技术特征：
技术总结
本申请涉及一种酸性水基清洗剂，其由下述原料组分制成：三元羧酸或其碱金属盐；三羟基取代的芳香族化合物；二羟基取代的二元羧酸或其碱金属盐；和余量的水。本申请还涉及一种制备如上所述的酸性水基清洗剂方法。本申请的清洗剂不含任何表面活性剂，原材料来源广泛，制备工艺简单，成本低廉，且可有效除去不同材料表面的有机污染物和金属离子，去污率高，特别适合于精密玻璃仪器和半导体工业中硅片衬底的清洗。
技术研发人员：冉晓玲
受保护的技术使用者：上海毅诺生物科技有限公司
技术研发日：2019.01.22
技术公布日：2019.04.26