1.一种单层相位差材料的制造方法，其特征在于，包含以下工序：
2.根据权利要求1所述单层相位差材料的制造方法，其中，波长313nm的光在所述波长365nm的光与波长313nm的光的合计量中所占的量为5％以下。
3.根据权利要求1或2所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述偏振光紫外线不包含波长313nm的光。
4.根据权利要求1～3中任一项所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述单层相位差材料的制造方法包含以下工序：
5.根据权利要求1～3中任一项所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述照射偏振光紫外线的涂膜的膜厚为0.5μm以上。
6.根据权利要求1～5中任一项所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述聚合物具有侧链，所述侧链具有下述式(a1)～(a3)所表示的任一光反应性部位：
7.根据权利要求6所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述聚合物还具有不显示光取向性的侧链。
8.根据权利要求7所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述不显示光取向性的侧链是选自下述式(1)～(12)中的任一种侧链：
9.根据权利要求6～8中任一项所述的单层相位差材料的制造方法，其中，所述具有光反应性部位的侧链为下述式(a1-1)～(a3-1)所表示的任一基团：