用于电子装置中的聚合物的制作方法

文档序号:24891402发布日期:2021-04-30 13:17阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种液体组合物,其包含

(a)具有式i的重复单元结构的聚酰胺酸

其中:

ra在每次出现时是相同或不同的,并且表示一个或多个四羧酸组分残基;并且

rb在每次出现时是相同或不同的,并且表示一个或多个芳香族二胺残基;

其中30-100mol%的rb具有式ii

其中:

r1和r2在每次出现时是相同或不同的,并且选自由以下组成的组:卤素、烷基、氟烷基、甲硅烷基、烷氧基、氟烷氧基、以及甲硅烷氧基;

a和b是相同或不同的并且是0-4的整数;

c和d是相同或不同的并且是1或2;并且

*表示附接点;以及

(b)高沸点非质子溶剂。

2.如权利要求1所述的组合物,其中,30-100mol%的rb具有选自由以下组成的组的式:式iia、式iib、式iic、式iid、式iie、以及式iif

3.如权利要求1所述的组合物,其中,30-100mol%的rb具有选自由以下组成的组的式:式iia-1、式iib-1、式iic-1、式iid-1、式iie-1、以及式iif-1

其中:

r3和r4是相同或不同的,并且选自由以下组成的组:h、卤素、烷基、氟烷基、甲硅烷基、烷氧基、氟烷氧基、以及甲硅烷氧基。

4.一种聚酰亚胺,其具有式iv的重复单元结构

其中

ra在每次出现时是相同或不同的,并且表示一个或多个四羧酸组分残基;并且

rb在每次出现时是相同或不同的,并且表示一个或多个芳香族二胺残基;

其中30-100mol%的rb具有式ii

其中:

r1和r2在每次出现时是相同或不同的,并且选自由以下组成的组:卤素、烷基、氟烷基、甲硅烷基、烷氧基、氟烷氧基、以及甲硅烷氧基;

a和b是相同或不同的并且是0-4的整数;

c和d是相同或不同的并且是1或2;并且

*表示附接点。

5.如权利要求4所述的聚酰亚胺,其中,30-100mol%的rb具有选自由以下组成的组的式:式iia、式iib、式iic、式iid、式iie、以及式iif

6.如权利要求4所述的聚酰亚胺,其中,30-100mol%的rb具有选自由以下组成的组的式:式iia-1、式iib-1、式iic-1、式iid-1、式iie-1、以及式iif-1

其中:

r3和r4是相同或不同的,并且选自由以下组成的组:h、卤素、烷基、氟烷基、甲硅烷基、烷氧基、氟烷氧基、以及甲硅烷氧基。

7.一种聚酰亚胺膜,其包含如权利要求4所述的式iv的重复单元。

8.一种具有至少一个层的有机电子装置,所述至少一个层包括具有如权利要求4所述的式iv的重复单元的聚酰亚胺膜。

9.如权利要求8所述的电子装置,其中,所述层在选自由以下组成的组的装置部件中使用:装置基板、滤色片的基板、覆盖膜、以及触摸屏面板。


技术总结
公开了一种具有式IV的重复单元结构的聚酰亚胺。在式IV中:Ra在每次出现时是相同或不同的,并且表示一个或多个四羧酸组分残基;并且Rb在每次出现时是相同或不同的,并且表示一个或多个芳香族二胺残基。30‑100mol%的Rb具有式II。在式II中:R1和R2在每次出现时是相同或不同的,并且是卤素、烷基、氟烷基、甲硅烷基、烷氧基、氟烷氧基、或甲硅烷氧基;a和b是相同或不同的并且是0‑4的整数;c和d是相同或不同的并且是1或2;并且*表示附接点。

技术研发人员:B·C·奥曼;M·H·小霍华德
受保护的技术使用者:杜邦电子公司
技术研发日:2019.08.07
技术公布日:2021.04.30
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