技术特征：
1.一种高发射率远红外发射日用陶瓷的制备方法，其特征在于：具体包括以下步骤；步骤1：取日用陶瓷坯料并向其中加入日用陶瓷坯料质量10-30％的远红外陶瓷粉混合制得远红外发射陶瓷釉浆，按1:2.5:1的质量比为将远红外发射陶瓷釉浆、球石、水加入到球磨罐中球磨，球磨后过100目多孔筛得到远红外发射陶瓷浆料；步骤2：将步骤1中制得的远红外发射陶瓷浆料按照日用陶瓷施釉工艺均匀地涂覆在陶瓷坯体表面作为日用陶瓷底釉，随后放入干燥炉中烘干得到涂覆远红外发射混合粉的陶瓷坯体；步骤3：将步骤2中制得的陶瓷坯体表面进行面釉装饰，随后烘干置于日用陶瓷烧成炉中以5℃/min的升温速率自室温升温至低于1250℃，保温1h-2h，待自然冷却至室温后，得到高发射率的远红外日用陶瓷。2.根据权利要求1所述的一种高发射率远红外发射日用陶瓷的制备方法，其特征在于：步骤1中所述的远红外陶瓷粉的红外发射率大于0.9。3.根据权利要求1或2所述的一种高发射率远红外发射日用陶瓷的制备方法，其特征在于：步骤2中所述的日用陶瓷施釉工艺方式为浸釉或者喷釉或者淋釉。4.根据权利要求1所述的一种高发射率远红外发射日用陶瓷的制备方法，其特征在于：步骤2中所述的日用陶瓷底釉的层厚为1-1.5mm。5.根据权利要求1所述的一种高发射率远红外发射日用陶瓷的制备方法，其特征在于：步骤3中所述的面釉为透明釉或者乳浊釉或者微晶釉。