1.一种耐磨损、超疏水聚碳酸酯基片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的聚碳酸酯超疏水基片的制备方法，其特征在于：聚四氟乙烯微粉的粒径为20-30μm，纳米二硫化钼粉末的粒径为100-200nm。
3.根据权利要求1所述的聚碳酸酯超疏水基片的制备方法，其特征在于：全氟烷基硫醇为1h,1h,2h,2h-全氟辛硫醇、1h,1h,2h,2h-全氟癸硫醇、1h,1h,2h,2h-全氟十二烷硫醇中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的聚碳酸酯超疏水基片的制备方法，其特征在于：步骤（1）中，辐照反应的温度为室温，辐照剂量为30-50kgy。
5.根据权利要求1所述的聚碳酸酯超疏水基片的制备方法，其特征在于：步骤（2）中，超声处理的超声功率为500-1000w，时间为18-24h。
6.根据权利要求1所述的聚碳酸酯超疏水基片的制备方法，其特征在于：步骤（3）中，喷雾沉积的喷雾量为250-350g/m2，喷孔直径为0.7-1mm，喷雾压力为2-4bar，距离为10-15cm。
7.根据权利要求1所述的聚碳酸酯超疏水基片的制备方法，其特征在于：步骤（3）中，改性聚四氟乙烯微粉、改性纳米二硫化钼粉末、甲醇的质量比为10：5：100或 12：6：100或14：7：100。
8.权利要求1-7任一项所述制备方法制备得到的耐磨损、超疏水聚碳酸酯基片。