单体、聚合物、补偿膜、光学膜和显示设备的制作方法

技术特征：

技术总结
公开单体、聚合物、补偿膜、光学膜和显示设备。所述单体由化学式1表示，其中，在化学式1中，R1、R2、o、p、L1、A1、Ra、m、和n与在具体实施方式中定义的相同。[化学式1]

技术研发人员：D.安德罗索夫;金畅基;K.费多斯亚;崔玹硕
受保护的技术使用者：三星电子株式会社
技术研发日：2018.07.27
技术公布日：2019.02.05