一种高压电性能PVDF薄膜的制备方法与流程

文档序号:24238549发布日期:2021-03-12 13:12阅读:651来源:国知局
一种高压电性能PVDF薄膜的制备方法与流程

本发明属于薄膜材料制备技术领域,尤其涉及一种高压电性能的功能薄膜的制备方法。



背景技术:

聚偏二氟乙烯(polyvinylidinefluoride,简称pvdf)具有优越的压电、铁电、热电性能,广泛用于新型存储器、电容器、压电和热电转换器的制备。pvdf薄膜的制备方法有熔融挤出双向拉伸和溶液流延两种方法。采用熔融挤出双向拉伸制备的pvdf薄膜致密性好,抗电强度高,但投入大,损耗高。采用溶液流延法制备pvdf薄膜工艺简单,可按照投入小,易于操作。

pvdf结晶时晶体单胞内的不同构型分子链可配置成五种晶相:α、β、γ、δ、λ相。而常规方法下制备的pvdf薄膜大多为α相,不具备有压电性,而极性的β相的pvdf薄膜才具有压电性,而由α相转化为β相常规采用高温处理或拉伸或高电压极化,才可以将其转化,需求能源极大,且工艺复杂,产出率不高。

同时制成的pvdf膜中分子呈现无序状排布,因而影响了其压电性能,因此如何提高pvdf膜中的分子呈现有序状排布,从而提高其压电性能,显得尤为重要。



技术实现要素:

本发明的目的在于解决常规方法中具有压电性的β相的pvdf薄膜产出率不高,且功耗较大,而常规α相压电性较差的问题,提出了一种能够代替常规方法,将pvdf均匀地分布在石墨烯等片层材料的网络之中,并在急速温差或低电压下将其活化为β相的pvdf薄膜,使其整体规则排布且具有极性。

为实现上述目的,本发明采取的技术方案为:一种高压电性能的功能薄膜的制备方法,包括如下步骤:

(1)将pvdf、片层纳米材料、溶剂,按照一定比例进行配比,在常温(15℃~25℃)下进行搅拌5~24h;

(2)搅拌完毕后将其抽真空,同时升温加热,先加热至40℃,保温1h,再加热至100℃~150℃,保温1~24h;

(3)流延制成薄膜,干燥;

(4)低电压下极化。

本发明还提供了一种高压电性能的功能薄膜的制备方法,包括如下步骤:

(1)将pvdf、片层纳米材料、溶剂,按照一定比例进行配比,在常温(15℃~25℃)下进行搅拌5~24h;

(2)搅拌完毕后将其抽真空,升温加热,先加热至40℃,保温1h,再加热至100℃~150℃,保温1~24h;

(3)充入惰性气体,急速冷却至常温;

(4)流延制成薄膜,干燥。

优选的,所述片层纳米材料可以为石墨烯、氧化石墨烯、氧化还原石墨烯、c3n4等中的一种或多种的组合,优选氧化石墨烯。

优选的,所述溶剂可以为n,n-二甲基甲酰胺、n,n-二甲基乙酰胺、n-甲基吡咯烷酮、二甲基亚砜、丙酮、丁酮、四氢呋喃等中的一种或几种的组合,优选n-甲基吡咯烷酮。

优选的,将pvdf、片层纳米材料、溶剂,按照一定比例进行配比,其混合溶液中,pvdf重量百分比为30wt%~70wt%,片状纳米材料重量百分比为5wt%~10wt%,溶剂重量百分比为20wt%~65wt%。

更优选的,将pvdf、片层纳米材料、溶剂,按照一定比例进行配比,其中,以重量比计,pvdf:氧化石墨烯:n-甲基吡咯烷酮=7:1:2。

优选的,极化时,电场强度保持10kv/cm~100kv/cm。

优选的,所得功能薄膜的厚度为1~100μm。

与现有技术相比,本发明提供了一种高压电性能的pvdf薄膜,其本质上是pvdf通过片状纳米材料的包裹,均匀地分布在片状纳米材料的层间,同时在温度急剧变化或者在较低的电压极化下,能够使得pvdf与片层状结合,让pvdf借助于片状纳米材料的网络,呈现规则排布,从而产生晶体效应,提高其压电性能,可用于电化学传感器。

本发明制备方法简单,可行性好,安全性提高,有较高的产出率,同时具有较高的压电性能。

附图说明

图1为α相pvdf结构排布示意图。

图2为β相pvdf结构排布示意图。

图3为pvdf借助氧化石墨烯片层结构实现高压电性能的分子式示意图。

图4为pvdf借助氧化石墨烯片层结构实现高压电性能的平面示意图。

图5为pvdf借助氧化石墨烯片层结构实现高压电性能的三维示意图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本发明,列举以下实施例,但其对本发明无任何限制。

实施例1:

结合图1-图5,本发明提供了一种高压电性能pvdf薄膜的制备方法。步骤如下:

1、称取70mg干燥的pvdf粉末及10mg氧化石墨烯,将其溶于20mg的n-甲基吡咯烷酮;

2、常温下进行搅拌5h;

3、将其置于真空环境中加热,去除混合液中的气体;

4、将其升温至40℃,保温1h;

5、再加热至120℃,保温3h,后真空冷却;

6、将洗干净的玻璃板置于涂膜机上,调整刮刀狭缝宽度和流延速度;

7、放入配制处理好的pvdf溶液,流延制备pvdf薄膜;

8、然后将涂有pvdf溶液的玻璃板置于60℃的干燥箱中干燥24h;

9、从玻璃板上剥离制备好的pvdf薄膜;

10、常温下,电场强度保持100kv/cm,将其极化。

实施例2:

结合图1-图3,本发明提供了一种高压电性能pvdf薄膜的制备方法。步骤如下:

1、称取70mg干燥的pvdf粉末及10mg氧化石墨烯,将其溶于20mg的n-甲基吡咯烷酮;

2、常温下进行搅拌5h;

3、将其置于真空环境中加热,去除混合液中的气体;

4、将其升温至40℃,保温1h;

5、再加热至120℃,保温3h;

6、后通入氩气将其迅速冷却;

7、将洗干净的玻璃板置于涂膜机上,调整刮刀狭缝宽度和流延速度;

8、放入配制处理好的pvdf溶液,流延制备pvdf薄膜,通过急速退火使得聚偏氟乙烯分子在石墨烯中规则排布;

9、然后将涂有pvdf溶液的玻璃板置于60℃的干燥箱中干燥24h;

10、从玻璃板上剥离制备好的pvdf薄膜。

图1为常规α相pvdf分子构型,图2为β相pvdf分子构型。

图3为pvdf借助氧化石墨烯片层结构实现高压电性能的分子式示意图,pvdf分子借助石墨烯的碳链片层结构进行有序排布,其在搅拌完毕后,经由急剧温差变化或者低电压极化即可完成规则排布。

图4为pvdf借助氧化石墨烯片层结构实现高压电性能的平面示意图,pvdf分子借助石墨烯的碳链片层结构进行有序排布,其在搅拌完毕后,经由急剧温差变化或者低电压极化即可完成规则排布,其本质与图3相同。

图5为pvdf借助氧化石墨烯片层结构实现高压电性能的三维示意图,pvdf分子借助石墨烯的碳链片层结构进行有序排布,其在搅拌完毕后,经由急剧温差变化或者低电压极化即可完成规则排布,其本质与图3、图4相同。

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