1.一种具有防止反射功能的光学薄膜技术，包括：s1配置共混聚合物溶液、s2基板清洗、s3旋转涂膜、s4烘干、s5去除ps；其特征在于：所述s1配置共混聚合物溶液：共混溶液的浓度和其中pmma与ps的比例是影响制得纳米多孔膜微孔结构的很重要的参数，浓度太高，会影响旋涂过程中匀胶的均匀性，增加旋涂后薄膜的表面粗糙度和膜厚，使得薄膜对入射光散射加剧，呈现不透明状态；浓度太低，不利于形成理想的微孔结构，因此选用聚合物溶质与溶剂质量比为1/40的溶液浓度，溶剂thf、溶质pmma与ps、浓度1/40~1/20，溶剂chcl3、溶质pmma与ps、浓度1/40，溶剂甲苯、溶质pmma与ps、浓度1/40，溶剂thf、溶质pmma、浓度1%~5%，溶剂chcl3、溶质pmma、浓度1%~3%；所述s2基板清洗：圆形k9玻璃基板，厚度1mm、直径20mm，（1）将玻璃基板在强氧化剂洗液（浓硫酸：双氧水=1：2）中清洗5分钟；（2）用去离子水反复冲洗，至覆盖在基板上呈现均匀、连续的水膜，而不是聚集成滴，或者成股流下；（3）水洗后的基板使用乙醇乙醚溶液清洗，无纺布擦干；所述s3旋转涂膜：处理好的基板应马上进行旋转涂膜，使用的是台式匀胶机，基板绕垂直于基板面的中轴旋转，轴与抽气泵连接,旋涂过程中开动气泵抽气，将基板吸附在旋转台上，第一阶段是滴加溶液，用吸管吸取共混聚合物溶液滴加到玻璃基板中心，吸取的量要足够铺满基板，由于之后的步骤中随着基板的旋转会把部分溶液甩出去，留下形成薄膜的溶液必然多于滴加的溶液，要让基板被溶液充分润湿，否则会影响薄膜与基板的附着，无法形成均匀的薄膜；第二阶段为预转，基板从静止开始加速旋转，由于旋转速度较低，部分溶液在离心力的作用下开始向基板边缘移动，基板表面形成一层不均匀的液膜，实验中选择预转速度为1000转/分(pm)，预转时间为3s；第三阶段为高速旋转涂覆薄膜，转速加快到每分钟几千转并稳定下来，离心力的变大使得溶液被快速甩离基板，液膜厚度逐渐变薄，同基板之间的粘附力与表面张力、离心力共同作用下逐渐达到平衡，此过程中，可以看到液膜变薄导致的干涉条纹变化，最终形成颜色一致的干涉条纹，薄膜厚度均匀，选择高速匀胶速度为3000rpm，时间为30s；第四阶段是指基板匀速转动的过程中，溶剂蒸发，留下溶质组成的聚合物薄膜，转速恒定的时候，溶剂蒸发是影响薄膜厚度和微结构的主要因素，溶剂大量挥发，会使液膜粘度大幅度上升，共混溶液逐渐分离为pmma和ps各自富集的两种相，共混聚合物溶液的相分离主要发生在旋涂薄膜过程的高速旋转、溶剂蒸发阶段；所述s4烘干：将旋涂好的共混聚合物薄膜放进烘箱中烘干，促使薄膜内残留的溶剂充分挥发，使薄膜于燥，以增加聚合物薄膜与基底的粘附性和机械强度；根据聚合物材料自身的玻璃化温度及其他性能，选择合适的退火温度；
加热结束，不要打开烘箱，试样随炉冷却，避免pmma吸水；所述s5去除ps：将热固化的共混聚合物薄膜浸入环己烷，浸泡时间为几十分钟，取出，吹干表面溶剂，再进行烘烤。