技术总结
本发明公开了一种用于氧化锆陶瓷3D抛光的抛光液及其制备方法,所述抛光液包括如下重量百分含量的组分：二氧化硅胶体10‑50％、分散剂0.01‑0.5％、抗结晶剂0.1‑2％、缓蚀剂0.01‑0.2％、表面活性剂0.01‑0.5％、消泡剂0.01‑0.5％、适量pH调节剂调节pH值在8.5‑11.5，余量为去离子水；其中，二氧化硅胶体粒径为40‑150nm。本发明的抛光液适合利用具有软质刷头的3D扫光机对氧化锆陶瓷3D的曲面或薄片进行抛光，抛光液的粘度值较高，在10‑15cp(厘泊)，可以很好地附着在3D扫光机上盘的软质刷头上，增加与被抛光氧化锆陶瓷的摩擦几率，抛光效率高，氧化锆陶瓷表面通透没有出现发雾状况，表面质量缺陷率极低，从而带来理想的抛光结果。
技术研发人员：裴亚利;张忆;程彦芬;操应军
受保护的技术使用者：北京航天赛德科技发展有限公司
技术研发日：2017.12.19
技术公布日：2018.06.01