防眩玻璃及其制备方法与流程

1.本技术属于玻璃表面加工处理技术领域，尤其涉及一种防眩玻璃及其制备方法。


背景技术：

2.防眩玻璃anti-glare glass，简称ag玻璃，是一种将玻璃表面进行特殊处理的玻璃。其原理是把优质玻璃单面或双面进行工艺处理，使其与普通玻璃相比具有较低的反射比，从而降低环境光的干扰，提高画面的清晰度，减少屏幕反光，使图像更清晰、逼真，让观赏者享受到更佳的视觉效果。
3.传统的表面ag处理采用喷涂药水的方式实现，通过喷涂设备喷到玻璃表面，在玻璃表面附着一层涂层来达到防眩光的效果。喷涂通过喷枪或碟式雾化器，借助于压力或离心力，分散成均匀而微细的雾滴，施涂于玻璃表面的涂装方法。其优点是这种加工工艺方便和快捷，生产效率较高，可以很方便的加工出不同光泽度和雾度值ag玻璃产品。缺点是耐磨擦能力差且无法实现永久性的ag效果。
4.一般的化学侵蚀法制备防眩玻璃的方法，在防眩玻璃的生产过程中，依靠控制蚀刻药水配方，通过腐蚀速率、时间和温度等参数，来影响到防眩玻璃的透过率和反射率，由于采用蚀刻药水进行喷涂，其处理过程中均匀性差，得到的防眩效果不好，且耐磨擦能力差，无法实现永久性的防眩效果，同时，大规模使用的药水配方也对环境有较大的影响；不利于广泛使用。


技术实现要素：

5.本技术的目的在于提供一种防眩玻璃及其制备方法，旨在解决现有技术中化学侵蚀法制备防眩玻璃的方法均匀性差且无法得到永久性的防眩效果的问题。
6.为实现上述申请目的，本技术采用的技术方案如下：
7.第一方面，本技术提供一种防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
8.提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
9.提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃。
10.第二方面，本技术提供一种防眩玻璃，防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构。
11.本技术第一方面提供的防眩玻璃的制备方法，该制备方法先在玻璃至少一个表面设置具有网孔状膜层，再利用混合化学气体进行蚀刻处理，使玻璃表面形成均匀分布的网格状的凹坑，并且采用化学气体直接进行蚀刻处理，实现玻璃表面粗糙结构的构建，通过该处理方法，使玻璃表面起到了较好的防眩光效果，并且能够克服摩擦脱落的缺陷，实现永久性的防眩光效果，该制备方法简单方便，不需要使用大量危害性化学试剂，减少对环境的危害，工艺环保，操作方便，有利于广泛应用。
12.本技术第二方面提供的防眩玻璃，提供的防眩玻璃形成的网格状的凹坑结构为直接设置在玻璃表面，其具有永久性的防眩光效果，不会出现摩擦脱落的缺陷，且提供的防眩玻璃具有更高的透光率和清晰度，有利于广泛使用。
附图说明
13.为了更清楚地说明本技术实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
14.图1是本技术实施例提供的防眩玻璃的结构示意图。
15.图2是本技术实施例提供的防眩玻璃的俯视图。
16.图3是本技术实施例提供的防眩玻璃的sem图。
具体实施方式
17.为了使本技术要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
18.本技术中，术语“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b的情况。其中a，b可以是单数或者复数。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
19.本技术中，“至少一个”是指一个或者多个，“多个”是指两个或两个以上。“以下至少一项(个)”或其类似表达，是指的这些项中的任意组合，包括单项(个)或复数项(个)的任意组合。例如，“a,b,或c中的至少一项(个)”，或，“a,b,和c中的至少一项(个)”，均可以表示：a,b,c,a-b(即a和b),a-c,b-c,或a-b-c，其中a,b,c分别可以是单个，也可以是多个。
20.应理解，在本技术的各种实施例中，上述各过程的序号的大小并不意味着执行顺序的先后，部分或全部步骤可以并行执行或先后执行，各过程的执行顺序应以其功能和内在逻辑确定，而不应对本技术实施例的实施过程构成任何限定。
21.在本技术实施例中使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。
22.本技术实施例说明书中所提到的相关成分的重量不仅仅可以指代各组分的具体含量，也可以表示各组分间重量的比例关系，因此，只要是按照本技术实施例说明书相关组分的含量按比例放大或缩小均在本技术实施例说明书公开的范围之内。具体地，本技术实施例说明书中的质量可以是μg、mg、g、kg等化工领域公知的质量单位。
23.术语“第一“、“第二”仅用于描述目的，用来将目的如物质彼此区分开，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。例如，在不脱离本技术实施例范围的情况下，第一xx也可以被称为第二xx，类似地，第二xx也可以被称为第一xx。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。
24.本技术实施例第一方面提供一种防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
25.s01.提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
26.s02.提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃。
27.本技术实施例第一方面提供的防眩玻璃的制备方法，该制备方法先在玻璃至少一个表面设置具有网孔状膜层，再利用混合化学气体进行蚀刻处理，使玻璃表面形成均匀分布的网格状的凹坑，并且采用化学气体直接进行蚀刻处理，实现玻璃表面粗糙结构的构建，通过该处理方法，使玻璃表面起到了较好的防眩光效果，并且能够克服摩擦脱落的缺陷，实现永久性的防眩光效果，该制备方法简单方便，不需要使用大量危害性化学试剂，减少对环境的危害，工艺环保，操作方便，有利于广泛应用。
28.步骤s01中，提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面。
29.在一些实施例中，提供的玻璃基体包括但不限于白玻璃、tft玻璃、cf玻璃中的至少一种，任意一种玻璃均可以采用该方法进行防眩处理。
30.在一些实施例中，玻璃基体的厚度为4～5mm，提供的玻璃基体的厚度为4～5mm，有利于在玻璃基体的表面设置粗糙面，保证设置的粗糙面不会对玻璃基体的本体性质造成影响。
31.在一些实施例中，对玻璃基体进行清洗除杂处理，确保在后续处理过程中表面不会有杂质分子，不会影响粗糙面的处理。
32.在一些具体实施例中，对玻璃基体进行清洗除杂处理的步骤包括：将玻璃基体放置于有机溶剂中进行超声清洗，再放置于无菌水中进行清洗处理。其中，有机溶剂包括但不限于甲醇、乙醇、甲苯、丙酮中的至少一种。
33.进一步，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面。设置网孔状膜层能够为后续采用化学气体蚀刻处理提供模板，有利于控制形成的粗糙面的网孔结构及其大小，确保形成的粗糙面防眩效果优异。
34.在一些实施例中，网孔状膜层的网孔形状选自方形、圆形、三角形、六边形、不规则图形中的任意一种。网孔状膜层的网孔形状可根据需求选择不同的形状，确保形成的粗糙面具有凹凸不平的表面即可。
35.在一些实施例中，网孔状膜层的厚度为0.5nm～5μm。控制网孔状膜层的厚度进而可以控制得到的粗糙面的孔径的深度，进而影响了防眩目的效果。若网孔状膜层的厚度过薄，则得到的粗糙面孔径深度较小，防炫目效果较差；若网孔状膜层的厚度过厚，则得到的粗糙面孔径深度较大，则会影响玻璃基体的整体使用，不利于使用。
36.在一些具体实施例中，网孔状膜层的厚度选自0.5nm～200nm，控制网孔状膜层的厚度为纳米级，使得到的粗糙面的清晰度更高，透光率更强，提高玻璃的应用。
37.在一些实施例中，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层的步骤中，采用黄光法或丝印附着的方法形成网孔状膜层。
38.在一个实施方式中，黄光法包括：在玻璃基体的至少一面涂布正性光刻胶，利用光学掩膜版遮挡，利用光刻机进行光刻处理得到网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面。
39.在另一个实施方式中，丝印附着的方法包括：提供具有网孔状的掩膜层，将掩膜层
贴合在玻璃基体的表面，对表面进行丝印处理，形成网孔状膜层。
40.其中，提供的进行丝印附着的掩膜层选自抗酸性材料，由于进行化学气体蚀刻的过程中会对酸性材料进行腐蚀，因此需要保证提供的材料为抗酸性材料，否则在后续蚀刻处理中无法形成网格状。
41.在一些实施例中，抗酸性材料包括但不限于聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚酰亚胺中的至少一种。
42.步骤s02中，提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃。
43.在一些实施例中，混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％。
44.其中，提供的氟化氢气体为高纯度的气体，在蚀刻过程中，与环境中的少量水汽分子发生混合，形成氟化氢喷雾进行蚀刻处理，并且混合抑制性气体硅烷，确保在蚀刻过程中不会出现杂质气体进行副反应。
45.在一些实施例中，氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为95～99：1～5。控制氟化氢气体和硅烷气体的通入体积比，进而确保氟化氢气体的通入量较多，保证能够高效率进行蚀刻处理，不会有杂质气体影响蚀刻反应。
46.进一步，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构。
47.在一些实施例中，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为40～500℃，真空度为1pa～50kpa，时间为5分钟～2小时。通过控制蚀刻处理的温度、真空度和时间，确保进行蚀刻处理的效果较好，有利于形成均匀分布的网格状的凹坑结构。若蚀刻处理的温度过低或作用时间作用，则会导致蚀刻作用不完全，不利于凹坑结构的形成。
48.进一步，通过控制蚀刻处理的时间，可以控制达到的凹坑结构的深度及大小，以确保达到更优异的防眩目效果。
49.进一步，再进行清洗处理，得到防眩玻璃。清洗处理主要是将设置的置网孔状膜层的剩余材料进行清洗，其中，根据不同的制备方法选择不同的清洗处理的方法，确保玻璃基体表面没有残留。
50.在一些实施例中，采用黄光法得到网孔状膜层，清洗处理中主要采用剥离液将正性胶层进行剥离处理。在一些实施例中，剥离液包括但不限于koh溶液、水解后产生弱碱性的有机溶液，其中，水解后产生弱碱性的有机溶液包括但不限于甲基甲酰胺、有机胺。
51.在一些实施例中，采用丝印附着的方法得到网孔状膜层，清洗处理主要采用清洗液进行清洗处理。在一些实施例中，清洗液包括但不限于醋酸酯、环己酮。
52.本技术实施例第二方面提供一种防眩玻璃，如图1所示，防眩玻璃包括玻璃基体1以及玻璃基体1至少一面的粗糙层2；粗糙层2的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构。
53.本技术第二方面提供的防眩玻璃，提供的防眩玻璃形成的网格状的凹坑结构为直接设置在玻璃表面，其具有永久性的防眩光效果，不会出现摩擦脱落的缺陷，且提供的防眩玻璃具有更高的透光率和清晰度，有利于广泛使用。
54.相应的，提供的防眩玻璃由上述的防眩玻璃的制备方法制备得到。
55.在一些实施例中，凹坑结构的直径为0.5nm～3μm。通过控制凹坑结构的直径，进一步控制防眩玻璃表面形成的粗糙层的粗糙度，以确保达到防眩效果。
56.在一些具体实施例中，凹坑结构的直径为0.5nm～500nm，控制凹坑结构的直径为纳米级，使得到的粗糙面的清晰度更高，透光率更强，提高玻璃的应用。
57.在一些实施例中，凹坑结构与玻璃基体的夹角为20
°
～60
°
。控制凹坑结构与玻璃基体的夹角为20
°
～60
°
，可提高玻璃的防眩作用，且在玻璃受到冲击时，可分解一定的冲击压力。若夹角过大或过小，无法起到提高玻璃的防眩作用。
58.下面结合具体实施例进行说明。
59.实施例1
60.防眩玻璃及其制备方法
61.防眩玻璃
62.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～5nm；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为20
°
。
63.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
64.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
65.其中，采用黄光制备的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：在玻璃基体的至少一面涂布正性光刻胶，利用光学掩膜版遮挡，利用光刻机进行光刻处理得到网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
66.其中，网孔状膜层的网孔形状选自方形，且网孔状膜层的厚度为5nm。
67.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
68.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为95：5；
69.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为80℃，真空度为5pa，时间为15分钟；
70.再进行清洗处理的步骤中，采用koh溶液剥离液进行清洗处理。
71.实施例2
72.防眩玻璃及其制备方法
73.防眩玻璃
74.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～30nm；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为25
°
。
75.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
76.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
77.其中，采用黄光制备的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：在玻璃
基体的至少一面涂布正性光刻胶，利用光学掩膜版遮挡，利用光刻机进行光刻处理得到网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
78.其中，网孔状膜层的网孔形状选自方形，且网孔状膜层的厚度为30nm。
79.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
80.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为95.5：4.5；
81.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为120℃，真空度为50pa，时间为20分钟；
82.再进行清洗处理的步骤中，采用koh溶液剥离液进行清洗处理。
83.实施例3
84.防眩玻璃及其制备方法
85.防眩玻璃
86.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～100nm；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为30
°
。
87.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
88.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
89.其中，采用黄光制备的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：在玻璃基体的至少一面涂布正性光刻胶，利用光学掩膜版遮挡，利用光刻机进行光刻处理得到网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
90.其中，网孔状膜层的网孔形状选自圆形，且网孔状膜层的厚度为100nm。
91.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
92.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为96：4；
93.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为180℃，真空度为150pa，时间为25分钟；
94.再进行清洗处理的步骤中，采用koh溶液剥离液进行清洗处理。
95.实施例4
96.防眩玻璃及其制备方法
97.防眩玻璃
98.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～200nm；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为35
°
。
99.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
100.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
101.其中，采用黄光制备的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：在玻璃基体的至少一面涂布正性光刻胶，利用光学掩膜版遮挡，利用光刻机进行光刻处理得到网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
102.其中，网孔状膜层的网孔形状选自圆形，且网孔状膜层的厚度为300nm。
103.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
104.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为96：4；
105.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为200℃，真空度为500pa，时间为1小时；
106.再进行清洗处理的步骤中，采用koh溶液剥离液进行清洗处理。
107.实施例5
108.防眩玻璃及其制备方法
109.防眩玻璃
110.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～500nm；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为35
°
。
111.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
112.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
113.其中，采用丝印附着的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：提供具有网孔状的掩膜层，将掩膜层贴合在玻璃基体的表面，对表面进行丝印处理，形成网孔状膜层；
114.其中，网孔状膜层的网孔形状选自圆形，且网孔状膜层的厚度为500nm。
115.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
116.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为97：3；
117.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为220℃，真空度为800pa，时间为70分钟；
118.清洗处理主要采用醋酸酯进行清洗处理。
119.实施例6
120.防眩玻璃及其制备方法
121.防眩玻璃
122.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀
分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～700nm；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为40
°
。
123.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
124.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
125.其中，采用丝印附着的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：提供具有网孔状的掩膜层，将掩膜层贴合在玻璃基体的表面，对表面进行丝印处理，形成网孔状膜层；
126.其中，网孔状膜层的网孔形状选自圆形，且网孔状膜层的厚度为700nm。
127.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
128.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为97：3；
129.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为250℃，真空度为1kpa，时间为75分钟；
130.清洗处理主要采用醋酸酯进行清洗处理。
131.实施例7
132.防眩玻璃及其制备方法
133.防眩玻璃
134.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～1微米；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为50
°
。
135.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
136.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
137.其中，采用丝印附着的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：提供具有网孔状的掩膜层，将掩膜层贴合在玻璃基体的表面，对表面进行丝印处理，形成网孔状膜层；
138.其中，网孔状膜层的网孔形状选自三角形，且网孔状膜层的厚度为1微米。
139.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
140.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为97：3；
141.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为300℃，真空度为2kpa，时间为100分钟；
142.清洗处理主要采用醋酸酯进行清洗处理。
143.实施例8
144.防眩玻璃及其制备方法
145.防眩玻璃
146.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层的表面具有均匀分布的网格状的凹坑结构；其中，凹坑结构的直径为～3微米；且，凹坑结构与玻璃基体的夹角为60
°
。
147.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
148.(1)提供玻璃基体，在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，形成玻璃基体的待蚀刻面；
149.其中，采用丝印附着的方法在玻璃基体的至少一面设置网孔状膜层，步骤：提供具有网孔状的掩膜层，将掩膜层贴合在玻璃基体的表面，对表面进行丝印处理，形成网孔状膜层；
150.其中，网孔状膜层的网孔形状选自三角形，且网孔状膜层的厚度为3微米。
151.(2)提供混合化学气体，对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理，使玻璃基体的待蚀刻面形成均匀分布的网格状的凹坑结构；再进行清洗处理，得到防眩玻璃；
152.其中，提供的混合化学气体包括氟化氢气体和硅烷气体，且，氟化氢气体的纯度大于99.99％，硅烷气体的纯度大于99.99％；氟化氢气体和硅烷气体的通入量的体积比为99：1；
153.对玻璃基体的待蚀刻面进行蚀刻处理的步骤中，蚀刻处理的条件为：温度为500℃，真空度为5kpa，时间为120分钟；
154.清洗处理主要采用醋酸酯进行清洗处理。
155.对比例1
156.防眩玻璃及其制备方法
157.防眩玻璃
158.防眩玻璃包括玻璃基体以及玻璃基体至少一面的粗糙层；粗糙层为凹凸不平的表面
159.防眩玻璃的制备方法，包括如下步骤：
160.提供玻璃基体，通过喷涂设备将喷涂药水喷到玻璃表面，在玻璃表面附着一层涂层来达到防眩光的效果。
161.性质测试与结果分析
162.将实施例1～8和对比例1制备得到的防眩玻璃进行性质测试，包括粗糙度分析、穿透率、光透射率分析。
163.并且对实施例1得到的防眩玻璃(俯视图如图2所示)采用电镜分析，得到的sem图如图3所示，可以看出，得到的防眩玻璃表面形成均匀大小的网格状结构。
164.性质测试，包括粗糙度分析、穿透率、光透射率分析的结果如表1所示，可以看出，实施例1～8得到的玻璃穿透率均≥82％，穿透率较高；仿闪点为0.66％～0.91％，60度角镜面光泽为20.5％～24.5％，粗糙面均没有出现脱落的情况；而对比例1提供的玻璃穿透率≥70.3％，仿闪点为0.34％，60度角镜面光泽为11.2％，粗糙面存在脱落的情况，可以看出对比例1提供的玻璃防眩性能较差，且粗糙面易脱落，不利于长期使用。
165.表1
[0166][0167][0168]
以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。