

制备渗花釉料之前，按照上述原料的总质量称量三聚磷酸钠0.3％，羧甲基纤维素钠0.3％。

将上述原料与三聚磷钠、羧甲基纤维素钠、水混合，然后球釉搅拌30min得到渗花釉料，渗花釉料的细度为325目筛筛余为0.6wt％，比重为1.55g/ml，流速为20s/10cm。

在常规的900*900mm砖坯表面，用高压喷釉柜喷釉料，砖坯出干燥喷水前坯温90℃，喷水冷却后温度为60℃，施釉量1平方1200g厚度500μm，施釉压力为5mpa，施完釉后进入干燥窑炉150℃下烘烤。

喷渗花墨水前，砖坯温度冷却至60℃，喷渗花墨水和助剂后，墨水自然渗透，渗入的厚度为1.0mm。渗花墨水的使用量为1平方8g，助剂的使用量为20g。窑炉烧制一次烧成，烧成温度为1200℃，烧成周期为55min。

利用常规的抛光线，弹性磨块从320目6组，400目6组，800目6组1000目8组1200目4组，1500目6组，2000目4组，3000目6组，皮带转速46hz摆动速度43/45hz，延时4/4min、压力5mpa，纳米a段7组博伦片，a30b段2组，a22，6组bf，然后磨边即可。

产品如图2所示。

实施例3

本实施例提供一种渗花釉料，其原料以质量百分比计算，包括：

硅灰石15％、烧滑石5％、钠长石15％、玻璃粉18％、硼砂17％、碳酸钡7％、氧化钛22％和铒1％。

制备渗花釉料之前，按照上述原料的总质量称量三聚磷酸钠0.2％，羧甲基纤维素钠0.4％。

将上述原料与三聚磷钠、羧甲基纤维素钠、水混合，然后球釉搅拌25min得到渗花釉料，渗花釉料的细度为325目筛筛余为0.4wt％，比重为1.50g/ml，流速为16s/10cm。

在常规的900*900mm砖坯表面，用高压喷釉柜喷釉料，砖坯出干燥喷水前坯温85℃，喷水冷却后温度为55℃，施釉量1平方1000g厚度400μm，施釉压力为8mpa，施完釉后进入干燥窑炉300℃下烘烤。

喷渗花墨水前，砖坯温度冷却至55℃，喷渗花墨水和助剂后，墨水自然渗透，渗入的厚度为0.8mm。渗花墨水的使用量为1平方6g，助剂的使用量为15g。窑炉烧制一次烧成，烧成温度为1190℃，烧成周期为60min。

利用常规的抛光线，弹性磨块从320目6组，400目6组，800目6组1000目8组1200目4组，1500目6组，2000目4组，3000目6组，皮带转速46hz摆动速度43/45hz，延时4/4min、压力5mpa，纳米a段7组博伦片，a30b段2组，a22，6组bf，然后磨边即可。

产品如图3所示。

对比例1

与实施例1不同的是，渗花釉料的各组分含量不同，具体为：硅灰石10％、烧滑石5％、钠长石15％、玻璃粉20％、硼砂19％、碳酸钡7％、氧化钛22％和铒1％。

与实施例1相比，得到的渗花抛釉砖白度差，颜色发色偏暗。

产品如图4所示。

对比例2

与实施例1不同的是，渗花釉料的各组分含量不同，具体为：硅灰石15％、烧滑石5％、钠长石15％、玻璃粉15％、硼砂20％、碳酸钡7％、氧化钛22％和铒1％。

与实施例1相比，得到的渗花抛釉砖透光度差，颜色发色较沉。

产品如图5所示。

对比例3

与实施例1不同的是，渗花釉料的各组分含量不同，具体为：硅灰石15％、烧滑石5％、钠长石15％、玻璃粉18％、硼砂13％、碳酸钡7％、氧化钛22％和铒1％。

与实施例1相比，得到的渗花抛釉砖外观偏硬，光泽缺乏柔和度，图案显色差。

产品如图6所示。

测试实施例1-3和对比例1-3得到的渗花抛釉砖的白度和光泽度，具体结果如表1所示：

表1检测结果

由上表1的数据可知，本申请提供的渗花抛釉砖达到的白度优于市面抛釉砖(50-60)，且与现有的抛光工艺相结合，使整体白度和光泽度对发色效果适中，降低了坯体发色的影响，有助于渗花墨水发色。

本申请提供的渗花釉料制得的渗花抛釉砖，发色效果好、立体感强，具有突出的仿真效果，与天然石材纹理相似对高。

最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。

此外，本领域的技术人员能够理解，尽管在此的一些实施例包括其它实施例中所包括的某些特征而不是其它特征，但是不同实施例的特征的组合意味着处于本发明的范围之内并且形成不同的实施例。例如，在上面的权利要求书中，所要求保护的实施例的任意之一都可以以任意的组合方式来使用。公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在加深对本发明的总体背景技术的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域技术人员所公知的现有技术。