一种传感器单晶硅刻蚀设备的制作方法

1.本实用新型涉及传感器领域，具体为一种传感器单晶硅刻蚀设备。


背景技术：

2.刻蚀技术是在半导体工艺中，按照掩模图形或设计要求对半导体衬底表面或表面覆盖薄膜进行选择性腐蚀或剥离的技术，在传感器单晶硅加工过程中，均需对其进行刻蚀处理，通常将单晶硅置于旋转的片架上，然后向片架所在位置导入反应气体，使反应气体在电场环境下产生等离子体。
3.根据公开号为cn207966934u的中国专利公开了一种新型传感器单晶硅刻蚀装置，其通过设置立柱、滚动球和环形槽，电机驱动片架转动，让立柱通过滚动球在环形槽中滚动，虽然能够提高片架转动的稳定性，但是在片架转动过程中，位于其上的传感器单晶硅由于惯性和离心力则可能出现滑脱掉落的现象，使得传感器单晶硅出现不必要的损伤，同时其通过单一的进气管注气，效率过于缓慢，气体与片架上的传感器单晶硅接触反应较为迟缓，使得设备的刻蚀效率不足。


技术实现要素：

4.本实用新型的目的在于：为了解决片架转动过程中传感器单晶硅可能滑脱掉落出现损伤和气体与片架上的传感器单晶硅接触反应较为迟缓的问题，提供一种传感器单晶硅刻蚀设备。
5.为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种传感器单晶硅刻蚀设备，包括反应箱，所述反应箱的底部两侧固定有底座，所述反应箱的底部中间安装有电机，所述电机的输出端连接有贯穿至反应箱内部的转轴，所述转轴的外表面套接有多个片板，多个所述片板的顶部安装有拆卸网板，多个所述片板之间固定有环形板，所述反应箱的内部自上而下均开设有环形槽，所述反应箱的两侧自上而下均安装有环形托架，多个所述环形托架的顶部均安装有电磁线圈，所述反应箱的顶部贯穿有多个分流管，多个所述分流管的外表面均开设有喷气孔，多个所述分流管的顶端均贯穿至反应箱的顶部并连接有进气管，所述反应箱的底部一侧贯穿有出气管。
6.优选地，多个所述片板共八个，分为四组，每组所述片板的四周均通过环形板与环形槽滑动连接。
7.优选地，多个所述片板均为网状结构，每组所述片板之间的间距为10-15cm。
8.优选地，多个所述分流管的底端等距分布于片板的上方。
9.优选地，所述进气管和出气管的直径相同，且所述进气管和出气管均采用pvc材料制作而成。
10.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
11.1、本实用新型通过设置有片板、环形板和环形槽，在传感器单晶硅置于两个片板之间后，电机运行让转轴转动，使得多个片板四周通过环形板在环形槽内滑动，提高了片板
转动的稳定性，且当传感器单晶硅由于离心滑动时，位于四周的环形板可挡住传感器单晶硅，以防其滑脱，避免了片架转动过程中传感器单晶硅可能滑脱掉落出现损伤的情况；
12.2、本实用新型通过设置有分流管、进气管和喷气孔，当设备运行时，工作人员将进气管与气源室连接，之后气体通过进气管可输入多个分流管中，然后气流可均匀的通过喷气孔进入反应箱中，让气体更加快速的弥漫整个反应箱，从而加快气体与传感器单晶硅的接触反应速度，避免了气体与片架上的传感器单晶硅接触反应较为迟缓的情况。
附图说明
13.图1为本实用新型结构示意图；
14.图2为本实用新型片板结构示意图；
15.图3为本实用新型图1中a处放大图；
16.图4为本实用新型图1中b处放大图。
17.图中：1、反应箱；2、底座；3、电机；4、转轴；5、片板；6、环形板；7、环形托架；8、电磁线圈；9、出气管；10、分流管；11、进气管；12、喷气孔；13、环形槽；14、拆卸网板。
具体实施方式
18.下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
19.在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“设置”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可调整连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。下面根据本实用新型的整体结构，对其实施例进行说明。
20.请参阅图1-4，一种传感器单晶硅刻蚀设备，包括反应箱1、底座2、电机3、转轴4、片板5、环形板6、环形托架7、电磁线圈8、出气管9、分流管10、进气管11、喷气孔12、环形槽13和拆卸网板14，反应箱1的底部两侧固定有底座2，反应箱1的底部中间安装有电机3，电机3的输出端连接有贯穿至反应箱1内部的转轴4，转轴 4的外表面套接有多个片板5，多个片板5的顶部安装有拆卸网板14，多个片板5之间固定有环形板6，反应箱1的内部自上而下均开设有环形槽13，反应箱1的两侧自上而下均安装有环形托架7，多个环形托架7的顶部均安装有电磁线圈8，反应箱1的顶部贯穿有多个分流管10，多个分流管10的外表面均开设有喷气孔12，多个分流管10 的顶端均贯穿至反应箱1的顶部并连接有进气管11，进气管11可与气源室连接，反应箱1的底部一侧贯穿有出气管9，出气管9可与抽气装置连接。
21.请着重参阅图1、2和4，多个片板5共八个，分为四组，每组片板5的四周均通过环形板6与环形槽13滑动连接，以便环形板6 在环形槽13中滑动，多个片板5均为网状结构，每组片板5之间的间距为10-15cm，以便放置传感器单晶硅。
22.请着重参阅图1-3，多个分流管10的底端等距分布于片板5的上方，使得气体经过分流管10排出后更加顺畅，进气管11和出气管 9的直径相同，且进气管11和出气管9均采用pvc材料制作而成，以便气体进出。
23.工作原理：首先，工作人员通过向上取下拆卸网板14，之后可将传感器单晶硅置于两个片板5之间，然后设备运行，电机3让转轴 4转动，使得多个片板5四周通过环形板6在环形槽13内滑动，提高了片板5转动的稳定性，且当传感器单晶硅由于离心滑动时，位于四周的环形板6可挡住传感器单晶硅，以防其滑脱，同时在设备运行时，气体通过进气管11可输入多个分流管10中，然后气流可均匀的通过喷气孔12进入反应箱1中，让气体更加快速的弥漫整个反应箱 1，从而加快气体与传感器单晶硅的接触反应速度。
24.对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。