含环氧基异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法与流程

文档序号:17047697发布日期:2019-03-05 19:44阅读:来源:国知局

技术特征:

技术总结
本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物,其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层,适应微加工,并且对于光学器件的保护和封装应用而言是有用的。涂层可以以厚膜形式加工,以限定具有精细尺寸和垂直度的图案,并且变成固化涂层,该固化涂层具有改进的对基底、电子部件、半导体器件和电路板支撑件的粘附性、机械性能、电绝缘性和抗开裂性,且作为绝缘保护膜是可靠的。

技术研发人员:林久美子;丸山仁;近藤和纪;加藤英人
受保护的技术使用者:信越化学工业株式会社
技术研发日:2018.08.30
技术公布日:2019.03.05
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