酞菁系化合物、及其用途的制作方法

文档序号:19225397发布日期:2019-11-26 02:30阅读:来源:国知局

技术特征:

1.通式(1)表示的酞菁系化合物,

式(1)中,r表示烷基、芳基,x表示氢原子、卤素原子、烷基,可以彼此键合而形成芳香环;m表示两个氢原子、2价金属或者3价或4价的金属衍生物,n表示3~6的整数。

2.如权利要求1所述的酞菁系化合物,其中,r为碳原子数1~12的支链或直链烷基。

3.如权利要求1或2所述的酞菁系化合物,其中,m为两个氢原子、pd、cu、zn、pt、ni、tio、co、fe、mn、sn、al-cl、vo或in。

4.如权利要求1~3中任一项所述的酞菁系化合物,其中,r为甲基或乙基,x为氢原子,n为4。

5.近红外线吸收材料,其含有至少一种权利要求1~4中任一项所述的酞菁系化合物。

6.热射线屏蔽材料,其含有至少一种权利要求1~4中任一项所述的酞菁系化合物。

7.如权利要求6所述的热射线屏蔽材料,其为热射线屏蔽膜。

8.如权利要求6所述的热射线屏蔽材料,其为夹层玻璃用中间膜。


技术总结
提供在近红外区域具有强吸收、且可见光区域的吸收非常小、耐久性高、在有机溶剂、树脂中的溶解性良好的新型酞菁化合物、其制造方法、中间体及其用途。通式(1)表示的酞菁系化合物。式(1)中,R表示烷基、芳基,X表示氢原子、卤素原子、烷基,可以彼此键合而形成芳香环。M表示两个氢原子、2价金属或者3价或4价的金属衍生物,n表示3~6的整数。

技术研发人员:高坂明宏;佐佐木浩之;熊谷洋二郎
受保护的技术使用者:山本化成株式会社
技术研发日:2018.04.06
技术公布日:2019.11.22
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