1.一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：
2.根据权利要求1所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤1）中，还包括如下技术特征中的至少一项：
3.根据权利要求1所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤2）中，还包括如下技术特征中的至少一项：
4.根据权利要求3所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述耐磨氧化锆球的平均直径为0.2-0.3mm。
5.根据权利要求1所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤4）中，将掺杂氧化锡颗粒制备成掺杂氧化锡靶材坯体，是采用模具成型+冷等静压致密化的方法，将掺杂氧化锡颗粒制备成为掺杂氧化锡旋转靶或平面靶坯体。
6.根据权利要求1所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述步骤5）中，烧结包括两段热处理和三段烧结。
7.根据权利要求6所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述两段热处理为：①脱水：以1℃/min的速度从室温升至250℃，保温6小时以脱去掺杂氧化锡靶材坯体内残留或吸附的水分；②脱胶：以1℃/min的速度从250℃升温至680℃，保温8小时使掺杂氧化锡靶材坯体内的胶合剂挥发干净。
8.根据权利要求6所述的一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法，其特征在于，所述三段烧结为：①预烧结：以0.5℃/min的速度从680℃升温至1000℃，保温8小时使掺杂氧化锡靶材坯体内部颗粒形成烧结颈，有助于后续烧结；②烧结：以0.25℃/min的速度升温至1250-1300℃并保温12-16小时，使靶材充分烧结，颗粒之间互相连接、长大，靶材体积得到收缩，内部逐渐致密化；③密度提升：以0.2℃/min的速度升温至1400-1450℃，并保温6-10小时。
9.一种高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材，其特征在于，采用如权利要求1-8任一所述的高性能掺杂氧化锡陶瓷靶材的制备方法制得，靶材相对密度＞98%，电阻率＜10.5mω·cm。