1.用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：包括喷嘴芯体（6）和喷嘴壳体（7），所述喷嘴芯体（6）设置在还原炉底盘（3）上，喷嘴芯体（6）内形成用于原料气进入的第一进气腔（61），喷嘴芯体（6）顶端形成与第一进气腔（61）连通的收缩口（62），收缩口（62）设置在第一进气腔（61）顶部；
所述喷嘴壳体（7）下部套设在喷嘴芯体（6）外侧，喷嘴壳体（7）顶端形成喷口（8），喷嘴壳体（7）内形成第二进气腔（71），喷嘴芯体（6）设置在第二进气腔（71）下部，第二进气腔（71）通过收缩口（62）与第一进气腔（61）连通，喷口（8）设置在第二进气腔（71）顶部，第一进气腔（61）、收缩口（62）、第二进气腔（71）及喷口（8）之间形成原料气流通的通路；
所述喷嘴壳体（7）上设置有用于外源气进入的开口（9），开口（9）与第二进气腔（71）连通，开口（9）、第二进气腔（71）及喷口（8）之间形成外源气流通的通路；
所述开口（9）与还原炉底盘（3）之间的距离小于第一进气腔（61）顶端与还原炉底盘（3）之间的距离；
所述喷口（8）横截面积大于收缩口（62）横截面积。
2.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述第二进气腔（71）上部横截面积小于第二进气腔（71）下部横截面积。
3.根据权利要求1或2所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述喷嘴壳体（7）呈锥形。
4.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述喷嘴壳体（7）外侧设置有用于为外源气导流的导流罩（10）。
5.根据权利要求4所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述导流罩（10）呈板状或者槽状。
6.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述喷嘴芯体（6）通过螺纹或者焊接固定在还原炉底盘（3）上。
7.根据权利要求1或6所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述第一进气腔（61）与还原炉底盘（3）上的原料气供料支管（2）连通。
8.根据权利要求1所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述开口（9）为多个。
9.根据权利要求1或8所述的用于多晶硅生产中还原炉的抽吸式喷嘴，其特征在于：所述开口（9）设置在喷嘴壳体（7）底端，或者，开口（9）设置在喷嘴壳体（7）侧壁上。