多异氰酸酯组合物、涂覆组合物和涂覆基材的制作方法

文档序号:24530245发布日期:2021-04-02 10:08阅读:来源:国知局

技术特征:

1.一种多异氰酸酯组合物,其包含:

在分子内含有选自由羧酸根阴离子基团、磷酸根阴离子基团和磺酸根阴离子基团组成的组中的1种以上亲水性阴离子基团的多异氰酸酯;以及

阳离子性化合物,

所述亲水性阴离子基团相对于所述阳离子性化合物的摩尔比为1.002以上且1.2以下。

2.根据权利要求1所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述亲水性阴离子基团相对于所述阳离子性化合物的摩尔比为1.01以上且1.1以下。

3.根据权利要求1或2所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述亲水性阴离子基团包含磺酸根阴离子基团。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述阳离子性化合物为下述通式(1)所示的胺化合物的叔铵阳离子,

通式(1)中,r11、r12和r13相互独立地为任选包含醚键的碳原子数1以上且10以下的烃基,选自由r11、r12和r13组成的组中的至少一者任选包含环结构,选自由r11、r12和r13组成的组中的两者以上任选相互键合而形成环结构,所述环结构为芳香族环、碳原子数5或6的环烷基、r11与r12相互键合而成的5元环或6元环、或者r11与r12与r13相互键合而成的多元的稠环。

5.根据权利要求4所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述通式(1)所示的胺化合物包含r11、r12和r13均为直链状脂肪族烃基的胺化合物。

6.根据权利要求4或5所述的多异氰酸酯组合物,其中,在分子内含有所述亲水性阴离子基团的多异氰酸酯是通过具有羟基的磺酸的胺盐与多异氰酸酯的反应而得到的,

所述具有羟基的磺酸的胺盐是具有羟基的磺酸与所述通式(1)所示的胺化合物形成的盐。

7.根据权利要求6所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述具有羟基的磺酸为下述通式(2)所示的化合物,

ho-r21-so3h(2)

通式(2)中,r21为任选包含选自由羟基、醚键、酯键、羰基和亚氨基组成的组中的至少一者的碳原子数1以上且10以下的烃基,r21任选包含环结构,所述环结构是芳香族环、包含两个氮原子的5元环或6元环、或者包含氮原子和氧原子的5元环或6元环。

8.一种多异氰酸酯组合物,其包含:

在分子内含有磺酸根阴离子基团的多异氰酸酯;以及

下述通式(1)所示的胺化合物的叔铵阳离子,

所述磺酸根阴离子基团相对于所述叔铵阳离子的摩尔比为1.01以上且1.2以下,

通式(1)中,r11、r12和r13相互独立地为任选包含醚键的碳原子数1以上且10以下的烃基,选自由r11、r12和r13组成的组中的至少一者任选包含环结构,选自由r11、r12和r13组成的组中的两者以上任选相互键合而形成环结构,所述环结构为芳香族环、碳原子数5或6的环烷基、r11与r12相互键合而成的5元环或6元环、或者r11与r12与r13相互键合而成的多元的稠环。

9.根据权利要求8所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述磺酸根阴离子基团相对于所述叔铵阳离子的摩尔比为1.01以上且1.1以下。

10.根据权利要求8或9所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述通式(1)所示的胺化合物包含r11、r12和r13均为直链状脂肪族烃基的胺化合物。

11.根据权利要求8~10中任一项所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述在分子内含有磺酸根阴离子基团的多异氰酸酯是通过具有羟基的磺酸的胺盐与多异氰酸酯的反应而得到的,

所述具有羟基的磺酸的胺盐是具有羟基的磺酸与所述通式(1)所示的胺化合物形成的盐。

12.根据权利要求11所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述具有羟基的磺酸为下述通式(2)所示的化合物,

ho-r21-so3h(2)

通式(2)中,r21为任选包含选自由羟基、醚键、酯键、羰基和亚氨基组成的组中的至少一者的碳原子数1以上且10以下的烃基,r21任选包含环结构,所述环结构是芳香族环、包含两个氮原子的5元环或6元环、或者包含氮原子和氧原子的5元环或6元环。

13.根据权利要求1~12中任一项所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述多异氰酸酯具有异氰脲酸酯基。

14.根据权利要求1~13中任一项所述的多异氰酸酯组合物,其中,所述多异氰酸酯为选自由脂肪族多异氰酸酯、脂环族多异氰酸酯和芳香族多异氰酸酯组成的组中的至少1种。

15.一种涂覆组合物,其包含权利要求1~14中任一项所述的多异氰酸酯组合物。

16.一种涂覆基材,其利用权利要求15所述的涂覆组合物进行了涂覆。


技术总结
一种多异氰酸酯组合物、涂覆组合物和涂覆基材。本发明提供一种透明度高、制成涂膜时的外观和耐水性优异的多异氰酸酯组合物。多异氰酸酯组合物包含多异氰酸酯和阳离子性化合物,所述多异氰酸酯在分子内含有选自由羧酸根阴离子基团、磷酸根阴离子基团和磺酸根阴离子基团组成的组中的1种以上亲水性阴离子基团,前述亲水性阴离子基团相对于前述阳离子性化合物的摩尔比为1.002以上且1.2以下。

技术研发人员:李冠;山内理计
受保护的技术使用者:旭化成株式会社
技术研发日:2020.09.15
技术公布日:2021.04.02
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