技术特征：
技术总结
本发明属于分析化学技术领域，尤其涉及一种用于脱除展青霉素的纳米材料的合成与应用，本发明采用2‑Oxin为替代模板，AM为功能单体，以合成的Fe3O4@SiO2@CS‑GO磁性纳米粒子为载体，通过表面印迹法制备了特异性针对于Pat吸附的磁性MIP。Fe3O4的加入使得最终制备的分子印迹吸附材料具有磁性，有利于材料与基质间的分离，免去了过滤、离心等繁杂的操作步骤，方便材料的回收。
技术研发人员：孙秀兰;纪剑;皮付伟;张银志;郭巍;单雪晴
受保护的技术使用者：江南大学
技术研发日：2018.07.25
技术公布日：2019.01.11