氧化硅包覆的氧化锌及其制造方法和含有氧化硅包覆的氧化锌的组合物以及化妆料的制作方法
【技术领域】
[0001] 本发明设及氧化娃包覆的氧化锋及其制造方法和含有氧化娃包覆的氧化锋的组 合物W及化妆料。
[0002] 本申请基于2013年11月13日在日本提出的日本特愿2013-235347号要求优先权， 将其内容援引于本说明书中。
【背景技术】
[0003] 紫外线不仅认为是晒黑、晒伤的原因，还认为是衰老现象、皮肤癌的原因。因此，紫 外线遮蔽剂在化妆料的领域中被广泛使用。
[0004] 例如，紫外线遮蔽剂通常使用二苯甲酬类、甲氧基肉桂酸类、二苯甲酯基甲烧类等 的有机类紫外线吸收剂、氧化锋、氧化铁等的无机类紫外线散射剂。
[0005] 但是，有机类紫外线吸收剂可能会由于热、长时间的紫外线照射而发生劣化，仅用 一种有机类紫外线吸收剂无法吸收宽范围的紫外线，因此，存在需要组合使用紫外线的吸 收波长不同的多种有机类紫外线吸收剂等问题。
[0006] 另一方面，无机类紫外线散射剂不会由于热、长时间的紫外线照射而发生劣化，耐 候性、耐热性等优良，具有能够使宽范围的波长区域的紫外线发生散射运样的优点。可是， 即使是具有运样的优点的无机类紫外线散射剂，也存在如下问题。即，不仅使紫外线发生散 射，而且使可见光线发生散射，因此，在化妆料等中大量配合运样的无机类紫外线散射剂 时，存在容易变得带有白色运样的问题。因此，为了应对运样的问题，将无机类紫外线散射 剂与有机类紫外线吸收剂适当组合来利用。
[0007] 近年来，水系的化妆料与油系的化妆料相比，不会发粘，可W得到清爽的使用感， 因此，特别作为防晒霜、乳液、乳霜等各种化妆料加 W使用。运样的化妆料中，主要使用氧化 铁和氧化锋作为无机类紫外线散射剂。
[000引氧化锋具有光催化活性。因此，在用于化妆料时，存在必须严格挑选其配合量、共 存的其他配合成分运样的繁杂性。因此，出于抑制氧化锋的光催化活性的目的，提出了将氧 化锋的表面用氧化娃、氧化侣等低活性物质进行包覆而得到的表面包覆氧化锋(例如，参考 专利文献1、2)。
[0009] 在水系的化妆料中使用氧化锋的情况下，会产生水系的化妆料所特有的问题。即， 由于氧化锋为两性金属的氧化物，因此易溶于酸和碱，另外也微溶于水，结果释放锋离子。 因此，在水系的化妆料中使用氧化锋的情况下，溶出的锋离子与有机类紫外线吸收剂和增 粘剂等水溶性高分子等反应，可能会产生作为化妆料的性能的降低、变色和粘度的增减等 问题。即，存在配方的自由度受限运样的问题。
[0010] 特别是，将作为增粘剂通用的簇基乙締基聚合物等的卡波姆与氧化锋组合使用 时，存在如下问题:溶出的锋离子与卡波姆的簇酸醋基(COCT)反应，由此使卡波姆的凝胶结 构被破坏，粘度降低。因此，为了抑制锋离子的溶出，提出了将表面用氧化娃等无机化合物 进行包覆而得到的表面包覆氧化锋(例如，参考专利文献3、4)。
[0011]现有技术文献 [0012]专利文献
[0013] 专利文献1:日本专利第2851885号公报
[0014] 专利文献2:日本专利第3848458号公报
[0015] 专利文献3:日本专利第3520785号公报
[0016] 专利文献4:日本专利第4836232号公报
【发明内容】
[0017]发明所要解决的问题
[0018] 但是，在将专利文献1~4所记载的表面包覆氧化锋应用于水系的化妆料的情况 下，水系的化妆料的氨离子指数(pH)变化至碱侧(7<)，存在品质稳定性差的问题。
[0019] 特别是，对于最近的化妆料而言，存在为了得到更接近水的质感而增加水的含量 的倾向。在使水的含量增加的情况下，由于氨离子指数的增大而使品质降低的问题变得更 加显著。
[0020] 本发明是鉴于上述情况下而完成的，其目的在于提供能够抑制氨离子指数(pH)的 变动的氧化娃包覆的氧化锋及其制造方法和含有氧化娃包覆的氧化锋的组合物W及化妆 料。
[0021] 用于解决问题的方法
[0022] 本发明人为了解决上述问题而反复进行了深入研究，结果发现了 W下的发明。即 发现，在将氧化锋粒子的表面用氧化娃覆膜进行包覆而得到的氧化娃包覆的氧化锋中含有 选自由MgXa和Ba组成的组中的至少一种时，即使在将该氧化娃包覆的氧化锋应用于水系 的化妆料等水系材料的情况下，水系材料的氨离子指数(pH)也不会发生变动，能够维持品 质稳定性，从而完成了本发明。
[0023] 即，
[0024] [1]作为本发明的第一方式的氧化娃包覆的氧化锋，其为将氧化锋粒子的表面用 氧化娃覆膜进行包覆而得到的氧化娃包覆的氧化锋，其特征在于，含有选自由Mg、Ca和Ba组 成的组中的至少一种。
[0025] [2]作为本发明的第二方式的氧化娃包覆的氧化锋的制造方法，其特征在于，具有 如下工序：
[0026] 将在氧化锋粒子的表面包覆含有碱金属的氧化娃而得到的氧化锋与选自Mg、Ca和 Ba的组中的至少一种在含有水的溶液中进行混合，将上述包覆有氧化娃的氧化锋中的碱金 属用选自由Mg、化和Ba组成的组中的至少一种进行置换。
[0027] [3]作为本发明的第=方式的氧化娃包覆的氧化锋的制造方法，其特征在于，具 有：
[0028] 将含有氧化锋粒子的氧化锋水系悬浮液添加到含有碱金属娃酸盐的碱金属娃酸 盐水溶液中而制备含有上述氧化锋粒子和上述碱金属娃酸盐的水系悬浮液的工序；
[0029] 向上述水系悬浮液中添加酸的工序；W及
[0030] 向上述添加有酸的水系悬浮液中添加含有选自由儀盐、巧盐和领盐组成的组中的 至少一种的水溶液而将来源于上述碱金属娃酸盐的碱金属离子用选自由Mg Xa和Ba组成的 组中的至少一种的离子进行离子交换的工序。
[0031] [4]作为本发明的第四方式的含有氧化娃包覆的氧化锋的组合物，其特征在于，含 有本发明的氧化娃包覆的氧化锋。
[0032] [5]作为本发明的第五方式的化妆料，其特征在于，在基剂中含有本发明的氧化娃 包覆的氧化锋。
[0033] 发明效果
[0034] 根据本发明的氧化娃包覆的氧化锋，由于含有选自由Mg Xa和Ba组成的组中的至 少一种，因此，即使在将该氧化娃包覆的氧化锋应用于水系的化妆料等水系材料的情况下， 也能够抑制水系材料的氨离子指数(pH)的变动。因此，能够维持水系材料的品质的稳定性。
[0035] 根据本发明的氧化娃包覆的氧化锋的制造方法，具有将在氧化锋粒子的表面包覆 含有碱金属的氧化娃而得到的氧化锋与选自Mg、Ca和Ba的组中的至少一种在含有水的溶液 中进行混合而将该包覆有氧化娃的氧化锋中的碱金属用选自由Mg Xa和Ba组成的组中的至 少一种进行置换的工序。结果，能够使氧化娃包覆的氧化锋含有选自由Mg Xa和Ba组成的组 中的至少一种。因此，即使在应用于水系的化妆料等水系材料的情况下，也能够抑制水系材 料的氨离子指数(pH)的变动，因此，能够制作能维持水系材料的品质的稳定性的氧化娃包 覆的氧化锋。
[0036] 根据本发明的氧化娃包覆的氧化锋的制造方法，具有将含有氧化锋粒子的氧化锋 水系悬浮液添加到含有碱金属娃酸盐的碱金属娃酸盐水溶液中而制备含有上述氧化锋粒 子和上述碱金属娃酸盐的水系悬浮液的工序、向上述水系悬浮液中添加酸的工序、W及向 上述添加有酸的水系悬浮液中添加含有选自由儀盐、巧盐和领盐组成的组中的至少一种的 水溶液而将来源于上述碱金属娃酸盐的碱金属离子用选自由Mg、Ca和Ba组成的组中的至少 一种的离子进行离子交换的工序。结果，能够使氧化娃包覆的氧化锋含有选自由Mg Xa和Ba 组成的组中的至少一种。因此，即使在应用于水系的化妆料等水系材料的情况下，也能够抑 制水系材料的氨离子指数(pH)的变动，因此，能够制作能维持水系材料的品质的稳定性的 氧化娃包覆的氧化锋。
[0037] 根据本发明的含有氧化娃包覆的氧化锋的组合物，由于含有本发明的氧化娃包覆 的氧化锋，因此，应用于油包水型(W/0)材料等油系材料的情况自不必说，即使在应用于水 系材料的情况下，也能够抑制氨离子指数(pH)的变动。因此，能够维持品质的稳定性。
[0038] 根据本发明的化妆料，由于在基剂中含有本发明的氧化娃包覆的氧化锋，因此，应 用于油包水型(W/0)材料等油系材料的情况自不必说，即使在应用于水系材料的情况下，也 能够抑制氨离子指数(pH)的变动。因此，能够维持品质的稳定性。
【附图说明】
[0039] 图1是表示本发明的实施例3的含有氧化娃包覆的氧化锋的组合物的粘度的经时 变化的图。
【具体实施方式】
[0040] 本发明设及氧化娃包覆的氧化锋及其制造方法和含有氧化娃包覆的氧化锋的组 合物W及化妆料。更详细而言，设及护肤化妆品、彩妆化妆品、身体护理化妆品等各种化妆 品、特别是适合在要求紫外线遮蔽功能的化妆水、防晒凝胶、乳液、乳霜、粉底霜、口红、姻 月旨、眼影等中使用的氧化娃包覆的氧化锋及其制造方法和含有氧化娃包覆的氧化锋的组合 物、W及在基剂中含有该氧化娃包覆的氧化锋的化妆料。
[0041] W下，对用于实施本发明的氧化娃包覆的氧化锋及其制造方法和含有氧化娃包覆 的氧化锋的组合物W及化妆料的优选方式进行说明。
[0042] 需要说明的是，W下的实施方式是为了更好地理解发明的主旨而具体说明的，只 要没有特别指定，并不是对本发明进行限定。
[0043] [氧化娃包覆的氧化锋]
[0044] 本发明的一个实施方式的氧化娃包覆的氧化锋是将氧化锋粒子的表面用氧化娃 覆膜进行包覆而得到的氧化娃包覆的氧化锋，其含有选自由Mg、Ca和Ba组成的组中的至少 一种。
[0045] 本实施方式的氧化娃包覆的氧化锋的平均粒径可W根据需要进行选择，优选为 2nmW上且SOOnmW下，更优选为5nmW上且400nmW下，进一步优选为1〇加1^上且40〇11111^ 下。
[0046] 需要说明的是，本实施方式中的"平均粒径"是通过W下的方法求出的值。即，在使 用透射电子显微镜(TEM)等对本实施方式的氧化娃包覆的氧化锋进行观察的情况下，选出 预定数量、例如200个或100个的氧化娃包覆的氧化锋。然后，测定运些氧化娃包覆的氧化锋 各自的最长的直线部分(最大长径），对运些测定值进行加权平均，将求出的数值作为平均 粒径。
[0047] 在氧化娃包覆的氧化锋彼此凝聚的情况下，不是测定该凝聚体的凝聚粒径。测定 预定数量的构成该凝聚体的氧化娃包覆的氧化锋的粒子(一次粒子），作为平均粒径。
[0048] 作为将本实施方式的氧化娃包覆的氧化锋的平均粒径限定于上述范围的理由，可 W列举W下的理由。平均粒径小于化m时，氧化锋的晶体结构为空间群No.l86、P63mc、a = 0.32498nm、C = 0.52066nm，因此，无法得到充分的结晶性，氧化锋的紫外线遮蔽性能降低， 因此不优选。另一方面，平均粒径超过500nm时，粒子的可见光线的散射强度依赖于粒径，因 此，在配合到化妆料等时可能难W维持透明性。
[0049] 需要说明的是，本实施方式的氧化娃包覆的氧化锋的平均粒径越小，则越适合于 在配合到化妆料中时提高使用时的透明性。另一方面，平均粒径越大，则紫外线的散射强度 也越高，能够遮蔽至长波长为止的紫外线。因此，本实施方式的氧化娃包覆的氧化锋的平均 粒径根据作为目标的化妆料的透明性和紫外线的遮蔽性来适当选择即可。
[0050] 本实施方式的氧化娃包覆的氧化锋中的氧化锋粒子的含有率可W根据需要进行 选择，优选为50质量％ W上且99质量％ ^下，更优选为70质量％ W上且95质量％ ^下，进一 步优选为70质量％ W上且90质量％ W下。
[0051] 在此，氧化娃包覆的氧化锋中的氧化锋粒子的含有率低于50质量％时，可能无法 得到期望的紫外线遮蔽效果。对于在基剂中含有运样的氧化娃包覆的氧化锋的化妆料而 言，若想要得到期望的紫外线遮蔽效果，则必须使用大量的氧化娃包覆的氧化锋，因此不优 选。另一方面，氧化娃包覆的氧化锋中的氧化锋粒子的含有率超过99质量％时，该氧化娃包 覆的氧化锋中的氧化锋粒子的比例可能变得过高。结果，无法用氧化娃覆膜充分覆盖氧化 锋粒子的表面，氧化锋的光催化活性、锋离子的溶出抑制可能变得不充分。结果，可能会损 害在化妆料中组合使用天然油、有机类紫外线吸收剂等有机类有效成分时的配方稳定性， 因此不优选。
[0052] 本