一种基于双重共价的后修饰表面印迹聚合物的制备方法及其选择性分离单磷酸腺苷的应用

文档序号:32308683发布日期:2022-11-23 10:50阅读:来源:国知局

技术特征:
1.一种基于双重共价的后修饰表面印迹聚合物的制备方法,其特征在于,以介孔二氧化硅纳米片作为基底,通过表面印迹和双重共价结合位点的pim策略,利用二元功能单体的双重共价作用固定模板分子取向,包括以下步骤:(1)制备介孔二氧化硅纳米片msio
2-ns:将聚苯乙烯微球ps分散在含有乙醇、水和氨水的混合溶剂a中,将十六烷基三甲基溴化铵ctab分散在乙醇和水的混合溶剂b中,两者混合后,将混合物搅拌后快速加入一定量的正硅酸四乙酯teos和3-氯丙基三甲氧硅烷cptes,将得到的混合物在一定反应条件下反应,反应结束后离心收集,将产物在含hcl的乙醇溶液中搅拌,离心收集后,再用四氢呋喃thf搅拌,离心,再用thf/乙醇洗涤多次,超声破碎,真空干燥制的msio
2-ns;(2)制备双位点表面印迹后修饰前复合吸附剂d-fmips:将模板分子amp溶解于二甲基亚砜dmso和pbs溶液中,向溶液中加入双硫键单体ds-fm1后,通n2使混合物保持在无氧条件下,进行第一次避光自组装;再加入一定量的生理活性硼酸单体amc-fm2,通氮气除氧,进行第二次避光自组装;然后,加入一定量的n,n
′‑
亚甲基双丙烯酰胺mbaa和msio
2-ns纳米片,通氮气除氧,再加入一定量的cucl、cucl2和n,n,n,n,n-五甲基二乙烯三胺pmdeia,通氮气除氧后,加入一定量的抗坏血酸,通氮气除氧,进行第三次避光搅拌,离心收集,甲醇洗涤数次;用一定浓度的tcep溶液还原双硫键,再用一定ph的盐酸溶液洗脱,去除模板分子,再用水洗至中性,真空干燥,制得d-fmips;(3)d-pmips纳米片的制备:将一定量的嘧啶双硫键单体ds-fm3溶解于dmso中,加入一定量的pbs溶液,再加入步骤(2)制备的d-fmips,一定温度下反应后,离心收集,甲醇洗涤,真空干燥,制得基于双重共价的后修饰表面印迹聚合物,即d-pmips。2.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,聚苯乙烯微球ps是通过如下方法制备的:按比例将一定量的苯乙烯和聚乙烯吡咯烷酮pvp混合,加入一定量的偶氮二异丁腈aibn作为热引发剂,并加入一定量的乙醇,通氮气使混合物保持在无氧条件下,70℃搅拌24h,离心乙醇洗涤,真空干燥制得聚苯乙烯微球ps;其中,所述的苯乙烯、pvp、aibn和乙醇的用量比为1.0ml:(0.07-0.08)g:(0.015-0.017)g:(3-3.5)ml。3.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述的ps、ctab、teos和cptes的用量比为:1.0g:1.0g:1.0ml:(0.3-1.9)ml;混合溶剂a中,乙醇、水和氨水的用量比为(60-63)ml:(52-53)ml:(0.3-0.5)ml;混合溶剂b中,水和乙醇的用量比为(15-17)ml:(8-8.5)ml。4.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,所述反应条件为:25℃条件下搅拌反应6h,随后升温至80℃过夜;在含hcl的乙醇溶液中搅拌温度为60℃,搅拌时间为6h;含hcl的乙醇溶液中,hcl的含量为36wt%。5.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述的dmso和pbs溶液的比例为:1.0ml:(0.9-1.1)ml,其中,pbs溶液的ph=7.4,浓度为50mm。6.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,模板分子amp、ds-fm1和amc-fm2的用量比为:1.0g:(0.9-2)g:(0.8-2)g;模板分子amp、msio
2-ns纳米片和mbaa的用量比为:1.0g:1.0g:(2.0-2.5)g;
模板分子amp、cucl、cucl2、pmdeia和抗坏血酸的用量比为:1.0g:1.0g:(1.0-1.5)g:(4.0-5)ml:(1.5-2.5)g。7.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,所述的tcep溶液的浓度为15-25mm,洗脱时,盐酸溶液的ph为1.0-5.0;第一次避光自组装的条件为:35℃避光自组装12h;第二次避光自组装的条件为:室温避光自组装12h;第三次避光搅拌的条件为:35℃条件下避光搅拌12h。8.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述的dmso和pbs溶液的用量比为1.0ml:(8-10)ml,pbs溶液的ph=7.4,浓度为50mm。9.如权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述的d-fmips、嘧啶双硫键单体ds-fm3的用量比为1.0g:(0.55-0.60)g;反应温度为35℃,反应时间为5h。10.将权利要求1~9任一项所述制备方法制得的基于双重共价的后修饰表面印迹聚合物用于amp的选择性吸附分离的用途。

技术总结
本发明属于分子辨识吸附分离功能材料制备技术领域,公开了一种基于双重共价的后修饰表面印迹聚合物的制备方法及其选择性分离单磷酸腺苷的应用。本发明将以介孔二氧化硅纳米片作为基底,通过表面印迹和双重共价结合位点PIM策略,利用二元功能单体的双重共价作用固定模板分子取向,制备双位点表面印迹后修饰复合吸附剂D-PMIPs,并用于选择性分离AMP。为了最大化的提高AMP分子的结合作用和选择性,选择和设计匹配的功能单体,通过合成与其匹配的双硫键单体和具有亲和功能双硫键化合物,利用二元功能单体组装和固定模板分子取向,探索双位点结合位点PIM策略在介孔二氧化硅纳米片表面修饰印迹识别位点,实现AMP的选择性分离。实现AMP的选择性分离。实现AMP的选择性分离。


技术研发人员:王盼 潘建明
受保护的技术使用者:江苏大学
技术研发日:2022.09.01
技术公布日:2022/11/22
当前第2页1 2 
网友询问留言 已有0条留言
  • 还没有人留言评论。精彩留言会获得点赞!
1